JPH06218279A - 異なった表面化学領域を有する管およびその方法 - Google Patents

異なった表面化学領域を有する管およびその方法

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JPH06218279A
JPH06218279A JP5248246A JP24824693A JPH06218279A JP H06218279 A JPH06218279 A JP H06218279A JP 5248246 A JP5248246 A JP 5248246A JP 24824693 A JP24824693 A JP 24824693A JP H06218279 A JPH06218279 A JP H06218279A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 製品の表面の一部の化学性を変性する方法に
おいて、該表面をプラズマ室において電極に隣接して配
置し、その際室壁までの距離を電極寸法の少なくとも5
倍とする。電極の周囲の放電容積に非常に高電力密度の
プラズマが発生するので、電極に最も近い表面区域が非
常に強いプラズマを受け、これは放電容積から離れるに
つれて減少し、したがって製品表面に化学性の勾配が形
成される。 【効果】 本発明方法で得られる製品は、製品表面に異
なった化学性を所望の勾配形状で形成することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医療用装置に関し、特
に該装置表面の特定領域の化学的性質を修飾する方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】血液サンプルは、たとえばガラス管バキ
ュテイナーTM(VACUTAINER)(ベクトンディキンソン ア
ンド カンパニー(Becton Dickinson and Company) )
のような排気された管に採集されるのが普通である。両
頭式針の一端を患者の静脈へ挿入する。次いで針の他端
をバキュテイナーTM管の開放端部を被覆する隔壁へ穿刺
し、管を減圧にすることにより針を介して管へ血液サン
プルを引き込む。この技術を用いると、複数のサンプル
を皮膚の一本の針穿刺で行うことができる。
【0003】プラスチック管もまた採血のために提案さ
れている。プラスチックは多数の利点たとえばガラス管
より低い破損率、輸送時の重量軽減および焼却による廃
棄容易性をもたらす。
【0004】サンプルを採集する間、血液は採血管の内
表面と接触することになる。血液−表面相互作用の性質
は複雑である。たとえば、血液凝集カスケードは血液と
湿潤性ガラス表面との接触により活性化され、形成され
た凝血物(クロット)はガラスに付着せず、遠心分離に
より血液血漿から凝血物を分離するのが容易になる。し
かしながら、凝血物は非付着性であるため、取扱いまた
は輸送の間、これが血漿層へ一部または全部再懸濁す
る。すなわち、ガラス管においては、血清から凝血物の
分離を容易にする同じ表面特性も管中で凝血物が自由に
動くことを可能にするものである。
【0005】プラスチック管は一般に非湿潤性表面であ
り、凝集過程を効果的に活性化はしない。これらの管に
形成される凝血物はガラスにおけるものと比較して完全
にゼラチン状である。これらのゼラチン状凝血物はプラ
スチック表面にしっかりと付着し、そして通常の血液学
的遠心分離で凝血物から血清を完全に分離することがで
きない。しかしながら、付着凝血物は通常の取扱い手法
により簡単には分離されない。すなわち、プラスチック
表面は凝血物から血清を完全には分離しないが、凝血物
のプラスチック表面への付着およびその機械的安定性は
ガラス管では手に入らない肯定的な特徴である。
【0006】すなわち、血清分離のための理想的採血管
は、ガラス様およびプラスチック様の両方の表面活性を
