JPH06214113A - 近赤外線吸収フィルム及びそれを用いた熱線遮断シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 プラスチックと熱分解開始温度が２５０℃以
上の近赤外線吸収色素とを、２５０〜３５０℃の温度で
混練し、成形して得た近赤外線吸収フィルム、およびこ
の近赤外線吸収フィルム上に、赤外線反射層を積層させ
て作製した熱線遮断シート。 【効果】 耐久性、透明性に優れたプラスチックをベー
スとした近赤外線吸収色素混練型であるため、従来の積
層型に比べ、製造が簡便かつ経済的である。また該近赤
外線吸収フィルムを熱線反射機能を有する赤外線反射層
と組み合わせることにより優れた熱線遮断シートができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、熱線遮断効果を持つ近
赤外線吸収フィルム及びその近赤外線吸収フィルムと赤
外線反射積層体を組み合わせてなる熱線遮断シートに関
する。赤外線を吸収或いは反射する熱線遮断シートは、
ビル、住宅等の窓ガラスと組み合わせることで、太陽エ
ネルギーの室内への流入を制限し、夏期における室内温
度の上昇を抑え、冷房時には省エネルギーに貢献する。
また、自動車、電車等の窓に組み入れることで、炎天下
での車内の温度上昇を抑え、冷房時に冷房効率がアップ
し、省エネルギー化によるエンジンへの負荷の軽減にも
つながる。更に、省エネルギー目的以外の用途として、
光質選択利用農業用フィルムとして植物育成の制御、半
導体受光素子の赤外線カットフィルター、有害な赤外線
を含む光線から人間の目を保護する眼鏡等の利用が知ら
れている。

【０００２】

【従来の技術】近年、特に省エネルギーの観点から、熱
線遮断の目的で近赤外線吸収フィルムを、ビル、住宅等
の建材物あるいは自動車、電車、航空機等の窓と組み合
わせることが注目されており、実際に一部では、近赤外
線吸収フィルムが商品化されている。近赤外線吸収フィ
ルムと、建材用及び自動車、電車などの乗り物用窓ガラ
スを組み合わせる方法として、窓ガラスに直接、近赤外
線吸収フィルムを貼りつける方法、或いは合わせガラス
として、２枚のガラス板に挟み込む方法等が知られてい
るが、いずれの場合においても、屋外用途として使用さ
れるために、近赤外線吸収色素のみならず、プラスチッ
クフィルム自身にも高い耐候性が要求される。一般的に
は、その基板フィルムとしてポリエチレンテレフタレー
ト或いはポリカーボネートといった透明性が高く、か
つ、ガラス転移温度が高く、寸法安定性、耐熱性、耐光
性に優れたプラスチックが用いられる。既存の市販製品
では、透明なポリエチレンテレフタレート等を基板フィ
ルムとして、そのフィルム表面に近赤外線吸収色素をコ
ーティングしている。

【０００３】しかし、その場合、コーティング色素層保
護のために、更に色素層の上に基板フィルムと同様の透
明フィルムを貼った積層構造になっている。商業的に
は、近赤外線吸収フィルムは、簡便かつ安価に製造され
ることが重要であるが、積層構造のフィルムは製造法が
煩雑でコスト面で不利である。最も実用的で簡便な近赤
外線吸収フィルムの製造法は、ポリエチレンテレフタレ
ート或いはポリカーボネートといった耐候性の高い汎用
透明プラスチックに近赤外線吸収色素を加熱混練してフ
ィルムを製作することであるが、そのような近赤外線吸
収フィルムはまだ市場にはみられない。

【０００４】近赤外線吸収あるいは赤外線反射機能を有
するフィルムを実際に建材あるいは自動車、電車等の窓
に組み入れた場合、可視透過率（Ｔ_V ）が大きいことが
重要である。例えば、自動車のフロントガラスであれ
ば、安全性の点からＴ_V が７０％以上であることがＪＩ
Ｓ規格によって定められている。また、太陽光に対する
熱線遮断の指標を日射透過率（Ｔ_E ）で表すことが出来
る、Ｔ_E は小さいほど熱線遮断の性能が高く、Ｔ_E をで
きるだけ小さく抑えることが省エネルギーの為には重要
である。

