JPH06211887A - ３，４′−ジデオキシデスマイコシン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 〔構成〕下記式： 【化１】 で示される３，４′−ジデオキシデスマイコシン。 〔効果〕エリスロマイシンやジョサマイシン等に耐性の
マクロライド系抗生物質耐性菌に対して強い抗菌作用を
示すので、感染症治療剤として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、抗生物質３，４′−ジ
デオキシデスマイコシンに関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】マクロ
ライド系抗生物質として、ジョサマイシンやエリスロマ
イシンが臨床上広く使用されている。しかし、近年、こ
れらのマクロライド系抗生物質に耐性を示すマクロライ
ド耐性菌が増加傾向を示しており、新しい抗生物質の開
発が望まれている。

【０００３】デスマイコシンはタイロシンの生合成中間
体(Antimicrobial Agents and Chemotherapy, Mar. 197
7, p455-461)であり、またタイロシンの加水分解( Anti
biotics and Chemotherapy, vol.11, p328-334, 1961)
によって容易に得ることができる。しかし、本物質は十
分な抗菌活性を示さないことから治療薬として応用され
た例はない。本発明者は、デスマイコシンの誘導体を種
々合成してその抗菌作用を検討し、マクロイライド耐性
菌にも強い抗菌力を有する新規抗生物質として３，４′
−ジデオキシデスマイコシンを見出し、本発明を完成す
るに至った。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の３，４′−ジデ
オキシデスマイコシンは、以下の式で示される新規抗生
物質である。

【０００５】

【化２】 本発明の３，４′−ジデオキシデスマイコシンの製造方
法の一例を、以下の製造スキームに示すが、本発明の
３，４′−ジデオキシデスマイコシンの製造方法は、こ
れらの方法に限定されることはない。スキーム中、Ａは
保護されたカルボニル基を示し、Ｂは保護されたアルデ
ヒド基を示し、protは保護基を示し、Ｘはハロゲン原子
を示し、Ｒ¹ は独立にスルホン酸残基を示し、またＲ²
は低級アルカノイル基を示す。下記スキームの方法によ
れば、容易に入手可能なタイロシンから、本発明の３，
４′−ジデオキシデスマイコシンを効率的かつ収率よく
製造することができる。

【０００６】

【化３】

【０００７】

【化４】

【０００８】

【化５】

【０００９】

【化６】

【００１０】

【化７】 式（IV）で示されるマイカミノシルタイロノライド誘導
体は、例えばジャーナル・オブ・アンティバイオティク
ス（35, 661, 1982)に記載された方法により、タイロシ
ンを酸無水物で処理して２′−Ｏ−アシルタイロシン(I
I)を得、さらに該化合物を保護基で適宜保護して製造す
ることができる。Ａ又はＢが表すカルボニル基又はアル
デヒド基の保護基としては当業者に自明なものはいかな
るものを使用してもよいが、例えば、ジメチルアセター
ル（ジメチルケタール）、ジエチルアセタール（ジエチ
ルケタール）、ジエチルチオアセタール（ジエチルチオ
ケタール）、エチレンアセタール（エチレンケター
ル）、プロピレンアセタール（プロピレンケタール）等
のアセタール（又はチオアセタール）又はケタール（又
はチオケタール）等を用いることができる。Ｒ² が示す
低級アルカノイル基としては、例えば、ホルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル
基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ヘキ
サノイル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分岐状のアルカ
ノイル基を挙げることができる。また、水酸基の保護基
(prot)としては、当業者に自明なものならばいかなるも
のを使用してもよいが、例えばｔ−ブチルジメチルシリ
ル、ジメチルセキシルシリル、トリメチルシリル、トリ
エチルシリル、トリ（ｔ−ブチル）シリル等のアルキル
シリル基、トリチル基、テトラヒドロピラニル基、テト
ラヒドロフラニル基、アリル基、アセチル基等の低級ア
ルカノイル基、ベンゾイル基、ベンジル基、メトキシメ
チル基、ベンジルオキシカルボニル基等を使用すること
ができる。