示すものであろう。本明細書において、用語 ガラス
様”とは、水性液により実質的に湿潤性であり、凝血物
形成を開始し、そして形成された凝血物に非付着性であ
る表面を記載するのに使用される。用語 プラスチック
様”とは、水性液により実質的に非湿潤性であり、凝血
物形成をいずれの程度にも開始せず、しかし凝血物に対
し強く付着する表面を記載するのに使用される。
【0007】様々な方法がガラスおよびプラスチック表
面を変性するのに提案されている。一つの方法におい
て、プラスチック表面に洗浄剤を塗布してこれらをより
ガラス様とする。この提案は血清を汚染する可溶性外部
物質を加えるという欠点を有し、次の血液分析を妨害す
るかもしれない。別の提案は、表面の親水性または疎水
性にいずれかを変性するために表面をガスプラズマで処
理することである。これらの提案では、管の内側表面全
部を実質的に変性してガラス様およびプラスチック様表
面を変換する。
【0008】ポリジメチルシロキサンフィルムにおける
疎水性勾配の形成がゴランダー(Golander)らにより Bio
materials 11,32 (1990)に示されている。このフィルム
表面は、プラズマと重合表面のあいだに移動可能に位置
するカバーにより調節される様々な時間、平面ダイオー
ドシステムで発生する酸素プラズマに曝される。
【0009】湿潤性勾配は、エルウィング(Elwing) ら
によりAdvances in Colloid and Interface Science, 3
2,317 (1990)にシリコン板状に形成される。この勾配は
ジクロロジメチルシランを用いて拡散により起きるシリ
ル化により形成される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】採血技術において、凝
血物形成を促進し、血清から凝血物の完全分離を可能に
し、そして形成された凝血物の付着を強めて凝血物と血
清との機械的再混合を最小限にする管が必要である。
【0011】
【課題を解決するための手段】製品表面の化学的性質を
変性する方法は、変性すべき表面をプラズマ室における
電極に隣接して配置し、電極からこの室の壁までの距離
を最大電極寸法の少なくとも5倍にすることを含む。室
は排気され、加工ガスを減圧下に導入する。高強度の高
周波(RF)電力を電極へ与えて、ガスをイオン化しプ
ラズマを形成する。電力は強く、電極は小さく、壁まで
の距離は電極サイズに比べて大きいので、プラズマは電
極近くの制限された容積に形成され、以後これを放電容
積という。これにより比較的高電力密度が達成される。
本記載において、用語 電力密度”とは、プラズマに伝
わる正味電力と放電容積の関係を定義し、電力/単位放
電容積として表される。
【0012】プラズマは電極から距離が延びるにつれて
強度を低下しながら製品の表面の化学的性質を代える。
勾配を明確にすることができ、一つの化学的性質の第一
の表面区域に続いて第二の別の化学的性質の表面区域を
与える。これに代わり、最も変性した表面区域からの未
変化表面区域への漠然とした勾配を達成することができ
る。
【0013】本発明の別の態様は、本発明方法で変性さ
れた表面を有する製品、たとえばフィルム、ディスク、
フラスコ、バイアル、皿またはビンである。方法は好ま
しくは一端を閉じた製品、最も好ましくは管である。
【0014】本発明は、製品の開放端部または閉端部の
いずれかに対して、最も強く処理されるべき製品の端部
を放電容積に隣接して置くことにより行われる。製品の
口部を最も強く処理すべきものである本発明の実施態様
に対しては、製品は好ましくはプラスチックであり、加
工ガスは親水性ガスである。管の閉端部が最も強く処理
すべきものである本発明の実施態様に対しては、製品は
好ましくはガラスであり、加工ガスは疎水性である。本
開示において、親水性ガスは表面をよりガラスようにす
