JP3542415B2 - ミスト回収装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は被洗浄物（半導体基板、液晶基板等）をウエット処理する場合に発生するミストを回収するミスト回収装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
此種装置のドライ法の従来例においては、図５に示すように、ウエット処理装置１の内部に液体２を収容したウエット処理槽３を設けて被洗浄物４を浸漬する様にしていた。
前記液体２は加熱されるか又は気化しやすいものを用いるので矢印で示すようにミスト５となって上昇する。
【０００３】
一方、ウエット処理槽３の上方には吸引管６を設けて高濃度ミスト７を吸引し、排気側に設けたミスト捕集箱８に設けたミスト濾材（ドライ法）９でこれを吸収し、吸収しきれなかったミストは低濃度なのでブロアー１０から放出していた。
【０００４】
又、ウエット法の従来例においては図６に示すように、吸引管６の排気側にミスト回収スクラバー１１を設け、このミスト回収スクラバー１１中にスプレーノズル１２を設けて液体１３を噴出させてミストと接触させ、ミストを液体１３中に溶解させて液体化し、ミスト回収スクラバー１１で回収し、回収した液体１３をポンプ１４でスプレーノズル１２に送って噴出させるようにしていた。
液体化しなかった濃度の低いミストはブロアー１５を介して大気に放出していた。
他は図５と同一なので、同一符号を付し説明を省略する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来の装置にあっては、いずれの場合でも低濃度ではあるが回収しきれないミストを大気中に放出しており、環境を汚染するという問題があった。 そこで、本発明においてはミストを確実に回収して大気に放出することのない装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明はウエット処理装置に高濃度ミストを吸引する吸引管を設け、この吸引管を封止用液体を封入した水封式真空ポンプに接続し、該水封式真空ポンプの排出側に封止用液体を冷却する熱交換器を介してタンクを接続し、供給配管によってタンクと水封式真空タンクの供給側とを接続し、該タンクから水封式真空ポンプに封止用液体を還流させる様にして上記課題を解決した。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図１に基いて説明する。ミスト発生源は図５に示した従来のウエット処理装置１と同様なので、図５と同一の符号を付し、説明を省略する。
【０００８】
他のミスト発生源としては図２に示すようにウエット処理装置１内にモータ１６で駆動される回転台座１７を設け、この回転台座１７上に被洗浄物４を載置固定し、被洗浄物４にスプレーノズル又は高圧ジエットノズル１８から処理液を噴射し、発生した高濃度ミスト７を吸引管６で吸引する様になった装置がある。
【０００９】
そして、吸引管６の排気側には図１に示すような水封式真空ポンプ１９を設けている。この水封式真空ポンプ１９は図４に示すようにケーシング２０内に封止用液体２１を封入し、吸入管６に連通する吸入口２２から高濃度ミスト７を吸引し、羽根２３の駆動により高濃度ミスト７を封止用液体２１に溶解させ、封止用液体２１とともに排出配管２４から排出させるようになっている。
【００１０】
排出配管２４は図１に示すように熱交換器２５と接続されており、封止用液体２１を冷却し、冷却配管２６を介してタンク２７に冷却済みの封止用液体２１を送るようになっている。尚、図中２８は冷却水供給管、２９は冷却水排出管である。
【００１１】
タンク２７は供給配管３０により水封用真空ポンプ１９の供給側と接続されており、封止用液体２１を水封用真空ポンプ１９に還流するようになっている。又、バルブ３１を有するドレン配管３２で封止用液体２１を回収できるようになっている。
【００１２】
本発明は前記のように構成したもので、ウエット処理装置１で発生した高濃度ミストは吸引管６から水封式真空ポンプ１９に送られ、この内部に封止されている封止用液体２１中に溶解する。
【００１３】
その結果、高濃度ミスト７が溶解した封止用液体２１は排出配管２４から熱交換器２５に送られて冷却され、タンク２７に送られる。そして、このタンク２７から水封式真空ポンプ１９に還流された封止用液体２１中には再び高濃度ミスト７が溶解せしめられる。
タンク２７内の余分な封止用液体２１はドレン配管３２から外部に放出される。
なお、封止用液体２１は循環の途中において熱交換器２５で冷却されるので、温度上昇によって気泡が発生して水封式真空ポンプ９の吸引能力が低下する事態は阻止される。
【００１４】
【発明の効果】
本発明は前記のように高濃度ミストを封止用液体に溶解させるのでミストは外部へ放出されず、環境を汚染することがない。
又、封止用液体を循環の途中において冷却するので、封止用液体の温度上昇により気泡が水封式真空ポンプ内で発生し、吸引能力が低下するのを防止することができる。