【００１１】式（IV）で示される上記のマイカミノシル
タイロノライド誘導体を、例えば置換スルホン酸又はそ
の反応性誘導体等のスルホニル化剤と反応させることに
より、３位及び４′位の水酸基がスルホニル化された式
(V) の化合物を得ることができる。置換スルホン酸とし
ては、ベンジルスルホン酸や、ベンゼン環に１〜３個の
メチル基、エチル基等の置換基を有するベンジルスルホ
ン酸等を好適に使用することができる。また、置換スル
ホン酸の反応性誘導体としては、塩化物、臭化物等のハ
ロゲン化物や酸無水物を使用すればよい。例えばベンジ
ルスルホニルクロライドを用いて反応させると、効率的
に３位及び４′位をスルホニル化することができる。ス
ルホニル化反応は、通常−４０℃〜＋５０℃の温度下に
有機溶媒中で行えばよく、溶媒として、例えばアセトニ
トリル、アセトン、ジメチルスルホキシド、ジオキサ
ン、トルエン、酢酸エチル等を使用すればよい。ピリジ
ン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン等
を塩基性触媒及び／又は溶媒としても使用してもよい。

【００１２】Ｒ¹ が表すスルホン酸残基としては、例え
ば、メシル基、エタンスルホニル基、プロピルスルホニ
ル基、イソプロピルスルホニル基、ベンゼンスルホニル
基、トシル基、ベンジルスルホニル基等を挙げることが
でき、さらに具体的には、-OR¹が-OSO₂R³ で示される場
合、Ｒ³ は、例えば低級アルキル基、トリフルオロメチ
ル基、２−オキソ−10−ボルナニイル基、置換又は未置
換のアリル基、若しくは置換又は未置換のアラルキル基
を表す。低級アルキル基としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブ
チル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基などを挙
げることができる。置換または未置換のアリル基として
は、フェニル基、p-メトキシフェニル基、p-ニトロフェ
ニル基、p-フルオロフェニル基、p,o-ジフルオロフェニ
ル基、p-クロロフェニル基、m-クロロフェニル基、o-ク
ロロフェニル基、o,p-ジクロロフェニル基、p-ブロモフ
ェニル基、p-メチルフェニル基、m-メチルフェニル基、
o,p-ジメチルフェニル基、m,p-ジメチルフェニル基、ナ
フチル基等を挙げることができる。置換または未置換の
アラルキル基としては、ベンジル基、p-ニトロベンジル
基、o,p-ジニトロベンジル基、p-クロロベンジル基、m-
クロロベンジル基、p-メチルベンジル基、m-メチルベン
ジル基、o-メチルベンジル基、o,p-ジメチルベンジル
基、p-メトキシベンジル基、p-フルオロベンジル基を挙
げることができる。

【００１３】上記式(V) の化合物を、例えばアセトン、
２−ブタノン、ジメチルホルムアミド等の不活性溶媒
中、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化リチウ
ム、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチ
ルアンモニウムクロライド等のハロゲン化剤と反応させ
ることにより、選択的に４′位がハロゲン化された式(V
I)で示される化合物を得ることができる。Ｘが示すハロ
ゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子等のいずれでもよい。通常、ハロゲン化反応は前
記スルホニル残基の種類により−30〜 100℃で行えばよ
い。ハロゲン化の条件によっては、２，３位又は３，４
位が二重結合になった化合物が一部生成する場合がある
が、これらの化合物を次工程の原料化合物として用いて
もよい。