るものであり、疎水性ガスは、表面をよりプラスチック
様にするものであり、その際ガラス様およびプラスチッ
ク様表面はそれぞれ実質的に湿潤性および実質的に非湿
潤性である。
【0015】製品の閉端部が最も強いプラズマを受ける
場合、本発明の方法は好ましくは、誘電体に電極と製品
を包み製品の内側に放電制限素子を配置することを含
む。
【0016】すなわち、本発明は大量生産に利用可能な
通常のプラズマ発生装置を用いて、簡単で迅速な方法に
より勾配表面を提供するものである。化学勾配は、プラ
ズマパラメーターおよび電極と室壁に対するサンプル配
置の賢明な選択によって、明確または曖昧であるように
操作される。この方法は、特に口部近くにガラス様表面
を有し凝血物が付着することなく凝血順序を増強しそし
て閉端部近くの区域にプラスチック様表面を有し遠心分
離の間に管の底に凝血物が付着することを高めるような
採血管を提供するのに価値がある。
【0017】次に、本発明を図面を用いて説明する。
【0018】図1は、本発明の代表的プラズマ処理装置
の斜視図である。
【0019】図2および図3は、線2−2に沿った図1
の垂直断面図であり、それぞれ上から下までの管処理を
示す。
【0020】図4〜図6は、本発明方法によるプラスチ
ック管のプラズマ処理から得られる勾配を示すグラフで
ある。
【0021】図7は、本発明方法によるガラス管のプラ
ズマ処理から得られる勾配を示すグラフである。
【0022】本発明は多くの異なった形の実施態様によ
り満足されるとはいえ、ここでは本発明の好ましい実施
態様を詳細に記載するものであり、本記載は本発明の原
則の例示と考えるべきであり記載し例示した実施態様に
本発明を限定することを意図するものではないことは理
解されるであろう。本発明の範囲は添付の特許請求の範
囲およびその等価物により測られるものである。
【0023】本発明によれば、勾配表面は変性すべき表
面に隣接して強度の局限化したガスプラズマを形成する
ことにより達成される。本発明は様々なガラスまたはプ
ラスチック製品、たとえばフィルム、プレート、フラス
コ、ビン、バイアルおよび皿上に勾配表面を形成するこ
とを意図する。好ましくは製品形態は一つの閉端部を有
する管、最も好ましくはプラスチック管である。本発明
は管について詳細に記載するが、他のいずれの製品でも
その表面が局限化したプラズマに隣接して配置されうる
場合、処理することができることは理解されるであろ
う。
【0024】管を開放端部の上部で隔壁と組み合わせ、
排気してもよい。採血用の排気された管は当該技術で標
準であり、たとえばバキュテイナーTM銘柄の管(ベクト
ンディキンソン アンド カンパニー)のようなものが
である。
【0025】管がガラスの場合、プラスチック用表面勾
配を管の内壁の一部へ導入することが好ましい。
【0026】通常のプラズマ発生システムは、当該技術
で公知の四つの一般型、すなわち平面ダイオードシステ
ム、バレルプラズマ反応システム、外部容積結合システ
ムおよび電磁結合システムの一つに当てはまる。各タイ
プのプラズマ発生装置は市販されており、活性種は迅速
に拡散してイオン化し励起した種で減圧室内部の容積の
全てを実質的に満たす。すなわち、通常のプラズマシス
テムにおいて、放電容積(活性種で占められる容積)お
よび室容積はほぼ等しい。材料の均一な表面変性は、そ
の材料が室に置かれている場所に無関係に生じる。
【0027】表面変性に使用される通常の均一プラズマ
は、広い範囲にわたって変化するプラズマパラメーター
を用いて形成される。すなわち、電力、高周波(R
F)、暴露期間、温度、ガス圧およびガス流速に対する
通常の範囲は、RF約0.05〜50メガヘルツで約1
0〜1000ワット、0.001〜1時間、0〜200
℃、0.1〜10トルおよび1〜200cm3/分である。
これらの範囲内で通常のプラズマ室および電極を用いて
操作すると、放電容積1cm3 あたり約0.001〜0.