【０００５】特許的に見れば、近赤外線吸収色素を用い
る近赤外線吸収フィルムは、従来、種々のものが知られ
ている。例えば、特開平３−１６１６４４では、アミニ
ウム系の近赤外線吸収色素をアクリル系プラスチックフ
ィルムに含有させ近赤外線吸収フィルムを作製し、ポリ
カーボネート等の基板に加熱圧着する方法が提案されて
いる。しかし、使用するアミニウム系の近赤外線吸収色
素が熱安定性に劣るという理由で、ポリカーボネートの
ような高いフィルム成形温度を必要とするプラスチック
には直接混練できず、まず、フィルム成形温度が１５０
〜２００℃と低いアクリル系プラスチックフィルムに混
練した後に、ポリカーボネート等の基板に加熱圧着する
方法がとられている。

【０００６】また、上記特許以外にも、特公平４−４５
５４６、特公昭５８−５６５３３、特公昭６２−５４１
４３、特開昭５０−５１５４９、特公昭５４−２５０６
０、特公平１−１１４８０１等には、金属錯体化合物を
含む近赤外線吸収フィルムが開示されている。しかし、
いずれの特許も、実施例を見ると、近赤外線吸収色素を
プラスチックフィルムにコーティングする方法が主体で
あり、プラスチックと混練、加熱成形する場合でも、ア
クリル系樹脂等のフィルム成形温度の低いプラスチック
を用いているのみで、２５０℃以上の高い成形温度が必
要な工業グレードのポリエチレンテレフタレートあるい
はポリカーボネートといったプラスチックと混練、加熱
成形した具体例はない。

【０００７】また、近赤外線吸収色素を含有する近赤外
線吸収フィルムは、単独でも使用できるが、赤外線反射
積層体を組み合わせることで熱線遮断効率を改良でき
る。即ち、近赤外線吸収色素としては、波長領域が７０
０〜１２００ｎｍに吸収を持つものはたくさん知られて
いるが、１２００ｎｍ以上に吸収を持つものを製造する
のは困難であるため、１２００ｎｍ以上の熱線を効率よ
くカットできない。それに対して、特開昭５６−３２３
５２、特開昭６３−１３４３３２に開示されているよう
に、誘電体と金属を積層した赤外線反射積層体は１２０
０ｎｍ以上の熱線を効率よくカットできる。

【０００８】特開昭６０−１２７１５２では、光選択透
過性シートとして、銀合金／屈折率１．３５以上の有機
重合体／銀合金の積層体と、波長８００〜１２００ｎｍ
の間に吸収ピークを有する近赤外線吸収剤を含有する選
択層を組み合わせる試みが行われている。しかし、該光
選択透過性シートの構成は赤外線反射積層体以外に、基
板プラスチックフィルム層、近赤外線吸収色素層等幾重
にも重なり複雑で、経済的でない。基板プラスチックフ
ィルムに近赤外線吸収色素を混練できれば経済的に有利
であるが、該特許記載の化合物を２５０℃以上の温度
で、プラスチックと混練、加熱成形した具体例はない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、２５
０〜３５０℃の高い加工温度が必要とされる耐候性の高
い透明プラスチックと近赤外線吸収色素を混練し、加熱
成形することによって、簡便且つ経済的に作製される熱
線吸収能力を有する近赤外線吸収フィルムを提案するこ
とである。更に、この近赤外線吸収フィルムを熱線反射
機能を有する赤外線反射積層体と組み合わせることによ
り、熱線遮断機能が改良された熱線遮断シートを提供す
ることである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、熱分解温度が２５
０℃以上の近赤外線吸収色素を用いることで、耐久性、
透明性に優れたプラスチックをベースとした近赤外線吸
収フィルムを容易に製造し得ること、該近赤外線吸収フ
ィルムを赤外線反射積層体と組み合わせることにより、
その熱線遮断能力が改良された熱線遮断シートを製造出
来ることを見出し本発明を完成した。即ち、本発明は、
プラスチックと熱分解開始温度が２５０℃以上の近赤外
線吸収色素を、２５０〜３５０℃の温度で混練、成形し
て得られる近赤外線吸収フィルム、この近赤外線吸収フ
ィルム上に、赤外線反射層を積層させて得られる熱線遮
断シート、および近赤外線吸収フィルムと、赤外線反射
層を積層させた赤外線反射フィルムとを、貼り合わせて
得られる熱線遮断シートに関するものである。