【００１５】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明装置の一実施例の配置図。
【図２】ウエット処理装置の他の例を示す断面図。
【図３】水封式真空ポンプの側面図。
【図４】図３のＡ−Ａ断面図。
【図５】従来のドライ法の装置の配置図。
【図６】従来のウエット法の装置の配置図。
【符号の説明】
１ ウエット処理装置
２ 液体
３ ウエット処理槽
４ 被洗浄物
５ ミスト
６ 吸引管
７ 高濃度ミスト
８ ミスト捕集箱
９ ミスト濾材
１０ ブロアー
１１ ミスト回収スクラバー
１２ スプレーノズル
１３ 液体
１４ ポンプ
１５ ブロアー
１６ モータ
１７ 回転台座
１８ ジエットノズル
１９ 水封式真空ポンプ
２０ ケーシング
２１ 封止用液体
２２ 吸入口
２３ 羽根
２４ 排出配管
２５ 熱交換器
２６ 冷却配管
２７ タンク
２８ 冷却水供給管
２９ 冷却水排出管
３０ 供給配管
３１ バルブ
３２ ドレン配管
【発明の属する技術分野】
本発明は被洗浄物（半導体基板、液晶基板等）をウエット処理する場合に発生するミストを回収するミスト回収装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
此種装置のドライ法の従来例においては、図５に示すように、ウエット処理装置１の内部に液体２を収容したウエット処理槽３を設けて被洗浄物４を浸漬する様にしていた。
前記液体２は加熱されるか又は気化しやすいものを用いるので矢印で示すようにミスト５となって上昇する。
【０００３】
一方、ウエット処理槽３の上方には吸引管６を設けて高濃度ミスト７を吸引し、排気側に設けたミスト捕集箱８に設けたミスト濾材（ドライ法）９でこれを吸収し、吸収しきれなかったミストは低濃度なのでブロアー１０から放出していた。
【０００４】
又、ウエット法の従来例においては図６に示すように、吸引管６の排気側にミスト回収スクラバー１１を設け、このミスト回収スクラバー１１中にスプレーノズル１２を設けて液体１３を噴出させてミストと接触させ、ミストを液体１３中に溶解させて液体化し、ミスト回収スクラバー１１で回収し、回収した液体１３をポンプ１４でスプレーノズル１２に送って噴出させるようにしていた。
液体化しなかった濃度の低いミストはブロアー１５を介して大気に放出していた。
他は図５と同一なので、同一符号を付し説明を省略する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来の装置にあっては、いずれの場合でも低濃度ではあるが回収しきれないミストを大気中に放出しており、環境を汚染するという問題があった。 そこで、本発明においてはミストを確実に回収して大気に放出することのない装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明はウエット処理装置に高濃度ミストを吸引する吸引管を設け、この吸引管を封止用液体を封入した水封式真空ポンプに接続し、該水封式真空ポンプの排出側に封止用液体を冷却する熱交換器を介してタンクを接続し、供給配管によってタンクと水封式真空タンクの供給側とを接続し、該タンクから水封式真空ポンプに封止用液体を還流させる様にして上記課題を解決した。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図１に基いて説明する。ミスト発生源は図５に示した従来のウエット処理装置１と同様なので、図５と同一の符号を付し、説明を省略する。
【０００８】
他のミスト発生源としては図２に示すようにウエット処理装置１内にモータ１６で駆動される回転台座１７を設け、この回転台座１７上に被洗浄物４を載置固定し、被洗浄物４にスプレーノズル又は高圧ジエットノズル１８から処理液を噴射し、発生した高濃度ミスト７を吸引管６で吸引する様になった装置がある。
【０００９】
そして、吸引管６の排気側には図１に示すような水封式真空ポンプ１９を設けている。この水封式真空ポンプ１９は図４に示すようにケーシング２０内に封止用液体２１を封入し、吸入管６に連通する吸入口２２から高濃度ミスト７を吸引し、羽根２３の駆動により高濃度ミスト７を封止用液体２１に溶解させ、封止用液体２１とともに排出配管２４から排出させるようになっている。
【００１０】
排出配管２４は図１に示すように熱交換器２５と接続されており、封止用液体２１を冷却し、冷却配管２６を介してタンク２７に冷却済みの封止用液体２１を送るようになっている。尚、図中２８は冷却水供給管、２９は冷却水排出管である。
【００１１】
タンク２７は供給配管３０により水封用真空ポンプ１９の供給側と接続されており、封止用液体２１を水封用真空ポンプ１９に還流するようになっている。又、バルブ３１を有するドレン配管３２で封止用液体２１を回収できるようになっている。
【００１２】
本発明は前記のように構成したもので、ウエット処理装置１で発生した高濃度ミストは吸引管６から水封式真空ポンプ１９に送られ、この内部に封止されている封止用液体２１中に溶解する。