1ワットの電力密度である。
【0028】本発明によれば、ガス圧、RF電力レベ
ル、電極寸法および室壁までの距離の特定の組み合わせ
内で操作することにより、強いプラズマを活性電極の周
囲の放電容積に局限化することができる。
【0029】ガス圧は、約0.5〜20,好ましくは約
1〜10,最も好ましくは約2〜5トルである。RF電
力は周波数約1〜50,好ましくは約5〜30メガヘル
ツで約5〜100,好ましくは約10〜50ワットであ
る。RF電力は、表面積約0.001〜1.0cm2 最も
好ましくは寸法約1cm以下のパッド、ロッドまたは好ま
しくは針金形状の活性電極へ施される。上記プラズマパ
ラメーターにより電力密度は約1〜50ワット/cm3
なる。
【0030】ここにおいて、表面変性勾配が室壁までの
距離と比較して寸法が小さい活性電極の周りにプラズマ
を局限化することにより達成されうることがわかった。
すなわち、最大電極寸法と室壁までの距離の比は、約
1:5〜1:100,好ましくは約1:10〜1:20
である。。これらの制限値に入る電極寸法と室壁までの
距離との比および前記電力密度を用いると、当業者であ
れば、電極周囲に強いプラズマをもたらし最大電極寸法
の約10倍、好ましくは約2倍までが放電容積区域とな
るようにガス圧とRF電力を設定することは容易であろ
う。
【0031】表面勾配を作るのに好適なプラズマ発生シ
ステムについての上記の検討を、図面を用いてさらに記
載する。
【0032】図1は、本発明の代表的プラズマ発生器1
0を示す。円筒形状缶12は側壁14、上面壁16およ
び底面壁18を有する。ガス入口20、出口22および
圧力ゲージ24は側壁14から外側に延びている。側壁
14はハンドル27を備えたドア26を有し、缶12の
内部への入口とし、そして同軸ケーブル28がRF電力
の外部発生源(図示せず)と接続している。
【0033】図2は、製品の内壁表面上にプラズマ勾配
を形成するのに好適なプラズマ発生システム10を示
す。図2において、内部プラズマ室30はそれぞれ缶の
側壁、上面壁および底面壁14、16、18で画成され
ている。同軸ケーブル28は、RF電力発生源(図示せ
ず)とパッドとして図2に示した電極32と接続してい
る。好ましくは、ケーブル28は絶縁シールド33で被
覆されており、これはいずれの大きさでもよいが好まし
くは直径約2cmである。電極の最大寸法は寸法aとして
示され、室側壁14までの距離は寸法bとして示され、
その際bはaより少なくとも5倍の大きさである。室3
0は適切な圧力で加工ガスを含み、そしてRF電力を流
すと、プラズマ放電34が形成され、電極32の周囲に
局限化される。図2の暴露(非シールド)電極では、好
ましい電力密度約1〜10ワット/ccが使用される。放
電の形状は電極の形状と類似するとはいえ、本発明で意
図する小さな電極の場合、これは実質的に球形である。
放電34の区域は寸法cにより示され、約2〜25mm、
好ましくは約4〜15mmである。プラズマ放電34は、
図では明確な境界を有することが示されているが、実際
には電極からの距離が増えるにつれて、強度は低下する
曖昧な境界を有する。
【0034】表面変性されるべき製品、たとえば管36
またはフィルム37は、両方とも長さd1 の壁表面38
を有するが、これを電極32から距離d2 で放電34と
隣接してまたは丁度内側もしくは外側に置く。距離d2
は距離cの値の約0/1〜2.0倍である。長さd1
距離cに対する比は約2〜20であり、好ましくは約3
〜10である。放電34の曖昧な境界のために、プラズ
マおよびこれによる表面38の変性は距離d2 が増える
につれて低下する。
【0035】本発明の別の実施態様において、勾配は管
の閉端部の内壁表面へほどこしてもよい。本発明のこの
実施態様に対して、好適なプラズマは図3に示したシス
テムで発生されうる。(図3において、相当する構成要
素は図2と同一の参照番号に下付文字を備えたものであ
る。)図3において、同軸ケーブル28aは、ワイヤー
として示されている活性電極32aに接続される。管3
6aは誘電体42のブロックの外側に機械処理をされた
くぼみ40にしっかり嵌着し、電極32aに隣接し好ま
しくは接触して設けられている。ケーブル28aおよび