【００１１】本発明に使用されるプラスチックとして
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポ
リイミド等の透明性が高く、かつ耐候性の高いものが挙
げられる。特に好ましいのは、ポリエチレンテレフタレ
ート或いはポリカーボネートである。本発明の近赤外線
吸収フィルムは、これらのプラスチックの粉体或いはペ
レットに、一種類あるいは数種類の分解開始温度が２５
０℃以上の近赤外線吸収色素を混合し、２５０〜３５０
℃に加熱、溶解させて、押し出し機によりフィルム化す
るか、或いは、押し出し機により原反を作製し、６０〜
９０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に延伸して１０〜
２００μｍ厚のフィルムにする方法で得られる。なお、
混練する際に紫外線吸収色素等を加えてもよい。

【００１２】本発明に使用される近赤外線吸収色素は、
耐久性に優れ、分子吸光度が高く、プラスチックとの相
溶性に優れたもので、熱分解開始温度が２５０℃以上
で、かつ、工業グレードの上記プラスチックと混合、溶
融する条件下で、分解しない色素である。さらに、建
材、自動車等の窓への用途としては、可視光透過率（Ｔ
_V）の大きい近赤外線吸収フィルムが好ましいため、波
長領域が７００〜１２００ｎｍの近赤外線領域に吸収極
大を持ち、可視領域に吸収が小さい透明性の高いものが
望ましい。具体的には、特開昭６１−１５４８８８、特
開昭６１−１９７２８１、特開昭６１−２４６０９１、
特開昭６３−３７９９１、特開昭６３−３９３８８、特
開昭６２−２３３２８８、特開昭６３−３１２８８９、
特開平２−４３２６９、特開平２−１３８３８２、特開
平２−２９６８８５、特開平３−４３４６１、特開平３
−７７８４０、特開平３−１０００６６、特開平３−６
２８７８、特願平３−３３８５５７、特願平３−９９７
３０、特願平３−２５２４１４等に開示されているフタ
ロシアンニン類あるいはナフタロシアニン類、特開昭６
１−２９１６５１、特開昭６１−２９１６５２、特開昭
６２−１５２６０、特開昭６２−１３２９６３、特開平
１−１２９０６８、特開平１−１７２４５８等に開示さ
れているようなアントラキノン類が挙げられ、それらの
中で分解開始温度が２５０℃以上のものが使用される。
分解開始温度は、示差熱分析計によって測定され、色素
の分解に伴い重量減を始める温度をさす。近赤外線吸収
色素の使用総量は、作製する近赤外線吸収フィルムの面
積に対して１〜１００００mg／ｍ² が好ましい。吸収極
大の異なる近赤外線吸収色素を数種類使用すると、吸収
波長域を広げて日射透過率（Ｔ_E ）を改善できる。特に
好ましい色素としては、一般式（Ｉ）（化１）で示され
るフタロシアニンあるいは一般式（II）（化２）で示さ
れるナフタロシアンが挙げられる。

【００１３】

【化１】

【００１４】

【化２】 〔式（Ｉ）、（II）中、Ａ¹ 〜Ａ⁸ は各々独立に、水素
原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、あ
るいは置換又は未置換のアルコキシ基を表し、かつ、Ａ
¹ とＡ² 、Ａ³ とＡ⁴ 、Ａ⁵ とＡ⁶ 、およびＡ⁷ とＡ⁸
の各組み合わせにおいて、同時に水素原子である組み合
わせとなることはない。他方、Ｂ¹ 〜Ｂ⁸は各々独立
に、水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキ
ル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換の
アルコキシ基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置
換又は未置換のアルキルチオ基、あるいは置換又は未置
換のアリールチオ基を表す。Ｍは２価の金属原子、３価
又は４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表す。〕