【００１４】上記式(VI)で示される化合物をアルカリ条
件下で還元することにより、３位及び４′位を同時に水
素置換して、式(VII) で示される３，４′−ジデオキシ
デスマイコシン誘導体を製造するこができる。該反応
は、例えば、反応に不活性な溶媒中で、触媒存在下に式
(VI)で示される化合物を接触還元することにより行われ
る。アルカリ条件を形成するために用いる塩基として
は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等、好ましく
は炭酸カリウムを用いることができる。これらの塩基
は、通常、基質となる式(VI)で示される化合物に対して
２〜５モルの割合で使用される。接触還元に使用する触
媒としては、白金、パラジウム、ラネーニッケル等、好
ましくはラネーニッケルを挙げることができる。触媒の
使用量は触媒の種類により異なるが、一般に、基質とな
る式(VI)で示される化合物に対して1/10〜１の割合で使
用すればよい。不活性溶媒としては、メタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン等の溶媒を挙げることがで
きる。接触還元を行うにあたり、水素の添加圧を、常圧
〜５Kg/cm²、反応温度を、例えば冷却下〜室温、好まし
くは−10〜30℃として反応を行えばよい。これらの条件
は原料化合物や触媒の種類により異なるが、当業者によ
り適宜選択されるものである。

【００１５】上記の工程により、式(VI)で示される化合
物の３位及び４′位を同時に水素置換することができ、
これにより、式(VI)の化合物から一段階かつ高収率（ほ
ぼ８０％程度）で、式(VII) で示される３，４′−ジデ
オキシデスマイコシン誘導体を得ることができる。この
ようにして得られた式(VII) の化合物は、常法に従って
保護基を除去することにより、本発明の３，４′−ジデ
オキシデスマイコシン又はその塩に変換することができ
る。保護基の除去は、通常、水の存在下に塩酸、硫酸等
の鉱酸で処理するか、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリク
ロル酢酸等の有機酸で処理することにより行えばよい
が、場合によってはジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の溶媒中
でｐ−トルエンスルホン酸等のアリールスルホン酸、メ
タンスルホン酸等のアルキルスルホン酸等を用いて、室
温〜加熱下で処理することによっても行うことができ
る。

【００１６】本発明の方法を用いて得ることができる
３，４′−ジデオキシデスマイコシンは、グラム陽性及
び陰性に属する広範囲の微生物に対して抗菌活性を示す
物質であり、特にエリスロマイシンやジョサマイシンに
耐性のマクロライド耐性菌に対しても優れた抗菌活性を
有するので、抗菌剤として有用である。本発明の３，
４′−ジデオキシデスマイコシンの各種細菌に対する最
小発育素子濃度(MIC) を日本化学療法学会標準法に従っ
て測定した結果を、以下の表１に示す。

【００１７】

【表１】 試験菌 Ａ ＥＭ ＪＭ ─────────────────────────────────── バチルス・ズブチリス 0.05 0.05 0.20 Bacillus subtilis ATCC6633 ミクロコッカス・ルテウス ＜ 0.006 ＜ 0.006 0.012 Micrococcus luteus ATCC9341 スタフィロコッカス・アウレウス 0.024 0.024 0.05 Staphylococcus aureus 209P スタフィロコッカス・アウレウス 0.20 0.10 1.56 Staphylococcus aureus Smith スタフィロコッカス・エピデルミディス 0.05 0.05 0.39 Staphylococcus epidermidis ATCC12228 スタフィロコッカス・アウレウス 0.10 100 0.78 Staphylococcus aureus MS8710^* スタフィロコッカス・アウレウス 0.05 ＞ 100 0.20 Staphylococcus aureus MS11593 ^* スタフィロコッカス・アウレウス 0.05 ＞ 100 ＞ 100 Staphylococcus aureus MS11598 ^* スタフィロコッカス・アウレウス 0.39 ＞ 100 100 Staphylococcus aureus MS11612 ^* スタフィロコッカス・アウレウス 0.78 ＞ 100 ＞ 100 Staphylococcus aureus KS24 ^* ─────────────────────────────────── Ａ ：３，４′−ジデオキシデスマイコシン； ＥＭ：エリスロマイシン； ＪＭ：ジョサマイシン ＊印の試験菌はマクロライド系抗生物質耐性臨床分離株
を示す。 本発明の３，４′−ジデオキシデスマイコシンは、好ま
しくは、有効成分として医薬用組成物に配合され、感染
症の治療剤として患者に投与される。本発明の３，４′
−ジデオキシデスマイコシンを有効成分として含む医薬
組成物は、通常、カプセル剤、錠剤、細粒剤、顆粒剤、
散剤、シロップ剤等の経口投与剤、あるいは注射剤、坐
剤、点眼剤、眼軟膏、点耳剤又は外皮用剤として調製さ
れる。これらの医薬用組成物は常法により製造でき、必
要により崩壊剤、結合剤、滑沢剤、コーティング剤、基
剤、溶解補助剤、等張化剤、安定化剤、pH調節剤等の薬
理学的、製剤学的に許容しうる周知の添加物を加えても
よい。本発明の３，４′−ジデオキシデスマイコシンの
投与量は、投与経路や感染起因菌の種類等により種々変
化させてもよいが、一般に成人の患者に一日当たり５０
〜１０００mg程度で１回又は数回に分けて投与すればよ
い。

