JPH06219868A - 固体表面の親水化方法 - Google Patents

固体表面の親水化方法

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JPH06219868A
JPH06219868A JP28035093A JP28035093A JPH06219868A JP H06219868 A JPH06219868 A JP H06219868A JP 28035093 A JP28035093 A JP 28035093A JP 28035093 A JP28035093 A JP 28035093A JP H06219868 A JPH06219868 A JP H06219868A
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ジークフリート・トウルム
Uwe Noreiks
ウベ・ノライクス
Peter Schwabe
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 気体炭化水素としてアレンを使用し、任意に
希ガスをも含有する酸素含有気体と気体炭化水素とより
なる気体混合物の電気的励起により低圧プラズマを発生
させ、これに固体表面を暴露する固体表面の親水化方
法。 【効果】 本発明記載のプラズマ処理を受けた固体表面
は水との間に極めて小さな接触角を有し、この効果は長
時間にわたって保持される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、酸素含有気体と気体炭化水素と
よりなる気体混合物の電気的励起により低圧プラズマを
発生させ、これに固体表面を暴露する固体表面の親水化
方法に基礎を置くものである。
【0002】本発明はさらに、本発明記載の方法に従っ
て得られる容易に湿潤し得る物体に関するものでもあ
る。この物体は、無機材料(たとえばガラス、金属、セ
ラミックス)から製造したものであっても有機材料(た
とえば重合体)から製造したものであってもよい。この
物体は透明であっても不透明であってもよい。
【0003】本発明記載の方法に従って製造した物体は
優れた湿潤性を有し、その結果として、たとえば高い相
対湿度を有する環境においても結露する傾向を示さな
い。この種の物体は、水での濡れに対して低い接触角を
有し、この性質を長期にわたって保持する。
【0004】ホー(C. P. Ho)およびヤスダ(H. Yasud
a)は、定期刊行物“重合体材料の科学技術(Polymeric
Materials Science and Engineering)”,(1985),
56巻,705 ページにメタンプラズマ中での処理を記載し
ている。
【0005】日本特許出願 JA 02 074 901 は、O2
2 または Ar のプラズマ中での透明物体の処理を記
載している。日本特許出願 JA 01 300 958 は、炭化
水素、ハロゲン化炭化水素、有機金属化合物および有機
シラン化合物の混合物中での眼内レンズの処理を記載し
ている。特許出願JA 62 239 105 は、2 種の有機気体
の混合物中での光学部品のプラズマ処理を記載してい
る。特許出願JA58 216 222 は、使用する工程気体が
最初は空気であり、ついで 1-ビニル-2-ピロリドンであ
るコンタクトレンズのプラズマ処理を記載している。
【0006】米国特許 3 925 178 は、工程気体として
の水蒸気を含有するプラズマ中でのコンタクトレンズの
処理を記載している。英国特許 2 174 397 は、シロキ
サン-アクリル酸エステル共重合体から製造したコンタ
クトレンズの工程気体として酸素または Ar を含有す
るプラズマ中での処理を記載している。
【0007】ドイツ特許 21 51 702 は、シリコーンゴ
ムから製造した物体の希ガスプラズマ中での処理を記載
している。ドイツ特許 27 48 568 は、使用する工程気
体がO2、N2 または NH3 であるプラズマ中でのシリ
コーンコンタクトレンズの処理を記載している。ドイツ
特許 28 41 128 は、工程気体として O2、N2、H2
たは H2O を含有するプラズマ中でレンズを処理する
重合体コンタクトレンズの製造を記載している。ドイツ
特許 23 53 495 は、酸素プラズマを用いるポリシロキ
サン弾性体の処理を記載している。
【0008】ヨーロッパ特許 0 152 256 は、酸素と少
なくとも 1 種の二重結合を有する気体との混合物とよ
りなる気体中でのプラズマ処理を受ける光学物体の製造