【００１５】式（Ｉ）、（II）中、Ａ¹ 〜Ａ⁸ 或いはＢ
¹ 〜Ｂ⁸ で表される置換又は未置換のアルキル基の例と
しては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロ
ピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、t-
ブチル基、n-ペンチル基、iso-ペンチル基、neo-ペンチ
ル基、1,2-ジメチル−プロピル基、n-ヘキシル基、cycl
o-ヘキシル基、1,3-ジメチル- ブチル基、1-iso-プロピ
ルプロピル基、1,2-ジメチルブチル基、 n-ヘプチル
基、1,4-ジメチルペンチル基、2-メチル1-iso-プロピル
プロピル基、1-エチル-3- メチルブチル基、n-オクチル
基、2-エチルヘキシル基、3-メチル-1-iso- プロピルブ
チル基、2-メチル-1-iso- プロピル基、1-t-ブチル-2-
メチルプロピル基、n-ノニル基等の炭素数１〜２０の直
鎖又は分岐のアルキル基、メトキシメチル基、メトキシ
エチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブ
トキシエチル基、γ−メトキシプロピル基、γ−エトキ
シプロピル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエ
トキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等のア
ルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル
基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、クロ
ロメチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、トリフルオロ
メチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、1,1,1,3,3,3,-
ヘキサフルオロ-2- プロピル基等のハロゲン化アルキル
基、アルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアル
キル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルア
ミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアル
キル基、アルキルスルホニル基などが挙げられる。

【００１６】また、置換または未置換のアルコキシ基の
例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキ
シ基、iso-プロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、iso-
ブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、t-ブチルオキシ
基、n-ペンチルオキシ基、iso-ペンチルオキシ基、neo-
ペンチルオキシ基、1,2-ジメチル−プロピルオキシ基、
n-ヘキシルオキシ基、cyclo-ヘキシルオキシ基、1,3-ジ
メチル- ブチルオキシ基、1-iso-プロピルプロピルオキ
シ基、1,2-ジメチルブチルオキシ基、n-ヘプチルオキシ
基、1,4-ジメチルペンチルオキシ基、2-メチル-1-iso-
プロピルプロピルオキシ基、1-エチル-3- メチルブチル
オキシ基、n-オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキ
シ基、3-メチル-1-iso- プロピルブチルオキシ基、2-メ
チル-1-iso- プロピルオキシ基、1-t-ブチル-2- メチル
プロピルオキシ基、n-ノニルオキシ基等の炭素数１〜２
０の直鎖又は分岐のアルコキシ基、メトキシメトキシ
基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポ
キシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、γ−メトキシプ
ロピルオキシ基、γ−エトキシプロピルオキシ基、メト
キシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ
基、ジメトキシメトキシ基、ジエトキシメトキシ基、ジ
メトキシエトキシ基、ジエトキシエトキシ基等のアルコ
キシアルコキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エト
キシエトキシエトキシ基、ブチルオキシエトキシエトキ
シ基等のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アルコキ
シアルコキシアルコキシアルコキシ基、クロロメトキシ
基、2,2,2-トリクロロエトキシ基、トリフルオロメトキ
シ基、2,2,2-トリクロロエトキシ基、1,1,1,3,3,3,- ヘ
キサフルオロ-2- プロピルオキシ基等のハロゲン化アル
コキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、ジエチルアミノ
エトキシ基などのアルキルアミノアルコキシ基、ジアル
キルアミノアルコキシ基等が挙げられる。

【００１７】Ｂ¹ 〜Ｂ⁸ で表される置換又は未置換のア
リール基の例としては、フェニル基、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フッ素化
フェニル基、ヨウ素化フェニル基等のハロゲン化フェニ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ピ
リジル基などが挙げられる。置換又は未置換のアリール
オキシ基の例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、
アルキルフェノキシ基、等が挙げられ、置換又は未置換
のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ
基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、n-ブチル
チオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチ
ルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチルチオ基、ne
o-ペンチルチオ基、1,2-ジメチル−プロピルチオ基、n-
ヘキシルチオ基、cyclo-ヘキシルチオ基、1,3-ジメチル
- ブチルチオ基、1-iso-プロピルプロピルチオ基、1,2-
ジメチルブチルチオ基、n-ヘプチルチオ基、1,4-ジメチ
ルペンチルチオ基、2-メチル1-iso-プロピルプロピルチ
オ基、1-エチル-3- メチルブチルチオ基、n-オクチルチ
オ基、2-エチルヘキシルチオ基、3-メチル-1-iso- プロ
ピルブチルチオ基、2-メチル-1-iso- プロピルチオ基、
1-t-ブチル-2- メチルプロピルチオ基、n-ノニルチオ基
等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、
メトキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキ
シエチルチオ基、プロポキシエチルチオ基、ブトキシエ
チルチオ基、γ−メトキシプロピルチオ基、γ−エトキ
シプロピルチオ基、メトキシエトキシエチルチオ基、エ
トキシエトキシエチルチオ基、ジメトキシメチルチオ
基、ジエトキシメチルチオ基、ジメトキシエチルチオ
基、ジエトキシエチルチオ基等のアルコキシアルキルチ
オ基、アルコキシアルコキシアルキルチオ基、アルコキ
シアルコキシアルコキシアルキルチオ基、クロロメチル
チオ基、2,2,2-トリクロロエチルチオ基、トリフルオロ
メチルチオ基、2,2,2-トリクロロエチルチオ基、1,1,1,
3,3,3,- ヘキサフルオロ-2-プロピルチオ基等のハロゲ
ン化アルキルチオ基、ジメチルアミノエチルシチオ基、
ジエチルアミノエチルチオ基等のアルキルアミノアルキ
ルチオ基、ジアルキルアミノアルキルチオ基等が挙げら
れる。置換又は未置換のアリールチオ基の例としては、
フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アルキルフェニルチ
オ基、等が挙げる。