【００１８】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されること
はない。 ２′−Ｏ−アセチルデスマイコシン ９，２０−ビス
（エチレンアセタール）の製造

【００１９】

【化８】 ２′−Ｏ−アセチルタイロシン２3.７ｇをトルエン１０
０mlに懸濁、続いてオルト蟻酸エチル１2.３６ｇ（８3.
５mmol）、エチレングリコール１2.９５ｇ（２０8.８mm
ol）及びカンファースルホン酸6.３０ｇ（２7.１mmol）
を加えると均一溶液になった。この溶液を５０℃で２時
間攪拌後、反応液を５％重曹水１００ml、水１００ml、
１０％食塩水で洗浄した。有機層は無水硫酸ナトリウム
で乾燥後減圧乾固すると、トルエン／アセトン（１／
１）展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.４９に硫酸呈色
陽性の表題化合物が２0.２０ｇ得られた。

【００２０】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3470,2975,2938,2882,1746,1236,1169,1
084,961 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.78(3H,bs,H-18), 0.93(3H,t,J=7.3Hz,H-17),1.01
(3H,d,J=6.6Hz,H-21), 1.26(3H,d,J=6.2Hz,H-6″),1.32
(3H,d,J=6.2Hz, H-6′), 1.70(3H,s,H-22),2.01(3H,s,O
COCH₃-2′), 2.39[6H,s,N(CH₃)₂-3′],3.05(1H,t,J=9.5
Hz, H-4′), 3.18(1H,bd,J=7.0Hz, H-4″),3.49(3H,s,O
CH₃-2″),3.62(3H,s,OCH₃-3″),4.55(1H,d,J=8.1Hz,H-1
″),4.64(1H,br,H-1′), 4.96(1H,m,H-20), 4.96(1H,
m,H-15),5.03(1H,dd,J=10.6&7.7Hz, H-2′), 5.42(1H,
d,J=10.6Hz,H-13),5.64(1H,d,J=15.8Hz,H-10), 6.37(1
H,d,J=15.8Hz,H-11) FAB-MS;902(M＋H)⁺ ２′−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデス
マイコシン ９，２０−ビス（エチレンアセタール）の
製造

【００２１】

【化９】 ２′−Ｏ−アセチルデスマイコシン ９，２０−ビス
（エチレンアセタール）１8.９ｇ（２0.９mmol）をトル
エン９４mlに溶解後ピリジン2.５２ml（３1.２mmol）を
加え、−５℃に冷却した。この溶液に塩化トリメチルシ
ラン3.４２ml（２７mmol）を滴下し、同温度で８０分間
反応させた。反応液を５％重曹水１５０ml、１０％食塩
水１５０mlで洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有
機層を減圧濃縮すると、トルエン／アセトン（１／１）
展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.５７に硫酸呈色陽性
の表題化合物が２0.６４ｇ得られた。