【００１３】
その結果、高濃度ミスト７が溶解した封止用液体２１は排出配管２４から熱交換器２５に送られて冷却され、タンク２７に送られる。そして、このタンク２７から水封式真空ポンプ１９に還流された封止用液体２１中には再び高濃度ミスト７が溶解せしめられる。
タンク２７内の余分な封止用液体２１はドレン配管３２から外部に放出される。
なお、封止用液体２１は循環の途中において熱交換器２５で冷却されるので、温度上昇によって気泡が発生して水封式真空ポンプ９の吸引能力が低下する事態は阻止される。
【００１４】
【発明の効果】
本発明は前記のように高濃度ミストを封止用液体に溶解させるのでミストは外部へ放出されず、環境を汚染することがない。
又、封止用液体を循環の途中において冷却するので、封止用液体の温度上昇により気泡が水封式真空ポンプ内で発生し、吸引能力が低下するのを防止することができる。
【００１５】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明装置の一実施例の配置図。
【図２】ウエット処理装置の他の例を示す断面図。
【図３】水封式真空ポンプの側面図。
【図４】図３のＡ−Ａ断面図。
【図５】従来のドライ法の装置の配置図。
【図６】従来のウエット法の装置の配置図。
【符号の説明】
１ ウエット処理装置
２ 液体
３ ウエット処理槽
４ 被洗浄物
５ ミスト
６ 吸引管
７ 高濃度ミスト
８ ミスト捕集箱
９ ミスト濾材
１０ ブロアー
１１ ミスト回収スクラバー
１２ スプレーノズル
１３ 液体
１４ ポンプ
１５ ブロアー
１６ モータ
１７ 回転台座
１８ ジエットノズル
１９ 水封式真空ポンプ
２０ ケーシング
２１ 封止用液体
２２ 吸入口
２３ 羽根
２４ 排出配管
２５ 熱交換器
２６ 冷却配管
２７ タンク
２８ 冷却水供給管
２９ 冷却水排出管
３０ 供給配管
３１ バルブ
３２ ドレン配管
Claims (1)
- ウエット処理装置に高濃度ミストを吸引する吸引管を設け、この吸引管を封止用液体を封入した水封式真空ポンプに接続し、該水封式真空ポンプの排出側に封止用液体を冷却する熱交換器を介してタンクを接続し、供給配管によってタンクと水封式真空タンクの供給側とを接続し、該タンクから水封式真空ポンプに封止用液体を還流させる様にしたことを特徴とするミスト回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19794695A JP3542415B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | ミスト回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19794695A JP3542415B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | ミスト回収装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0924346A JPH0924346A (ja) | 1997-01-28 |
| JP3542415B2 true JP3542415B2 (ja) | 2004-07-14 |
Family
ID=16382939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19794695A Expired - Fee Related JP3542415B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | ミスト回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3542415B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4608074B2 (ja) * | 2000-11-10 | 2011-01-05 | 株式会社ディスコ | 加工装置のバキューム生成機構 |
| JP7343325B2 (ja) * | 2019-07-26 | 2023-09-12 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置 |
| JP7339049B2 (ja) * | 2019-07-26 | 2023-09-05 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置 |
-
1995
- 1995-07-12 JP JP19794695A patent/JP3542415B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0924346A (ja) | 1997-01-28 |
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