【００１８】また、Ｍで表される２価金属の例として
は、Ｃｕ（II），Ｚｎ（II），Ｃｏ（II），Ｎｉ（I
I），Ｒｕ（II），Ｒｈ（II），Ｐｄ（II），Ｐｔ（I
I），Ｍｎ（II），Ｍｇ（II），Ｔｉ（II），Ｂｅ（I
I），Ｃａ（II），Ｂａ（II），Ｃｄ（II），Ｈｇ（I
I），Ｐｂ（II），Ｓｎ（II）などが挙げられる。１置
換の３価金属の例としては、Ａｌ−Ｃｌ，Ａｌ−Ｂｒ，
Ａｌ−Ｆ，Ａｌ−Ｉ，Ｇａ−Ｃｌ，Ｇａ−Ｆ，Ｇａ−
Ｉ，Ｇａ−Ｂｒ，Ｉｎ−Ｃｌ，Ｉｎ−Ｂｒ，Ｉｎ−Ｉ，
Ｉｎ−Ｆ，Ｔｌ−Ｃｌ，Ｔｌ−Ｂｒ，Ｔｌ−Ｉ，Ｔｌ−
Ｆ，Ａｌ−Ｃ₆ Ｈ₅ ，Ａｌ−Ｃ₆ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ），Ｉｎ
−Ｃ₆ Ｈ₅ ，Ｉｎ−Ｃ₆ Ｈ₄ （ＣＨ₃ ），Ｉｎ−Ｃ₆ Ｈ
₅ ，Ｍｎ（ＯＨ），Ｍｎ（ＯＣ₆ Ｈ₅），Ｍｎ〔ＯＳｉ
（ＣＨ₃ ）₃ 〕，Ｆｅ−Ｃｌ，Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられ
る。２置換の４価金属の例としては、ＣｒＣｌ₂ ，Ｓｉ
Ｃｌ₂ ，ＳｉＢｒ₂ ，ＳｉＦ₂ ，ＳｉＩ₂ ，ＺｒＣ
ｌ₂ ，ＧｅＣｌ₂ ，ＧｅＢｒ₂ ，ＧｅＩ₂ ，ＧｅＦ₂ ，
ＳｎＣｌ₂ ，ＳｎＢｒ₂ ，ＳｎＦ₂ ，ＴｉＣｌ₂ ，Ｔｉ
Ｂｒ₂ ，ＴｉＦ₂ ，Ｓｉ（ＯＨ）₂ ，Ｇｅ（ＯＨ）₂ ，
Ｚｒ（ＯＨ）₂ ，Ｍｎ（ＯＨ）₂ ，Ｓｎ（ＯＨ）₂ ，Ｔ
ｉＲ₂ ，ＣｒＲ₂ ，ＳｉＲ₂ ，ＳｎＲ₂ ，ＧｅＲ₂ 〔Ｒ
はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、およびその誘
導体を表す〕，Ｓｉ（ＯＲ’）₂ ，Ｓｎ（ＯＲ’）₂ ，
Ｇｅ（ＯＲ’）₂ ，Ｔｉ（ＯＲ’）₂ ，Ｃｒ（ＯＲ’）
₂ 〔Ｒ’はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリ
アルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基およ
びその誘導体を表す〕，Ｓｎ（ＳＲ”）₂ ，Ｇｅ（Ｓ
Ｒ”）₂ （Ｒ”はアルキル基、フェニル基、ナフチル
基、およびその誘導体を表す〕などが挙げられる。オキ
シ金属の例としては、ＶＯ，ＭｎＯ，ＴｉＯなどが挙げ
られる。

