JPH06210444A - 液体雰囲気を利用したはんだ付方法 - Google Patents

液体雰囲気を利用したはんだ付方法

Info

Publication number
JPH06210444A
JPH06210444A JP2173093A JP2173093A JPH06210444A JP H06210444 A JPH06210444 A JP H06210444A JP 2173093 A JP2173093 A JP 2173093A JP 2173093 A JP2173093 A JP 2173093A JP H06210444 A JPH06210444 A JP H06210444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
soldering
liquid
inert
atmosphere
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2173093A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Gonda
誠 権田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuroda Denki KK
Original Assignee
Kuroda Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuroda Denki KK filed Critical Kuroda Denki KK
Priority to JP2173093A priority Critical patent/JPH06210444A/ja
Publication of JPH06210444A publication Critical patent/JPH06210444A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Molten Solder (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 はんだ付におけるコストを低減し、管理を容
易にするとともに、はんだバンプ等の盛付形状等の変更
調節を可能にする。 【構成】 溶解はんだ1を噴流させる噴流部1bにはん
だ付加工部材12を接触させてはんだ付を行う方法にお
いて、はんだ付のための不活性雰囲気を形成するために
不活性材11として、はんだの溶解温度に対して耐熱性
を備えたオイル等の液体を使用した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は液体雰囲気を利用した
はんだ付方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来溶解はんだが噴流するはんだ槽内に
おいて、はんだの酸化防止のため窒素ガス等の不活性ガ
ス中で、半導体ウエハ等のはんだ付加工部材を上記はん
だ噴流に接触させ、さらにはんだやはんだ付部に超音波
を印加する方法が、特開昭63−58947号等におい
て公知である。またはんだ槽内のはんだ液面上にオイル
フェンスを形成してはんだ液面の酸化を防止する方法も
知られているが、液体不活性雰囲気でのはんだ付方法は
存在しなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記のような従
来のはんだ付方法では、不活性雰囲気を形成するために
窒素ガス等のガスを利用するので、材料コストが大きく
なるほか、雰囲気形成装置のコストや管理コストがかか
り、またはんだ付作業も非能率であるという欠点があっ
た。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記のような問題点を解
決するための本発明の方法は、溶解はんだ1を収容する
はんだ槽2内の収容はんだ表面1aに溶解はんだ1を噴
流させるとともに、該はんだの噴流部1bを不活性材1
1によって不活性雰囲気とし、該不活性雰囲気内ではん
だ付加工部材12をはんだ噴流部1bに接触させてはん
だ付を行う方法において、上記不活性材11としてはん
だより小比重で耐熱性を備えた液体をはんだ槽2内に収
容したことを特徴としており、さらに噴流部に超音波振
動を印加することにより溶解はんだ1の付着性を向上さ
せることを第2の特徴としている。
【0005】
【作用】はんだ槽2内の溶解はんだ1の液面1a上に収
容された液体不活性材11は、はんだ噴流部1bとはん
だ付加工部材12とによるはんだ付時に、両者の不活性
雰囲気を形成するとともに、はんだ1の表面張力に影響
を与えることで、例えばはんだバンプ18等の盛付形状
や大きさに影響を与え、この影響は不活性材11の材質
や種類によって異なる。また液体不活性材11を使用す
ることで、不活性ガスが不要化し、ガス雰囲気を形成す
るための装置及びガスの管理も不要となる。
【0006】
【実施例】図1は本発明の一実施例を示し、この例では
溶解はんだ1を収容するはんだ槽2内に、上下端が開口
した筒状の還流路3が固定的に設置され、該還流路3の
上端(噴流口4)ははんだ液面1a上に突出し、下端
(吸引口6)は底部のはんだ1内で開口している。吸引
口6内にはモーター7によって回転駆動して、はんだ1
を還流路3内に吸引し、噴流口4に噴流させて噴流部1
bを形成させる還流装置8が設けられ、はんだ槽2の底
部内周側には、はんだ1を溶解させるための加熱用ヒー
ター9が配置されている。
【0007】はんだ槽2の溶解はんだ1の上部には、は
んだ1より低比重ではんだ1の融点よりも高い沸点を有
する耐熱性オイル等の液体からなる不活性材11が層を
なして収容されており、該不活性材11の液面11aは
はんだ1の液面1aより上部に位置している。前記はん
だ1の噴流部1bにはウエハ等のはんだ付加工部材12
が不活性材11の層を貫くように挿入され、加工部材1
2のはんだ付面12aを、噴流部1bの表面に接触させ
又は内部に侵漬することによって所定箇所のはんだ付を
行う。13は加工部材12を係脱自在に把持して上記侵
漬操作を行うワークホルダである。上記はんだ付に際
し、噴流部1b内には側方又は噴流口4の内部下方より
噴流部1bのはんだ付部分のはんだに超音波振動を与え
る超音波振動子14が必要に応じて挿入され、上記はん
だ付の付着性を高めるように作用させる。
【0008】本例における前記加工部材12は図2,図
3に示すように基板16表面に微細幅の電極17がプリ
ント等によって付着され、その表面には図3に示すよう
なはんだバンプ18が予備はんだとして付着される。そ
して該はんだバンプ18上に図2に示すように各種の電
子部品19の端子21が最終的にはんだ付されるもので
ある。
【0009】上記はんだバンプ18は元来付着すべき電
子部品又は端子21の種類や大小に応じてその付着量や
付着形状を変更することが望ましいが、本発明方法によ
れば、溶解はんだ1のもつ表面張力を不活性材11の材
質によって変更することで上記はんだバンプ18の盛付
形状を変更することが可能である。ちなみに液体の表面
張力の大小は物体の分子間に作用する引力の大小による
ことが知られているが、液体を気体にするための蒸発熱
も分子間の引力に逆らう方法で作用するため、蒸発熱の
大きい液体は表面張力も大きいことも知られている。
【0010】同時に表面張力の大小は液体表面が接触す
る表面雰囲気の物質の性情と関係するから、これを溶解
はんだについて考えると、溶解はんだの表面に働く張力
と雰囲気物質の表面に働く張力の差(ベクトル差)がは
んだの表面張力となる。上記の結果不活性材11に表面
張力(蒸発熱)のことなる物質を選択することにより、
前記はんだバンプ18の盛付形状や盛付量を、例えば図
3の実線又は仮想線で示すように変更することが可能と
なる。
【発明の効果】以上のように構成される本発明の方法に
よれば、はんだ付の不活性(非酸化)雰囲気に窒素ガス
等の不活性ガスを用いる代わりに、耐熱性オイル等の液
体を用いることができるのでコスト低減が可能になり、
雰囲気形成のための諸装置の不要化、管理の容易性等の
利点を生じる。また表面張力の異なる各種の不活性材を
選択することにより、ウエハ等の予備はんだの形状や大
きさを目的に応じて調整することができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施状態を示すはんだ槽の正面図。
【図2】はんだ付加工部材のはんだ付状態の一例を示す
正面図。
【図3】はんだ付加工部材のはんだバンプを示す部分拡
大断面図。
【符号の説明】
1 溶解はんだ 1a はんだ液(表)面 1b 噴流部 2 はんだ槽 11 不活性材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶解はんだ(1)を収容するはんだ槽
    (2)内の収容はんだ表面(1a)に溶解はんだ(1)
    を噴流させるとともに、該はんだの噴流部(1b)を不
    活性材(11)によって不活性雰囲気とし、該不活性雰
    囲気内ではんだ付加工部材(12)をはんだ噴流部(1
    b)に接触させてはんだ付を行う方法において、上記不
    活性材(11)としてはんだより小比重で耐熱性を備え
    た液体をはんだ槽(2)内に収容してなる液体雰囲気を
    利用したはんだ付方法。
  2. 【請求項2】 噴流部に超音波振動を印加することによ
    り溶解はんだ(1)の付着性を向上させる請求項1に記
    載の液体雰囲気を利用したはんだ付方法。
JP2173093A 1993-01-14 1993-01-14 液体雰囲気を利用したはんだ付方法 Pending JPH06210444A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2173093A JPH06210444A (ja) 1993-01-14 1993-01-14 液体雰囲気を利用したはんだ付方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2173093A JPH06210444A (ja) 1993-01-14 1993-01-14 液体雰囲気を利用したはんだ付方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06210444A true JPH06210444A (ja) 1994-08-02

