JPH06219513A - 搬送装置 - Google Patents

搬送装置

Info

Publication number
JPH06219513A
JPH06219513A JP5011354A JP1135493A JPH06219513A JP H06219513 A JPH06219513 A JP H06219513A JP 5011354 A JP5011354 A JP 5011354A JP 1135493 A JP1135493 A JP 1135493A JP H06219513 A JPH06219513 A JP H06219513A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arm
substrate
carrier
board holding
transferred
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5011354A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshifumi Nakakoji
佳史 中小路
Takeshi Naraki
剛 楢木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP5011354A priority Critical patent/JPH06219513A/ja
Publication of JPH06219513A publication Critical patent/JPH06219513A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板表面の静電気の帯電電位が高くとも、被
搬送物(基板)とアームとの間で放電の発生しない搬送
装置を得る。 【構成】 アーム3の基板保持部1a、1bとアーム本
体部1cとの間に、基板保持部1a、1bを電気的に浮
かせるための絶縁物2a、2bを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は例えば半導体ウェハや、
液晶表示用ガラス基板等の基板を処理する装置に用いる
に好適な搬送装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の搬送装置を図2(a)、
(b)に示す。図2(a)は平面図、図2(b)は側面
図であり、図2(b)において、キャリア5とアーム3
とを断面表示している。半導体ウェハや液晶用ガラス基
板などの被搬送物6は、キャリア5に等間隔に形成され
た載置台上に載置されている。被搬送物6をキャリア5
から基板処理装置10に搬送し、また基板処理装置10
で工程処理を終えた被搬送物6を基板処理装置10から
キャリア5に再び収納するために、キャリア5と基板処
理装置10との間に搬送装置3、9が設けられる。
【0003】キャリア5には上述のように等間隔に載置
台が形成され、被搬送物6がそれぞれの載置台の上に多
数載置されるのであるが、ある載置台とこの載置台に下
方にて隣接した載置台上の被搬送物との間に、上記ある
載置台上の被搬送物6の受取り、受渡し動作を行なうア
ーム3の基板保持部1a、1bが出入りできるように、
被搬送物6の厚さに応じて載置台の間隔及び基板保持部
1a、1bの厚さが設定されている。アーム3は基板保
持部1a、1bとアーム本体部1cとで構成され、所定
の水平面内でのみ移動するため、キャリア5内の全ての
被搬送物6に基板保持部1a、1bがアクセスできるよ
うに、例えばキャリア5を上下動させるために、キャリ
アを載置したキャリア昇降台8はベース7に対して上下
動作を行う。搬送移動部材9はベース7に対して矢印方
向に案内された案内部9a、案内部9aに対し回転自在
に設けられると共に、アーム3のガイドを有する本体部
9bとにより構成され、アーム3は、本体部9bのガイ
ドにより矢印方向に移動する。このような構成であるか
ら、アーム3を退避位置に移動させた後、搬送したい被
搬送物6を基板保持部1a、1bにより受取られる位置
にキャリア昇降台8がキャリア5の高さを位置決めし、
その後保持部1a、1bをキャリア5内に挿入し、被搬
送物6を保持部1a、1bに受取り、アーム3を本体部
9bのガイドに沿って退避させ(図2(b)の3’)、
ついで案内部9aに対して本体部9bを180度回転さ
せることによりアーム3を180度回転させた後、本体
部9bのガイドに沿ってアーム3を移動させ(図2
(b)の3'')、基板処理装置10に被搬送物6を受渡
す。
【0004】このような構成の搬送装置においては、ア
ーム3、搬送移動部材9及びベース7は、機械的強度及
び加工等の都合より金属で作られており、従って、アー
ム3は、装置構成上アースに落ちている構造であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
に於ては、被搬送物(基板)が、製造工程中に静電気を
帯電し、また帯電量が工程処理時間に対し減衰せずあま
り低下しない場合、帯電した被搬送物をキャリアに多数
並列して収納すると、最も上面の被搬送物上での電位は
累積されることが知られている。
【0006】また被搬送物の搬送で、被搬送物を取り出
したキャリアに工程処理後の被搬送物を戻す場合、工程
処理前の被搬送物へのゴミ等の付着の確率を減少させる
為、下の被搬送物より搬送を始めることが一般的であ
る。この様な状態の時、工程処理後の帯電した被搬送物
が下から滞り、キャリアに収納されたばかりの被搬送物
上での電位は累積で高くなっている。その状態の被搬送
物Iへ次に工程処理される被搬送物を取りにアームが進
入して来る場合、もしくは次に工程処理済の被搬送物を
キャリアに戻す為にアームが進入する場合においてアー
スのとれているアームと基板間の距離に依存した放電の
電位差の臨界値以上に累積の電位が達していると放電が
起こり被搬送物(基板)に塗布されていたレジストに欠
陥を作り、製品の歩留りを低下させる問題があった。そ
こで本発明は、基板表面の静電気の帯電電位が高くと
も、被搬送物(基板)とアームとの間で放電の発生しな