【００１９】本発明において用いる赤外線反射層は、金
属酸化物層と金属層を、金属酸化物層から順に交互に積
層した層であり、各層の厚みは、金属層が５０〜５００
Å、金属酸化物層が１００〜２０００Åである。金属酸
化物層の材料としては、透明性の高いインジウム−錫酸
化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化錫、酸化ケイ
素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化タングステン等
が挙げられ、金属層の材料としては金、銀、銅、白金、
アルミニウム、ニッケル、パラジウム、イリジウム、
錫、クロム、亜鉛等の金属やこれらの金属を主成分とす
る合金または混合物が挙げられる。

【００２０】近赤外線吸収フィルムに赤外線反射積層体
を組み合わせる方法としては、次の二つの方法が挙げら
れる。第１は、上記の金属あるいは金属酸化物を、近赤
外線吸収フィルム上に１０^-1〜１０^-7ｔｏｒｒで、スパ
ッタリング、真空蒸着、イオンプレーティグ等の方法で
積層する方法である。第２は、ポリエチレンテレフタレ
ート或いはポリカーボネート等の透明フィルム上に、第
１の方法と同様にして、金属層及び金属酸化物層を積層
させて赤外線反射フィルム（Ａ）を作製し、該近赤外線
吸収フィルム（Ｂ）と貼り合わせる方法である。（Ａ）
と（Ｂ）を貼り合わせる際に用いる接着剤は、シリコン
系、ウレタン系、アクリル系などの公知の透明接着剤で
あり、接着層の厚みは１〜１００μｍである。

【００２１】

【実施例】以下、本発明を実施例により、更に詳細に説
明するが、本発明は、これによりなんら制限されるもの
ではない。実施例に示した（III)〜（VI）の式で示され
るフタロシアニン化合物は、本文中（Ｉ）式で示した構
造を簡略化したものである。 実施例１ ユニチカ製ポリエチレンテレフタレートペレット１２０
３と、下記式（III)（化３）で表されるλ_max ＝７１３
ｎｍ、分解開始温度３２０℃の銅フタロシアニンを、重
量比、１：０．０１２の割合で混合し、２６０〜２８０
℃で溶融させ、押出機で厚み１００μｍのフィルムを作
製した後、このフィルムを２軸延伸して厚み２５μｍの
近赤外線吸収色素を含有するポリエチレンテレフタレー
トフィルムを作製した。このフィルムのＴ_V とＴ_E を
（株）日立製作所製分光光度計Ｕ−３４００にて測定
し、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に従って、Ｔ_V およびＴ_E を
計算したところＴ_V ＝８５％、Ｔ_E ＝６９％であった。

【００２２】

【化３】

【００２３】実施例２ 帝人製ポリカーボネート、パンライトＫ−１３００Ｚ
と、下記式（IV）（化４）で表されるλ_max ＝７４２ｎ
ｍ、分解開始温度３２０℃の銅フタロシアニンを、重量
比、１：０．０１２の割合で混合し、２７０〜２９０℃
で溶融させ、押出機で厚み１００μｍのフィルムを作製
した後、このフィルムを２軸延伸して厚み２５μｍの近
赤外線吸収色素を含有するポリカーボネートフィルムを
作製した。実施例１と同様の測定および計算を行ったと
ころ、Ｔ_V ＝８６％、Ｔ_E ＝６８％であった。

【００２４】

【化４】

【００２５】実施例３ 近赤外線吸収色素として（II）の代わりに、下記式
（Ｖ）（化５）で表されるλ_max ＝７８１ｎｍ、分解開
始温度３０４℃の銅フタロシアニンを用いて、厚み２５
μｍの近赤外線吸収色素を含有するポリエチレンテレフ
タレートフィルムを作製した以外は、実施例１と同様の
作業を行い、近赤外線吸収フィルムを作製した。実施例
１と同様の測定および計算を行ったところ、Ｔ_V ＝８５
％、Ｔ_E ＝６５％であった。