【００２２】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3520,2973,2884,1748,1713,1373,1236,1
171,1100,966,882,841cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.17[9H,s,Si(CH₃)₃], 0.77(3H,bs,H-18), 0.91(3H,
t,J=7.3Hz,H-17),1.01(3H,d,J=6.6Hz,H-21), 1.18(3H,
d,J=6.2Hz,H-6″),1.32(3H,d,J=5.9Hz, H-6′), 1.69(3
H,d,J=0.7Hz,H-22),2.01(3H,s,OCOCH₃-2′), 2.38[6H,
s,N(CH₃)₂-3′],2.59(1H,t,J=10.3Hz, H-3 ′), 3.05(1
H,t,J=9.9Hz, H-4 ′),3.28(1H,dd,J=9.2&2.6Hz,H-
4″）, 3.49(3H,s,OCH₃-2″),3.60(3H,s,OCH₃-3″), 4.
59(1H,d,J=7.7Hz,H-1″),4.64(1H,br,H-1′), 4.95(1H,
m,H-20), 4.96(1H,m,H-15),5.03(1H,dd,J=10.6&7.7Hz,
H-2′), 5.42(1H,d,J=10.6Hz,H-13),5.62(1H,d,J=15.8H
z,H-10), 6.36(1H,d,J=15.8Hz,H-11) FAB-MS;974(M＋H)⁺ ２′−Ｏ−アセチル−３，４′−ジ−Ｏ−メタンスルホ
ニル−４″−Ｏ−トリメチルシリル−デスマイコシン
９，２０−ビス（エチレンアセタール）の製造

【００２３】

【化１０】 ２′−Ｏ−アセチル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデス
マイコシン ９，２０−ビス（エチレンアセタール）１
0.０７ｇ（１0.３mmol）をトルエン５０mlに溶解後トリ
エチルアミン7.２０ml（５1.７mmol）を加え−１５℃に
冷却した。この溶液にメタンスルホニルクロリド2.８ml
（３6.２mmol）を加え、−１０℃にて１時間反応させ
た。反応液にトルエン４０mlを加え、有機層を水８０m
l、５％重曹水４０ml、１０％食塩水４０mlで洗浄後無
水硫酸ナトリウムにて乾燥した。有機層を減圧乾固する
と、トルエン／アセトン（３／１）展開のシリカゲルＴ
ＬＣにてRf値0.５５に硫酸呈色陽性の表題化合物が１2.
９４ｇ得られた。この化合物は不安定なため即座に次の
反応に供した。

【００２４】NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.16[9H,s,Si(CH₃)₃], 0.88(3H,d,J=7.3Hz,H-18),0.
92(3H,t,J=7.3Hz,H-17), 1.02(3H,d,J=6.6Hz,H-21),1.1
8(3H,d,J=6.2Hz, H-6″), 1.35(3H,d,J=5.9Hz,H-6′),
1.69(3H,d,J=0.7Hz, H-22), 2.04(3H,s,OCOCH₃-2′),2.
39[6H,s,N(CH₃)₂-3 ′],2.93(1H,t,J=10.3Hz,H-3′),3.
10(3H,s,OMs),3.14(3H,s,OMs), 3.28(1H,dd,J=9.5&2.6H
z,H-4″),3.47(3H,s,OCH₃-2″),3.59(3H,s,OCH₃-3″),
4.22(1H,t,J=9.9Hz,H-4′),4.57(1H,d,J=7.7Hz,H-1
″), 4.60(1H,br,H-1 ′), 4.75(1H,br,H-3),4.93(1H,
m,H-15), 4.96(1H,m,H-20), 5.03(1H,dd,J=10.3&8.0Hz,
H-2 ′),5.47(1H,d,J=11.0Hz,H-13), 5.54(1H,d,J=15.8
Hz,H-10),6.34(1H,d,J=15.8Hz,H-11) FAB-MS; 1130(M＋H)⁺ ２′−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ−４′−ヨード−
３−Ｏ−メタンスルホニル−４″−Ｏ−トリメチルシリ
ルデスマイコシン ９，２０−ビス（エチレンアセター
ル）の製造