電極32aはまた誘電体シールド42で囲まれ、こりに
より管外部のプラズマ形成のための電力消散を防止す
る。好ましくは、いずれかの導電性材料の放電制限素子
44を管36aの内側に位置させ管内側の帯電した種の
拡散を制限し、これにより勾配の長さを調節する助けと
する。図3において、電極チップと放電制限素子44の
頂部との距離は距離eである。たとえば、管底部近くに
勾配を作ることを望む場合、素子44は管底部から約1
cmのところに置く。
【0036】室が所望の圧力で加工ガスを含みそして電
力を活性電極32aへ施すと、強いプラズマが管のその
閉端部に表れる。帯電した種は、活性粒子のエネルギー
の一部を吸収しそして勾配の長さを制限する素子44に
到達するまでエネルギーを減少させながら管を下る。素
子44は管のいずれの場所に置いてもよく、そして管表
面の処理と未処理部分の間に明確なまたは曖昧な範囲を
有する勾配を作るようにプラズマを集中するために異な
った形状を有していてよい。すなわち、素子44は針状
ワイヤーから管内径と大きさがほぼ等しい円筒形状また
は円錐形状のロッドまで変化することができ、所望のい
ずれのチップ形状を有してもよい。図3に示すように、
素子44は好ましくは金属缶の壁に直接ショートする。
【0037】図3に示すようにシールドした電極を用い
て勾配を施す場合、電力密度5〜50ワット/cm3 を用
いることが好ましい。
【0038】金属缶、減圧製造システム、ガス導入口、
排出口および圧力調節器を含むプラズマ発生システム、
高周波発生器およびインピーダンス変換ネットワーク
は、当該技術で一般的である。
【0039】本発明のプラスチック管は、いずれかの適
切なポリマー、たとえばポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレ
タン、アクリル酸およびポリテトラルオロエチレン、好
ましくはポリチレン(PS)である。
【0040】本発明の管はいずれかの形状、好ましくは
円筒形状であり、長さ約25〜250、好ましくは約5
0〜100mm、直径8〜20mmである。プラズマ放電は
パルス化可聴周波数であるか、または好ましくはRF放
電である。最も好ましくは、RF電力が交互にオン−オ
フする不連続RFグロー放電を使用する。
【0041】ここで管のプラズマ処理についての装置お
よび条件を記載してきたが、前記の製品形状のいずれも
管に代え表面勾配を受けることができることは当業者で
あれば明らかであろう。
【0042】本発明のプラズマ発生のために選択される
加工ガスは、所望する表面化学性に従う。プラスチック
用勾配表面の導入を望む場合、好適なプラズマガスはフ
ッ素、水素、ヘキサフルオロエタン、クロロフルオロカ
ーボンおよび炭化水素たとえばメタン、ヘキサンであ
る。しかしながら、ほとんどの重合性表面はそもそも最
初はプラスチック様であるので、本発明のより好ましい
実施態様は、活性電極からの距離が増えるにつれて低下
するガラス様勾配表面をプラスチック管へ導入すること
である。ガラス様表面を付与するために、好適なプラズ
マガスは、アンモニア、二酸化硫黄、二酸化炭素、空
気、および好ましくは酸素である。本発明の好ましい実
施態様は、図2にしたがって管の口部で発生する酸素プ
ラズマによりその表面が口部でほとんどガラス様になる
ように変性されたPS管である。しかしながら、図3に
示したように、プラズマは管の底部を介して発生しその
表面を管底でほとんどガラス様にすることもできる。
【0043】プラズマ処理の長さは、約5〜100秒で
よく、連続してまたは好ましくは不連続的に施される。
プラズマを断続的フィールド放出により発生させると、
プラスチックの熱蓄積および起こりうる熱損傷を避ける
ことができる。
【0044】活性電極および放電制限素子はいずれかの
導電性材料から作られ、好ましくは銅、ステンレススチ
ールまたはアルミニウムである。誘電体は、管の外側で
ガスのいずれの実質的イオン化をも防止するいずれかの
厚さのガラスまたは高分子量ポリエチレンである。
【0045】本発明方法で製造された勾配表面のガラス
様またはプラスチック様の性質は、通常の湿潤性および
表面炭素−酸素比により決定される。湿潤性は、当業者
によく知られた標準的方法により、水または食塩水の傾