を記載している。この方法を実施し得る複数の気体が挙
げられているが、アレンおよびアセチレンは挙げられて
いない。
【0009】この方法に従って良好な湿潤性を与えられ
る適当な対象物体は、好ましくは透明物体、または、た
とえばガラスもしくは透明な無機化合物(たとえば石
英、コランダム等)よりなる、または透明な重合体(た
とえばポリスチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、
ポリカーボネート、ポリ-(メタクリル酸メチル)、エポ
キシ樹脂、シリコーンゴム等)よりなるものである。こ
れらの全ての材料は、これから製造される物体と同様に
公知である。
【0010】物体のプラズマ処理用の設備の設計は、文
献より公知であり、たとえばプラズマ化学の技術と応用
(Techniques and Application of Plasma Chemistr
y),ジョン・ワイリー・アンド・サンズ出版(Publish
ers John Wiley and Sons,NewYork(1974))中のベル
(A. T. Bell)の論文、“プラズマ化学の技術および経
済的展望(Engineering and Economic Aspect of Plasm
a Chemistry)”に記載されている。
【0011】プラズマ処理は通常は減圧で実施する。処
理中の圧力は 10-3 ミリバールないし 10 ミリバールで
あり、好ましい範囲は 1 × 10-2 ミリバールないし 1
ミリバールである。
【0012】表面の湿潤性用に一般的に使用される尺度
は水との接触角であり、接触角が小さいほど湿潤性が良
好である。
【0013】上記の諸方法は 14°以内の接触角を生
む。多くの場合、たとえば透明な表面を水蒸気による結
露から保護するためには、より小さい接触角も望まし
い。
【0014】したがって本発明の目標は、それを用いる
ことにより水に関して 14°以下の接触角を有する表
面、すなわち、改良された湿潤性を有する表面が得られ
る方法を提供することである。
【0015】この目標は、導入部において記述した方法
を基礎に置いて、気体炭化水素としてアレンを用いて達
成される。
【0016】アレンと酸素含有気体とに加えて、プラズ
マ気体混合物はまた、他の気体を含有していてもよい。
He、Ne、Ar、Kr または Xe よりなる系列から選択
した希ガスが好ましい。使用される酸素含有無機気体に
は O2、O3、N2O、NO2、CO、CO2、H2O 等が
含まれる。アレンの量の酸素含有気体に対する比率は10
ないし 0.001、好ましくは 5 ないし 0.05 である。
【0017】プラズマを励起させるためには、上記の気
体混合物に、たとえば電極に電圧を適用することによ
り、電気エネルギーを注入する。このためには、直流電
圧も無線周波数または可聴周波数の交流電圧も使用する
ことができる。無線周波数の交流電圧を使用するなら
ば、好ましい周波数範囲は 1 MHz ないし 10 GHz
である。プラズマ発生用の気体は電極の近傍において一
緒に、または個別に供給する。
【0018】この処理の工程継続時間は 10 秒ないし 1
0 時間、好ましくは 1 分ないし 1時間である。多くの
場合に、プラズマ処理をより効率的にするには基材の表
面を洗浄するのが有利であることが見いだされている。
【0019】この洗浄は有利には、好ましくはプラズマ
気体として Ar または酸素を使用するプラズマ中で行
う。この目的に使用する設備は、洗浄後に本発明記載の
方法を実施するものと同一の装置である。これに替え
て、他の適当な気体を使用することもできる。プラズマ
が作用している間に処理する対象物体をプラズマに対し
て移動させれば、特に回転させれば特に良好な均一性が
得られる。
【0020】以下の実施例において、以下のものを本発
明記載の方法に供した: A = バイエル社(Bayer AG)製のビスフェノール A
単独重合ポリカーボネート、マクロロン(Makrolon)2
443 から製造した板(40 mm × 70 mm) B = バイエル社製のシリコーンゴム B 500 から製造
した板 C = ポリスチレンから製造した板 D = 石英板 E = Al を蒸気沈着させたガラス板(Al 層を本発明
に従って処理してある)
【0021】
【実施例】
実施例1 上記の試料をプラズマ処理系内で回転し得る基材保持器
に固定する。ついで処理系室を気密の様式で封じ、1 ×
10-4ミリバールの圧力に脱気する。この圧力に達した
のちに、この室に Ar を 0.1 ミリバールの圧力にまで
導入し、基材保持器の回転可能な駆動部に入力して 20