い搬送装置を供給することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決の為
に、本発明では、アームとアースされているベース部と
を両者の間のいずれかに絶縁物を介在させる等して絶縁
した。また、アーム自体を絶縁物で構成した。
【0008】
【作用】本発明においては半導体又は液晶表示装置の製
造工程で被搬送物に発生する帯電電位が放電の臨界値以
上になったとしても、アームは絶縁物などにより電気的
に浮いた状態になっており、静電気の帯電電位が高い被
搬送物に対し、アームは電位差を生じないため、被搬送
物とアームとの間に放電は起こらない。またアームとア
ースされているベース部とを絶縁する絶縁物の厚さを十
分大きくすることにより絶縁物を挟んでの放電を回避で
きる。
【0009】また、図2(a)、(b)とは構造が異な
り、2つのアームを用いることでスループットを上げた
搬送装置に本発明を適用した場合には、被搬送物一枚当
りの帯電量が高くても、被搬送物を搬送するアーム間で
放電現象が発生することはない。なお、この様な場合ア
ームのみならず、被搬送物に接触もしくは近接する物体
はすべて絶縁しておくことは言うまでもない。
【0010】また、アーム自体を絶縁物で構成すること
により、キャリアに並列に配設された基板の間にアーム
を挿入しても、アームの上、下にある基板とアームとの
間で放電が生ずることもない。
【0011】
【実施例】図1(a)、(b)は本発明の実施例であっ
て、従来の図2(a)、(b)に対応するものであり、
図2(a)、(b)と同じ部材には同符号を付す。アー
ム3は基板保持部1a、1b、絶縁部2a、2b、アー
ム本体部1cとで構成され、基板保持部1a、1bは絶
縁物2a、2bを介してアーム本体部1cと接続され、
基板保持部1a、1bは、電気的に隔離される。また、
搬送移動部材9の本体部9bには、アーム3をアースす
るための接点4a、4bが設けられている。図1
(a)、(b)において、以上述べた以外の構成は図2
(a)、(b)の従来例と同一である。すなわち、被搬
送物6は図2(a)、(b)で示した従来のキャリア5
と同じ構造のキャリア5の載置台の上に載置される。ア
ーム3の動きは従来と同一であり、アーム3はまず退避
位置から直動運動を行い、基板保持部1a、1bがキャ
リア5内に挿入される。その後、キャリア昇降台8の下
降動作により被搬送物6が基板保持部1a、1bに受け
渡される。アーム3は再び直動運動を行い、被搬送物6
を保持しつつ、キャリア5内から退避する(図1
(a)、(b)の3’)。
【0012】アーム3を直線移動自在に保持する搬送移
動部材9はアーム3の直線移動ガイドを有する本体部9
bが案内部9aに対して回転すると共に、案内部9aが
ベース7に案内されて直線運動を行い、基板処理装置1
0へ被搬送物6を搬送する。また、基板処理装置10で
処理後の被搬送物6は上記と逆の順序でキャリア5内に
収納される。
【0013】アーム部1a、1bと被搬送物6との受け
渡し時の接触等により電気的に隔離された基板保持部1
a、1bが帯電し、減衰が間に合わず電荷がアームに蓄
積されたとしても、基板保持部1a、1bがキャリア5
から十分に離れた位置、すなわち、アーム3が本体部9
bのガイドに沿って図1の3’の位置(基板保持部1
a、1bの退避位置)まで移動すると、基板保持部1
a、1bが搬送移動部材9に設けたアース接点4a、4
bに接触するので、アーム部の静電気帯電量が蓄積する
ことはない。
【0014】以上の説明では、アーム3の基板保持部1
a、1bとアーム本体部1cとを絶縁物2a、2bを介
して結合することにより、基板保持部1a、1bを電気
的に浮かせた状態にしていた。しかしながら、アーム3
と搬送移動部材9とを電気的に絶縁したりしても良く、
要は、最終的に基板保持部1a、1bが電気的に浮いた
状態であれば良い。但し、装置全体から見た場合には、
内蔵された各種制御回路への外部ノイズ防止のために
は、基本的に装置はアースに落ちていた方が好ましいか
ら、被搬送物と基板保持部1a、1bとの間の放電防止
のためには、実施例のように被搬送物を載置する必要最
少限の部分のみが電気的に浮いていることが好ましい。
また、アーム3の基板保持部1a、1bもしくはアーム
3自体を絶縁物で構成しても良いことは当然である。
【0015】なお、帯電した被搬送物を載置することに
より基板保持部1a、1bとアーム本体部1cとの間で
生ずる可能性のある放電を防止するために絶縁物2a、
2bの形状、厚さ、材質等が考慮されることは当然のこ
とである。さらに、以上の実施例では、キャリア内に並
設された被搬送物をアームにより取り出す場合を例に上
げたが、被搬送物はキャリアを用いずに一つづつ例えば
手動にてアーム上に載置される場合であっても本発明を
適用することができる。
【0016】また、アームの構成としては、被搬送物を
単に載置するだけのもの、被搬送物を載置して真空吸着
するもの、被搬送物を挟み込んで運搬するもの等種々の
ものを考えることができる。要は被搬送物を保持するも
のであればアームの構成は、何んでも構わない。
【0017】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、被搬送物の
帯電電位が放電現象を引き起こす臨界値以上に上昇して
も、キャリア内でアームと、被搬送物の間に起こる放電
現象が防止できる。また被搬送物が単独で、臨界値以上
の電位差に帯電している場合にも、アームと被搬送物の
間に起こる放電現象が防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1(a)、(b)】本発明による装置の実施例を示
す図である。
【図2】従来の搬送装置の1例を示す図である。
【符号の説明】
1a、1b 基板保持部 1c アーム本体部 2a、2b 絶縁物 3 アーム 3’、3'' アームの移動による典型的な位置 4a、4b アース接点 5 キャリア 6 被搬送物 7 ベース 8 キャリア昇降台 9 搬送移動部材 9a 案内部 9b 本体部 10 基板処理装置