Family

ID=12063199

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2173093A Pending JPH06210444A (ja) 1993-01-14 1993-01-14 液体雰囲気を利用したはんだ付方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06210444A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4901138A (en) * 1986-12-04 1990-02-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor converter

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141368A (ja) * 1983-01-31 1984-08-14 Toshiba Seiki Kk ろう付装置
JPS6216876A (ja) * 1985-07-17 1987-01-26 Tamura Seisakusho Co Ltd はんだ付け方法
JPS6418569A (en) * 1987-07-15 1989-01-23 Hitachi Ltd Soldering wave former

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141368A (ja) * 1983-01-31 1984-08-14 Toshiba Seiki Kk ろう付装置
JPS6216876A (ja) * 1985-07-17 1987-01-26 Tamura Seisakusho Co Ltd はんだ付け方法
JPS6418569A (en) * 1987-07-15 1989-01-23 Hitachi Ltd Soldering wave former

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4901138A (en) * 1986-12-04 1990-02-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor converter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8048479B2 (en) Method for placing material onto a target board by means of a transfer board
EP0336659B1 (en) Method and apparatus for applying flux to a substrate
US4821947A (en) Fluxless application of a metal-comprising coating
KR100270837B1 (ko) 터미널면의납땜방법및땜납합금의제조방법
JP2000509203A (ja) はんだバンプの形成方法
US6347732B1 (en) Circuit board component retention
JPH06210444A (ja) 液体雰囲気を利用したはんだ付方法
JPH0331785B2 (ja)
JPH08203904A (ja) はんだバンプ形成方法
JPH02284426A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2000517104A (ja) 選択的はんだ付けのためのプロセス
JP4505783B2 (ja) 半田バンプの製造方法及び製造装置
JPH0582976B2 (ja)
JPH07178540A (ja) 電子部品の超音波半田付け装置
JP3152230B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
JPH05235103A (ja) Ic実装方法
JPH04293297A (ja) プリント配線板および半田付け方法
JP3478734B2 (ja) バンプ付電子部品の実装方法および実装体
JP3267280B2 (ja) 電子印字装置
KR950005124A (ko) 디바이스의 표면 실장 방법
JPH11214569A (ja) バンプ形成方法および装置
JPH1197839A (ja) 電子部品実装用基板、電子部品実装基板及び実装方法並びに基板の被接合部材
JPH05347473A (ja) 配線基板
JP3060591B2 (ja) 半導体装置の実装方法、電子光学装置の製造方法及び電子印字装置の製造方法
JPH0256989B2 (ja)