JPH0621784U - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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JPH0621784U
JPH0621784U JP6626692U JP6626692U JPH0621784U JP H0621784 U JPH0621784 U JP H0621784U JP 6626692 U JP6626692 U JP 6626692U JP 6626692 U JP6626692 U JP 6626692U JP H0621784 U JPH0621784 U JP H0621784U
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cleaning
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JP6626692U
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Inventor
順一 山代
Original Assignee
株式会社三井ハイテック
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄装置からフロン等の揮発性洗浄液が気化
して大気中に放散される量を飛躍的に抑制した洗浄装置
を提供する。 【構成】 洗浄装置10は、超音波洗浄部12、浸漬洗
浄部13、蒸気洗浄部を備えるフロン等の揮発性洗浄液
を用いた洗浄槽11の内壁に気化した前記揮発性洗浄液
を液化する冷却手段16、17が設けられた洗浄装置1
0において、前記洗浄槽11から気化した前記洗浄液を
前記冷却手段16、17に吹き付ける送風機18を備え
ている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、フロン等の揮発性洗浄液の大気中への放散を抑制する洗浄装置に関 する。
【0002】
【従来の技術】
従来、リードフレーム等の洗浄対象物の洗浄においては、例えばフロンを用い た洗浄装置が使用されていた。 そして、その一例として図5に示すような洗浄装置70があり、その装置70 には洗浄槽71が設けられ、振動子によって超音波発振器の高周波電力を音響勢 力に変換してフロン中に放射して洗浄する超音波洗浄部72、濯ぎ洗浄を施す浸 漬洗浄部73及び洗浄対象物の表面温度とフロン蒸気の温度差により洗浄を施す 蒸気洗浄部74が設けられていた。 前記超音波洗浄部72には、超音波振動子75が備え付けられ、内部のフロン を超音波のキャビテーションによりヒートアップし、洗浄対象物を洗浄するよう になっていた。 また、前記浸漬洗浄部73には、ポンプ76及び冷却装置77が備え付けられ 内部のフロンを循環させて冷却し、超音波洗浄部12から洗浄対象物を移して濯 ぎ洗浄を施していた。更に、蒸気洗浄部74にはフロンを蒸気化するヒーター7 8が取り付けられており、フロンを蒸気化し、その蒸気の温度と浸漬洗浄部73 から移された洗浄対象物の表面温度との差によって洗浄対象物の表面にてフロン を液化させてその流下によって仕上げ洗浄を施していた。 そして、前記洗浄工程において発生する気化したフロンの回収については、洗 浄槽71の内壁に沿って冷却管79が設けられており、その冷却管79によって 気化したフロンが液化し、冷却管79に沿ってその下方に配設されたフロン受樋 80に滴下して図示しない回収装置に流れ込むようになっていた。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】 しかしながら、従来の洗浄装置70では、洗浄槽71の内側に冷却管79が配 設されているので、その冷却管79付近の気化したフロンは液化することができ るが、洗浄槽71の中央部で気化したフロンは回収されずに大気中に放散されて いた。 また、大気中に放散されたフロンガスによる環境破壊に対処するために定めら れた昭和63年5月公布の「特定物質の規制等によるオゾン層の保護に関する法 律」(フロン等規制法)の第22条には、消費事業者に対し「排出抑制及び使用 合理化に努めねばならない」と定められており、この条項に対処するために気化 したフロンの大気中への放散を抑制しなければならなかった。 本考案はかかる事情に鑑みて、洗浄装置からフロン等の揮発性洗浄液が気化し て大気中に放散される量を飛躍的に抑制した洗浄装置を提供することを目的とす る。
【0004】
【課題を解決するための手段】