斜接触角度として表される。酸素−炭素比は、勾配表面
に沿った様々な地点で通常のESCA分析により決定さ
れる。図4−図6は、本発明方法により酸素プラズマで
処理されたPET管に対する湿潤性およびESCAデー
タを示す。
【0046】図4の曲線AおよびBはPET管の底部か
らの距離に対する接触角度のプロットであり、それぞれ
円錐形状(曲線A)および円筒形状(曲線B)放電制限
素子を用いた勾配形状における変化を示す。曲線Aは曖
昧な勾配を示し、曲線Bは明確な勾配を示し、それぞれ
表の実験5および6に相当する。
【0047】図5は、ESCA分析により測定されたそ
れぞれ酸素圧1.0トル(曲線A)および3.0トル
(曲線B)を用いたPET管の勾配形状におけるワイヤ
ー状放電制限素子の効果を示す。曲線Cは未処理対照管
である。図6は接触角度測定により図5と同じ効果を示
す。図5および図6はそれぞれ表の実験7および8に相
当する。
【0048】図7は表の実験11から得られる勾配を示
す。この実験において、100mmガラス管による16は
0.32cmワイヤー放電制限素子を用いて、30秒ヘキ
サンプラズマを受けさせ、勾配は管底からの距離の増加
時における接触角度を測定することにより決定された。
ガラス様表面特性が管底から約2cmのところから始まり
次第に増加するのが見られた。
【0049】表1および表2は本発明のプラズマ方法に
より製品へ導入された代表的表面勾配の実験的詳細を提
供するものである。表1は使用する装置を記載し表2は
プラズマパラメーターおよび表面勾配の結果を示す。
【0050】
【表1】 表 1 実施例 製品 システム 放電制限 寸 法(cm) (図) 素子 a b d12 e 1 PS 管 2 1.4 15 7.5 7.5 2 2 PS 管 3 ワイヤー 3.2 3 PS フィルム 2 1 15 10 10 4 PS フィルム 2 1 15 10 10 5 PET管 3 円錐形状 2 6 PET管 3 円筒形状 2 7 PET管 3 ワイヤー 2 8 PET管 3 ワイヤー 2 9 PS 管 2 1.4 15 7.5 7.5 10 ガラス管 2 1.4 15 10 10 11 ガラス管 3 ワイヤー 2
【表2】 表 2 実施例 ガス/圧 時 間 電力密度 勾 配 範 囲 (トル) (秒) (ワット/cc) (電極からのcm) 1 酸素/3 35 〜2 2〜6 2 酸素/3 35 〜10 4〜7.5 3 酸素/1 10 〜4 5〜10 4 酸素/3 10 〜4 2.5〜10 5 酸素/3 10 〜10 図4 6 酸素/3 10 〜10 図4 7 酸素/1 10 〜10 図5,図6 8 酸素/3 10 〜10 図5,図6 9 SO2 /1.2 30 〜2 2.3〜8.5 10 ヘキサン/0.5 60 〜5 2〜6 11 ヘキサン/0.9 30 〜5 図7
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の代表的プラズマ処理装置を表す斜視図
である。
【図2】本発明の代表的プラズマ処理装置の一例を示す
断面図である。
【図3】本発明の代表的プラズマ処理装置の別の例を示
す断面図である。
【図4】実施例5および6で得られたPET管における
管底からの距離と接触角度との関係を示すグラフであ
る。
【図5】実施例7および8で得られたPET管における
管底からの距離と酸素−炭素比との関係を示すグラフで
ある。
【図6】実施例7および8で得られたPET管における
管底からの距離と接触角度との関係を示すグラフであ
る。
【図7】実施例11で得られたガラス管における管底か
らの距離と接触角度との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
10 プラズマ発生システム 12 円筒形状缶 14 側壁 16 上面壁 18 底面壁 28 同軸ケーブル 30 プラズマ室 34 プラズマ放電 44 放電制限素子
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年11月24日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0047
【補正方法】変更
【補正内容】