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェハや液晶表示用ガラス基板等
    の基板をアームの基板保持部で保持し、前記アームを移
    動させることにより前記基板を搬送する搬送装置におい
    て、 少なくとも前記基板の保持部を電気的に浮かせるための
    絶縁物を設けたことを特徴とする搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記アームを基板保持部とアーム本体と
    で構成し、前記絶縁物を前記基板保持部とアーム本体と
    の間に設けたことを特徴とする請求項1に記載の搬送装
    置。
  3. 【請求項3】 前記基板保持部を静電容量の小さな材料
    で構成したことを特徴とする請求項2に記載の搬送装
    置。
  4. 【請求項4】 半導体ウェハや液晶表示用ガラス基板等
    の基板をアームの基板保持部で保持し、前記アームを移
    動させることにより前記基板を搬送する搬送装置におい
    て、 前記アームを絶縁物で構成したことを特徴とする搬送装
    置。
JP5011354A 1993-01-27 1993-01-27 搬送装置 Pending JPH06219513A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5011354A JPH06219513A (ja) 1993-01-27 1993-01-27 搬送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5011354A JPH06219513A (ja) 1993-01-27 1993-01-27 搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06219513A true JPH06219513A (ja) 1994-08-09

Family

ID=11775701

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5011354A Pending JPH06219513A (ja) 1993-01-27 1993-01-27 搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06219513A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6066210A (en) * 1995-08-05 2000-05-23 Kokusai Electric Co., Ltd. Substrate processing apparatus with a processing chamber, transfer chamber, intermediate holding chamber, and an atmospheric pressure section
JP2013528320A (ja) * 2010-05-26 2013-07-08 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 静電放電(esd)の低減のための装置及び方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6066210A (en) * 1995-08-05 2000-05-23 Kokusai Electric Co., Ltd. Substrate processing apparatus with a processing chamber, transfer chamber, intermediate holding chamber, and an atmospheric pressure section
US6143083A (en) * 1995-08-05 2000-11-07 Kokusai Electric Co., Ltd. Substrate transferring mechanism
KR100310249B1 (ko) * 1995-08-05 2001-12-17 엔도 마코토 기판처리장치
JP2013528320A (ja) * 2010-05-26 2013-07-08 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 静電放電(esd)の低減のための装置及び方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2581066B2 (ja) ウエ−ハ搬送方法及び装置
US8016114B2 (en) Reduction of electric-field-induced damage in field-sensitive articles
US4962441A (en) Isolated electrostatic wafer blade clamp
KR20040099319A (ko) 기판 반송 장치
KR100630895B1 (ko) 기류반송장치
KR100847347B1 (ko) 기판용 위치결정 테이블, 기판용 위치결정 설비, 기판의위치결정 방법
KR20010042421A (ko) 얼라인먼트 처리기구 및 그것을 사용한 반도체 처리장치
JPH11130255A (ja) 基板搬送移載装置
US20130087531A1 (en) Inductive/capacitive hybrid plasma source and system with such chamber
JP2004299814A (ja) 除電された絶縁体基板の製造方法及び製造装置
JP4545625B2 (ja) 基板用位置決めテーブル、基板用位置決め設備、基板の位置決め方法
JPH06219513A (ja) 搬送装置
TW200414294A (en) Apparatus for removing particles
US5211795A (en) Plasma etching apparatus and transporting device used in the same
KR102462916B1 (ko) 기판 반출입 장치, 기판 처리 장치 및 기판 반송 용기의 제전 방법
JP3468430B2 (ja) 位置検出案内装置、位置検出案内方法及び真空処理装置
JP2002019959A (ja) 基板移載装置
CN110416137B (zh) 用于半导体工艺的基板传送机构及成膜系统
JP4746167B2 (ja) 基板搬出入方法
JPH08264619A (ja) 搬送装置及びこの搬送装置を有する検査装置
JP2001326272A (ja) 基板搬送用トレー
JP3894071B2 (ja) 板状部材の除電方法及び荷受け装置並びに荷取り装置
JPH03273606A (ja) 半導体製造装置
JP4474672B2 (ja) 基板移載装置
JP2003051523A (ja) パーティクル除去システム