前記目的に沿う請求項1記載の洗浄装置は、超音波洗浄部、浸漬洗浄部、蒸気 洗浄部を備えるフロン等の揮発性洗浄液を用いた洗浄槽の内壁に気化した前記揮 発性洗浄液を液化する冷却手段が設けられた洗浄装置において、前記洗浄槽から 気化した前記洗浄液を前記冷却手段に吹き付ける送風機を備えているように構成 されている。
【0005】
【作用】
請求項1記載の洗浄装置においては、冷却手段付近のみならず洗浄槽の中央部 において気化している揮発性洗浄液をも送風機が吸引して冷却手段に吹き付けて いるので、気化した揮発性洗浄液が液化して回収され前記揮発性洗浄液の大気中 に放散される量を飛躍的に抑制する。
【0006】
【実施例】
続いて、添付した図面を参照しつつ本考案を具体化した実施例につき説明し、 本考案の理解に供する。 ここに、図1は本考案の一実施例に係る洗浄装置の要部斜視図、図2は同洗浄 装置の概略平面図、図3は同洗浄装置内の気化したフロンの流れを示す説明図、 図4は同洗浄装置内の気化したフロンの液化を示す説明図である。 図1及び図2に示すにように本考案の一実施例に係る洗浄装置10は、洗浄槽 11として超音波洗浄部12、浸漬洗浄部13及び蒸気洗浄部14を仕切板15 によって区画し隣接状態にて備える。前記超音波洗浄部12、浸漬洗浄部13及 び蒸気洗浄部14には所定量の揮発性洗浄液の一例であるフロンが入れられてい る。
【0007】 そして、洗浄槽11の内壁には冷却手段の一例である上下に2群に分けた冷却 パイプ群16、17が配設されている。その冷却パイプ群16、17には冷却水 が流れているが、該冷却水は図示しないポンプ及び冷却装置を有して循環するよ うになっている。また、冷却パイプ群16には、その上部に送風機の一例である 羽根を有した複数の電動ファン18が固定されている。その固定は図1及び図4 に示すように、電動ファン18の上部に屈曲板19を冷却パイプ群16の上部に 引っ掛けて固定している。この電動ファン18はコードによって電源に接続され ている。 前記冷却パイプ群17の下方には、その冷却パイプ群17に沿って縁端が洗浄 槽11の内壁に固定されたフロン受樋20が固定され、そのフロン受樋20を介 して液化したフロンが図示しない回収装置に流れ込んで回収されるようになって いる。 図3に示すように超音波洗浄部12の底部にはフロンを暖めるヒーター21及 び超音波振動子22が取り付けられている。また、浸漬洗浄部13の下部には、 ポンプ23及び冷却装置24が備えられ、浸漬洗浄部13のフロンを循環させて 冷却するようになっている。 更に、蒸気洗浄部14の底面にはフロンを蒸気化するヒーター25が配設され ている。
【0008】 続いて、本考案の一実施例に係る洗浄装置10を用いた洗浄方法及び気化した フロンの回収について説明する。 前記洗浄装置10の洗浄方法は図3に示すように、まず、超音波洗浄部12の ヒーター21により、内部のフロンの温度を上昇させ、フロンの分子活動を活発 にする。超音波振動子22のキャビテーション作用が洗浄有効レベルに達するよ うになる。通常、内部のフロンのヒートアップに約90分を要するところを、約 40〜50分という短時間にてキャビテーション作用が最大となる。このヒート アップの時間の短縮により大気中に放散されるフロンは減少する。 次いで、暖められた超音波洗浄部12に図示しない半導体のリードフレーム等 の洗浄対象物を浸漬する。そして、超音波洗浄部12に設けられている超音波振 動子22が超音波発振器の高周波電力を音響勢力に変換しフロンの液中に放射し 、その際に発生するキャビテーション作用によって洗浄対象物に傷を付けずにす みずみの汚れを除去する。
【0009】 そして、冷却装置24によって温度が約18℃程度に冷却されているフロンが 入った浸漬洗浄部13に洗浄対象物を移す。この浸漬洗浄部13において、洗浄 対象物は冷却及び濯ぎ洗浄が施される。 そして、洗浄対象物は浸漬洗浄部13から蒸気洗浄部14に移され、ヒーター 25によって暖められて蒸気化された約48℃程度のフロン蒸気26中におかれ る。この時、浸漬洗浄部13から移した洗浄対象物の表面温度とフロン蒸気26 との温度差が約30℃にもおよび、洗浄対象物の表面に気化したフロンの結露現 象が促進される。その結露現象によって液化したフロンは、洗浄対象物の表面を 流下して仕上げの洗浄が行われる。