【００２５】

【化１１】 ２′−Ｏ−アセチル−３，4 ′−ジ−Ｏ−メタンスルホ
ニル−４″−Ｏ−トリメチルシリルデスマイコシン
９，２０−ビス（エチレンアセタール）１2.９４ｇ（１
1.５mmol）をメチルエチルケトン６０mlに溶解し、ヨウ
化ナトリウム2.５８ｇ（１7.２mmol）を加えて暗所で８
５℃、１時間反応させた。反応液を室温に冷却後析出物
を濾別し、沈殿物をトルエン５mlで洗浄した。洗浄液と
母液とを合わせ減圧濃縮後トルエン６０ml及び水６０ml
を加えて分液した。有機層を１０％チオ硫酸ナトリウム
４０ml、水４０mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥、減圧濃縮乾固すると、トルエン／アセトン（４／
１）展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.５１に硫酸呈色
陽性の表題化合物が１0.７３ｇ得られた。

【００２６】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3443,2973,2940,2886,1746,1360,1233,1
173,1101,1049,966,909,882,843 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.16[9H,s,Si(CH₃)₃], 0.89(3H,d,J=7.3Hz,H-18),0.
92(3H,t,J=7.3Hz,H-17), 1.02(3H,d,J=7.0Hz,H-21),1.1
8(3H,d,J=6.2Hz,H-6 ″), 1.51(3H,d,J=5.9Hz, H-6
′),1.69(3H,d,J=0.7Hz,H-22), 2.02(3H,s,OCOCH₃-2
′),2.42[6H,s,N(CH₃)₂-3 ′], 3.12(3H,s,OMs-3), 3.
47(3H,s,OCH₃-2 ″),3.59(3H,s,OCH₃-3″), 4.57(1H,d,
J=8.1Hz,H-1″),4.57(1H,br,H-1′),4.77(1H,br,H-3),
4.91(1H,dd,J=9.9&7.3Hz, H-2′), 4.93(1H,m,H-15),4.
98(1H,br,H-20), 5.47(1H,d,J=10.6Hz,H-13),5.54(1H,
d,J=15.8Hz,H-10), 6.34(1H,d,J=15.8Hz,H-11) FAB-MS; 1162(M＋H)⁺ ２′−Ｏ−アセチル−３，４′−ジデオキシデスマイコ
シン ９，２０−ビス（エチレンアセタール）の製造

【００２７】

【化１２】 ２′−Ｏ−アセチル−４′−デオキシ−４′−ヨード−
３−Ｏ−メタンスルホニル−４″−Ｏ−トリメチルシリ
ルデスマイコシン ９，２０−ビス（エチレンアセター
ル）１0.７０ｇ（9.２mmol）をメタノール５０mlに溶解
し、炭酸カリウム3.８２ｇ（２7.６mmol）、続いてラネ
ーニッケル（川研ファインケミカル株ＮＤＴ−６５）湿
重量6.４ｇ（５ml）のメタノール８ml懸濁液を加え、水
素圧３Kg／cm² にて２時間接触還元を行なった。触媒を
セライトにて濾別後母液を減圧濃縮した。残査に酢酸エ
チル１００ml、水１００mlを加え、分液した。有機層は
２０％食塩水１００mlで洗浄後減圧濃縮した。濃縮液に
無水酢酸0.８６mlを加え室温で1.５時間反応させた後５
％重曹水３０ml、２０％食塩水３０mlで洗浄した。有機
層は無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧乾固すると、クロ
ロホルム／メタノール（１０／１）展開のシリカゲルＴ
ＬＣにてRf値0.４４に硫酸呈色陽性の表題化合物が7.４
６ｇが得られた。