【0047】図5は、ESCA分析により測定されたそ
れぞれ酸素圧1.0トル(曲線A)および3.0トル
(曲線B)を用いたPET管の勾配形状におけるワイヤ
ー状放電制限因子の効果を示す。図6は、接触角度測定
により図5と同じ効果を示す。図5および図6はそれぞ
れ表の実験7および8に相当する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アーウィン・エイ・ヴォグラー アメリカ合衆国ノース・カロライナ州 27562,ニューヒル,ビーヴァー・クリー ク・ロード,ルート 1,ボックス 120

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】a)加工ガスを含むプラズマ室において表
    面を有する製品を電極に隣接して配置し、最大電極寸法
    と室壁に対する最短距離との比を1:5以下とし、そし
    て b)前記電極へ高周波電力を伝え、これにより前記電極
    周囲の放電容積のガスをイオン化して前記製品表面の一
    部を変性するプラズマを与える、ことからなる製品表面
    の一部を変性する方法。
  2. 【請求項2】a)プラズマ室において表面を有する製品
    を電極に隣接して配置し、最大電極寸法と室壁に対する
    最短距離との比を1:5とし、 b)前記室の内部を排気し、 c)排気した室へ加工ガスを出し、そして d)前記電極へ高周波電力を伝え、これにより前記電極
    周囲の放電容積にガスをイオン化してガラス様の第一の
    面とプラスチック様の第二の面との間に勾配を有するよ
    うに前記表面を変性するプラズマを与える、ことからな
    る製品表面を変性する方法。
  3. 【請求項3】 前記製品がプラスチックである請求項2
    記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記加工ガスが親水性ガスである請求項
    3記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記製品がガラスである請求項2記載の
    方法。
  6. 【請求項6】 前記加工ガスが疎水性ガスである請求項
    5記載の方法。
  7. 【請求項7】a)プラズマ室において一つの閉端部と内
    壁表面を有するプラスチック管の開放端部を電極に隣接
    して配置し、最大電極寸法と室壁に対する最短距離との
    比を1:5以下とし、 b)前記室の内部を排気し、 c)排気した室へ酸素を出し、そして d)前記電極へ高周波電力を伝え、これにより前記電極
    周囲の放電容積にプラズマを発生させ、前記プラズマが
    前記開放端部でガラス様となりそして前記開放端部から
    前記内壁表面に沿って距離を延ばすにつれてガラス様の
    性質を低下させる勾配を含むように前記内壁表面を変性
    する方法。
  8. 【請求項8】a)プラズマ室において一つの開放端部と
    内壁表面を有するガラス管の閉端部を電極に隣接して配
    置し、最大電極寸法と室壁に対する最短距離との比を
    1:5以下とし、前記管と電極を誘電体に包み、 b)前記開放端部へ放電制限素子を挿入し、 c)前記室の内部を排気し d)排気した室へヘキサンを出し、そして e)前記電極へ高周波電力を伝え、これにより前記電極
    周囲の放電容積にプラズマを発生させ、前記プラズマが
    前記内壁表面を前記閉端部でプラスチック様としそして
    前記閉端部から距離を延ばすにしたがってプラスチック
    様の性質を低下させる勾配を含むように変性する方法。
  9. 【請求項9】 開放端部、閉端部、側壁および底壁から
    なり、前記側壁および底壁は内壁表面を画成し、前記内
    壁表面は第一、第二および第三の表面化学領域を有し、
    前記第一の表面領域は実質的にガラス様であり、前記第
    二の表面領域は実質的にプラスチック様であり、前記第
    三の表面領域は前記第一の領域から前記第二の領域に延
    びてガラス様からプラスチック様へ次第に変化するもの
    である管。
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