【0010】 次に、洗浄槽11内に気化したフロンの回収について説明する。 図3に示すように洗浄槽11内のフロンは気化して上昇するが、冷却パイプ群 16、17によって冷却されて液化し、フロン受樋20に滴下する。 このフロンの液化について図4を用いて更に詳しく説明する。 洗浄槽11の内壁付近の気化したフロン27は冷却パイプ群16、17によっ て冷却されて液化し、その後フロン受樋20に滴下して図示しない回収装置に回 収される。また、洗浄槽11の中央部の気化したフロン27は電動ファン18に よって吸い込まれて冷却パイプ群16、17に吹き付けられて冷却されて液化し 、フロン受樋20に滴下して前記と同様に回収される。従って、大気中に放散さ れるフロンの量は飛躍的に減少する。
【0011】 次いで、洗浄装置10の気化したフロンの回収能力の調査結果を示すと、気化 したフロンの回収については電動ファン18を設けない従来の洗浄装置が8cc /30分であるのに対し、一台の電動ファン18を駆動させて気化したフロンを 回収した結果は約912cc/30分であり、従来の洗浄装置に比べ114倍の フロン回収能力を備えている。 また、洗浄装置10の全ての電動ファン18を駆動させて洗浄対象物の洗浄を 行った場合のフロンの蒸発量は6kg/時間であり、従来の洗浄装置による場合 が17kg/時間であるのに対して約3分の1となっており、大気中に放散され るフロンの量は飛躍的に抑制されている。 なお、本実施例においては電動ファン18の屈曲板19を冷却パイプ群16の 上部に引っ掛けて固定したが、電動ファン18は洗浄槽11の中央部の気化した フロンを冷却パイプ群16、17に吹き付けることができれば良く、例えば洗浄 槽11の内壁に電動ファン18を固定する等、他の固定手段によることも可能で ある。 また、洗浄効率を考慮して超音波洗浄部12、浸漬洗浄部13及び蒸気洗浄部 14のそれぞれの温度の設定を約48℃、18℃、48℃にて行ったが、各々略 35℃〜48℃、5℃〜38℃、40℃〜48℃にて行っても、洗浄対象物を洗 浄することは勿論可能である。 更に、揮発性洗浄液としてフロンを使用したが、アルコールやベンジン等の他 の揮発性洗浄液をフロンの代わりに用いても良い。
【0012】
【考案の効果】
請求項1記載の洗浄装置においては、送風機が備えられているので、洗浄槽の 内壁の冷却手段付近の気化したフロン等の揮発性洗浄液のみならず、大気中に放 散していた洗浄槽の中央部の気化した揮発性洗浄液も前記送風機によって冷却手 段に吹き付けられて液化して回収され、揮発性洗浄液の大気中に放散される量を 飛躍的に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例に係る洗浄装置の要部斜視図
である。
【図2】同洗浄装置の概略平面図である。
【図3】同洗浄装置内の気化したフロンの流れを示す説
明図である。
【図4】同洗浄装置内の気化したフロンの液化を示す説
明図である。
【図5】従来の洗浄装置の概略構成図である。
【符号の説明】 10 洗浄装置 11 洗浄槽 12 超音波洗浄部 13 浸漬洗浄部 14 蒸気洗浄部 15 仕切板 16 冷却パイプ群 17 冷却パイプ群 18 電動ファン 19 屈曲板 20 フロン受樋 21 ヒーター 22 超音波振動子 23 ポンプ 24 冷却装置 25 ヒーター 26 フロン蒸気 27 気化したフロン

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 超音波洗浄部、浸漬洗浄部、蒸気洗浄部
    を備えるフロン等の揮発性洗浄液を用いた洗浄槽の内壁
    に気化した前記揮発性洗浄液を液化する冷却手段が設け
    られた洗浄装置において、 前記洗浄槽から気化した前記洗浄液を前記冷却手段に吹
    き付ける送風機を備えていることを特徴とする洗浄装
    置。
JP6626692U 1992-08-27 1992-08-27 洗浄装置 Pending JPH0621784U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109590274A (zh) * 2018-12-29 2019-04-09 长沙方圆回转支承有限公司 一种便于清除支承杂质的回转支承淬火用冷却槽

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JPS5635365A (en) * 1975-01-20 1981-04-08 Gen Electric Fluorescent lamp
JPS59120670A (ja) * 1982-12-20 1984-07-12 アシュランド・オイル インコ−ポレイテッド 新しい有効な接着剤

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