【００２８】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3476,2973,2938,2882,1744,1373,1238,1
167,1061,961cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.82(3H,bd,J=5.5Hz,H-18), 0.92(3H,t,J=7.3Hz,H-1
7),1.00(3H,d,J=6.6Hz,H-21), 1.23(3H,d,J=6.2Hz,H-
6′),1.26(3H,d,J=6.2Hz,H-6 ″), 1.35(1H,m,H-4′a),
1.71(1H,m,H-4 ′b),1.73(3H,d,J=1.1Hz,H-22), 2.04
(3H,s,OCOCH₃-2 ′),2.26[6H,s,N(CH₃)₂-3 ′], 2.68(1
H,ddd,J=12.3&10.4&4.4Hz,H-3′),3.18(1H,br,H-4″),
3.48(3H,s,OCH₃-2 ″), 3.61(3H,s,OCH₃-3 ″),4.31(1
H,d,J=7.7Hz,H-1 ″), 4.55(1H,d,J=7.7Hz,H-1″),4.80
(1H,dd,J=10.4&7.7Hz,H-2 ′), 4.90(1H,m,H-15),4.95
(1H,bt,J=5.1Hz,H-20), 5.42(1H,d,J=10.6Hz,H-13),5.6
2(1H,d,J=15.8Hz,H-10), 6.36(1H,d,J=15.8Hz,H-11) FAB-MS;870(M＋H)⁺ ３，４′−ジデオキシデスマイコシンの製造 ２′−Ｏ−アセチル−３，４′−ジデオキシデスマイコ
シン ９，２０−ビス（エチレンアセタール）２１１mg
をアセトン0.５mlに溶解後、0.１Ｎ塩酸2.５mlを加えて
５０℃で４時間反応させた。クロロホルム５mlを加えて
有機層を５％重曹水３ml、１０％食塩水５mlで洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に減圧乾
固し、脱アセタール体１７７mgを得た。この化合物をメ
タノール1.７７mlに溶解し、６０℃で1.５時間反応させ
た後、室温で１６時間放置した。反応液を減圧乾固した
後、残渣を少量のクロロホルムに溶解し、シリカゲル
（１２ｇ）のカラムに吸着させ、クロロホルム、クロロ
ホルム／メタノール（10/1）で溶出した。クロロホルム
／メタノール（5/1)展開のシリカゲルＴＬＣでＲｆ値0.
３６に硫酸呈色を示す画分を集めて減圧固化し、表題化
合物７０mgを得た。

【００２９】UV(MeOH)λmax;283nm IR(KBr) νmax;3457,2969,2936,2880,1726,1678,1593,1
456,1381,1314,1167,1078,986cm ^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.93(3H,t,J=7.3Hz,H-17), 1.03(3H,d,J=6.6Hz,H-1
8),1.20(3H,d,J=6.2Hz,H-6'),1.21(3H,d,J=6.6Hz,H-2
1),1.25(1H,m,H-4'a),1.26(1H,d,J=6.2Hz,H-6 ″), 1.3
0(1H,m,H-3a), 1.41(1H,m,H-3b),1.71(1H,m,H-4'b), 1.
81(3H,d,J=1.1Hz,H-22),2.32[6H,s,N(CH₃)₂-3 ′], 3.4
8(3H,s,OCH₃-2 ″),3.61(3H,s,OCH₃-3″), 4.19(1H,d,J
=7.3Hz,H-1'),4.56(1H,d,J=7.7Hz,H-1 ″), 4.91(1H,m,
H-15),5.89(1H,d,J=10.3Hz,H-13), 6.32(1H,d,J=15.2H
z,H-10),7.31(1H,d,J=15.2Hz,H-11), 9.69(1H,s,H-20) FAB-MS;740(M＋H)⁺

【００３０】

【発明の効果】本発明によれば、抗菌剤として有用な
３，４′−ジデオキデスマイコシンが提供される。該化
合物は、エリスロマイシンやジョサマイシン等に耐性の
マクロライド系抗生物質耐性菌に対して強い抗菌作用を
示すので、感染症治療剤として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西田 浩史 神奈川県横須賀市津久井568 グリーンハ イツ11−３−503 (72)発明者 岡本 六郎 神奈川県藤沢市花の木２−18 (72)発明者 竹内 富雄 東京都品川区東五反田５−１−11 701− Ａ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式： 【化１】 で示される３，４′−ジデオキシデスマイコシン。