【００２６】

【化５】

【００２７】実施例４ 近赤外線吸収色素として（II）の代わりに、下記式（V
I）（化６）で表されるλ_max ＝７５４ｎｍ、分解開始
温度２９１℃のＶＯフタロシアニンを用いて、厚み２５
μｍの近赤外線吸収色素を含有するポリエチレンテレフ
タレートフィルムを作製した以外は、実施例１と同様の
作業を行い、近赤外線吸収フィルムを作製した。実施例
１と同様の測定および計算を行ったところ、Ｔ_V ＝８７
％、Ｔ_E ＝６５％であった。

【００２８】

【化６】

【００２９】実施例５ ユニチカ製ポリエチレンテレフタレートペレット１２０
３と、式（III)及び式（IV）の化合物を、重量比、１：
０．００９６：０．００９６の割合で混合し、押出機で
厚み１００μｍのフィルムを作製した後、このフィルム
を２軸延伸して厚み２５μｍの近赤外線吸収色素を含有
するポリエチレンテレフタレートフィルムを作製した。
実施例１と同様の測定および計算を行ったところ、Ｔ_V
＝８０％、Ｔ_E ＝５９％であった。

【００３０】実施例６ ユニチカ製ポリエチレンテレフタレートペレット１２０
３と、式（IV）の化合物を、重量比、１：０．００３２
の割合で混合して、厚み２５μｍの近赤外線吸収色素を
含有するポリエチレンテレフタレートフィルムを作製し
た以外は、実施例１と同様の作業を行い、近赤外線吸収
フィルムを作製した。実施例１と同様の測定および計算
を行ったところ、Ｔ_V ＝９７％、Ｔ_E ＝８６％であっ
た。また、酸化インジウム（３００Å）／銀（１００
Å）／酸化インジウム（６００Å）／銀（１００Å）／
酸化インジウム（３００Å）の構成の積層体を厚み２５
μｍの東レ（株）製ルミラーにマグネトロンスパッタリ
ング法により堆積させて赤外線反射フィルムを作製し
た。上記の近赤外線吸収色素を含有するポリエチレンテ
レフタレートフィルムと赤外線反射フィルムをウレタン
系接着剤を用いてラミネートし、熱線遮断シートを作製
した。このシートのＴ_V とＴ_E を、実施例１と同様の方
法で測定および計算を行ったところ、Ｔ_V ＝７２％、Ｔ
_E ＝３７％であった。

【００３１】比較例１ 近赤外線吸収色素として、式（III)の化合物の代わり
に、三井東圧ファイン（株）製λ_max ＝１１１０ｎｍ、
分解開始温度２１９℃の金属錯体系近赤外線吸収色素Ｐ
Ａ−１００１を使って、実施例１と同様に、ポリエチレ
ンテレフタレートペレットと共に２６０℃に加熱したと
ころ色素が分解し脱色した。出来上がったフィルムの近
赤外線領域のスペクトルを測定したところ吸収が見られ
なかった。

【００３２】

【発明の効果】本発明による近赤外線吸収フィルムは、
耐久性、透明性に優れた工業グレードのプラスチックを
ベースにした近赤外線吸収色素混練型であるため、従来
の積層型に比べ、製造が簡便であり、かつ経済的であ
る。また、該近赤外線吸収フィルムは、熱線反射機能を
有する赤外線反射層と組み合わせることにより、日射透
過率（Ｔ_E ）を改良した優れた熱線遮断シートとしても
利用できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 尚登 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラスチックと熱分解開始温度が２５０
   ℃以上の近赤外線吸収色素を、２５０〜３５０℃の温度
   で混練し、成形して得られる近赤外線吸収フィルム。
2. 【請求項２】 プラスチックがポリエチレンテレフタレ
   ート、あるいはポリカーボネートである請求項１記載の
   近赤外線吸収フィルム。
3. 【請求項３】 請求項１の近赤外線吸収フィルム上に、
   赤外線反射層を積層させて作製される熱線遮断シート。
4. 【請求項４】 請求項１の近赤外線吸収フィルムと、赤
   外線反射層を積層させた赤外線反射フィルムとを、貼り
   合わせて作製される熱線遮断シート。