rpm で回転させる。ついで、この予備処理した室内の電
極に 27.12 MHz の無線周波数の交流電圧を適用して
気体 Ar雰囲気に 70 W の量の電気エネルギーを注入
し、プラズマを発生させる。交流電圧を切った 5 分後
に Ar の供給を中止し、工程室を 1 × 10-4 ミリバー
ルに再脱気する。ついで、8 部の酸素と 4 部のアレン
との混合物を処理室に導入して 0.1 ミリバールの圧力
にする。
【0022】27.12 MHz の交流電圧を再度電極に適用
して 70 W の量の電気エネルギーをアレンと酸素とよ
りなる気体雰囲気に注入し、プラズマを発生させる。20
分後、交流電圧を切って処理室を脱気し、試料を取り
出す。
【0023】以下の表は、本発明記載の方法を実施する
前の試料の水に関する接触角を示す(参照試料)。
【0024】この表はさらに、実施例 1 で得た試料と
水との間の接触角をも示す。第 1 の数字は約 10 時間
後の接触角を示し、第 2 の数字は本発明記載の方法の
実施の50 日後の接触角を示す。全ての場合に、処理し
た試料の接触角が未処理試料のものより明らかに小さい
ことが、すなわち、本発明記載の方法に従う処理ののち
には、水が広がって、この処理を行っていない場合より
効率的に表面を濡らすことが見られる。さらに、この湿
潤性が長期にわたって維持されることも、この表から見
られる。
【0025】
【表1】 本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
【0026】1.使用する気体炭化水素がアレンである
ことを特徴とする、酸素含有気体と気体炭化水素とより
なる気体混合物の電気的励起により低圧プラズマを発生
させ、これに固体表面を暴露する固体表面の親水化方
法。
【0027】2.上記の気体混合物に付加的に希ガスを
も混合することを特徴とする上記1記載の方法。
【0028】3.使用する酸素含有気体が O2、N2O、
SO2、CO または H2O であることを特徴とする上
記1ないし2のいずれかに記載されている方法。
【0029】4.上記の固体表面を 10 秒ないし 10 時
間の間プラズマに暴露することを特徴とする上記1ない
し3のいずれかに記載されている方法。
【0030】5.上記の固体表面を 1 分ないし 60 分の
間プラズマに暴露することを特徴とする上記4記載の方
法。
【0031】6.上記の固体表面を上記のプラズマ処理
に先立ってアルゴンプラズマまたは酸素プラズマの作用
により洗浄することを特徴とする上記1ないし4のいず
れかに記載されている方法。
【0032】7.上記のプラズマの励起を 0 ないし 20
GHz の周波数の交流電圧により行うことを特徴とする
上記1ないし6のいずれかに記載されている方法。
【0033】8.アレンと酸素含有気体との間の混合比
が 10 ないし 0.001 であることを特徴とする上記1な
いし7のいずれかに記載されている方法。
【0034】9.アレンと酸素含有気体との間の混合比
が 5 ないし 0.05 であることを特徴とする上記8記載
の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ペーター・シユバーベ ドイツ連邦共和国デー51375レーフエルク ーゼン・ドウトバイラーシユトラーセ17

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 使用する気体炭化水素がアレンであるこ
    とを特徴とする、酸素含有気体と気体炭化水素とよりな
    る気体混合物の電気的励起により低圧プラズマを発生さ
    せ、これに固体表面を暴露する固体表面の親水化方法。
JP28035093A 1992-10-20 1993-10-14 固体表面の親水化方法 Pending JPH06219868A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924235300 DE4235300A1 (de) 1992-10-20 1992-10-20 Verfahren zur Hydrophilisierung von Festkörper-Oberflächen
DE4235300.9 1992-10-20

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JPH06219868A true JPH06219868A (ja) 1994-08-09

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