JPH06209051A - 半導体用パッケージ - Google Patents
半導体用パッケージInfo
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
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- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 部品取付精度の向上、部品付作業の削減を図
る。 【構成】 半導体用パッケージを構成している部品のう
ちの、外部取出用パターン13を施しているアルミナ基
板12上に、出力整合回路パターン13aを、同時に同
一ペーストを用いて外部取出用パターン13と一体に印
刷形成し、パッケージを構成する。 【効果】 高周波性能の安定化、パッケージを構成する
部品のコストを低減できる。
る。 【構成】 半導体用パッケージを構成している部品のう
ちの、外部取出用パターン13を施しているアルミナ基
板12上に、出力整合回路パターン13aを、同時に同
一ペーストを用いて外部取出用パターン13と一体に印
刷形成し、パッケージを構成する。 【効果】 高周波性能の安定化、パッケージを構成する
部品のコストを低減できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体用パッケージ
に関し、特に送信段高周波高出力増幅器用ICのパッケ
ージ構造に関するものである。
に関し、特に送信段高周波高出力増幅器用ICのパッケ
ージ構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は従来のパッケージの斜視図、図5
は図4の展開斜視図(リードは図示せず)、図6(a),
(b) はそのパッケージへの素子の実装平面図、及びX−
X断面図を示す。
は図4の展開斜視図(リードは図示せず)、図6(a),
(b) はそのパッケージへの素子の実装平面図、及びX−
X断面図を示す。
【0003】図において、1は金属またはメタライズが
形成(図示せず)されたアルミナ等のベース板、2は外
部リード取付用、及びパッケージ内部に収納された半導
体素子等からの金線等を接続するためのアルミナ等の基
板、3は該基板2上に形成された、外部リードと接続さ
れる外部出力端子パターンのメタライズ、4は外部リー
ド、5はパッケージシールのためのセラミック枠、6,
7は半導体素子、8は出力整合回路基板、9は回路整合
用のコンデンサ、10は金線等の金属細線、11は半導
体素子接合用のAnSn等の半田または樹脂である。
形成(図示せず)されたアルミナ等のベース板、2は外
部リード取付用、及びパッケージ内部に収納された半導
体素子等からの金線等を接続するためのアルミナ等の基
板、3は該基板2上に形成された、外部リードと接続さ
れる外部出力端子パターンのメタライズ、4は外部リー
ド、5はパッケージシールのためのセラミック枠、6,
7は半導体素子、8は出力整合回路基板、9は回路整合
用のコンデンサ、10は金線等の金属細線、11は半導
体素子接合用のAnSn等の半田または樹脂である。
【0004】図4,図5において、従来の半導体用パッ
ケージは、ベース板1とタングステン等のメタライズ3
が形成されたアルミナ等の基板2、外部リード4、及び
セラミック枠5がAgロー付、焼成等により接着され、
その後Ni,Au等の仕上げめっきが金属部及びメタラ
イズ部に施され、形成される。ベース板1は、Cu,C
uW等の金属または、アルミナ等のセラミックで構成さ
れ、セラミックの場合セラミックの表面1a,裏面1c
にタングステン等のメタライズが施され、表裏面の導通
には、セラミック側面1bへのメタライズ、スルーホー
ル部1dのメタライズ等が使用される。
ケージは、ベース板1とタングステン等のメタライズ3
が形成されたアルミナ等の基板2、外部リード4、及び
セラミック枠5がAgロー付、焼成等により接着され、
その後Ni,Au等の仕上げめっきが金属部及びメタラ
イズ部に施され、形成される。ベース板1は、Cu,C
uW等の金属または、アルミナ等のセラミックで構成さ
れ、セラミックの場合セラミックの表面1a,裏面1c
にタングステン等のメタライズが施され、表裏面の導通
には、セラミック側面1bへのメタライズ、スルーホー
ル部1dのメタライズ等が使用される。
【0005】図6(a),(b) において、半導体素子6,7
はGaAs等の化合物ICであり、出力整合回路基板8
は、アルミナ表裏全面に薄膜でAuのメタライズが施さ
れ、その表面がエッチングされてパターンが形成される
ことによって形成される。
はGaAs等の化合物ICであり、出力整合回路基板8
は、アルミナ表裏全面に薄膜でAuのメタライズが施さ
れ、その表面がエッチングされてパターンが形成される
ことによって形成される。
【0006】半導体素子6,7、及び出力整合回路基板
8はパッケージ内のベース板1上にAuSn等の半田1
1により接着され、出力整合回路基板8上には回路整合
等用のコンデンサ9が接着され、その後半導体素子6,
7、出力整合回路基板8の各々の電極と、アルミナ等の
基板2上に施されたメタライズ3とが、金線等の金属細
線10により接続され、外部リード4の各端子へ電気的
に接続される。その後セラミック枠体5,上面5a部に
施されたメタライズを介して金属等のフタ(図示せず)
が、AuSnシーム溶接等により接着され、封止され
る。
8はパッケージ内のベース板1上にAuSn等の半田1
1により接着され、出力整合回路基板8上には回路整合
等用のコンデンサ9が接着され、その後半導体素子6,
7、出力整合回路基板8の各々の電極と、アルミナ等の
基板2上に施されたメタライズ3とが、金線等の金属細
線10により接続され、外部リード4の各端子へ電気的
に接続される。その後セラミック枠体5,上面5a部に
施されたメタライズを介して金属等のフタ(図示せず)
が、AuSnシーム溶接等により接着され、封止され
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来のパッケージへの
半導体素子等の実装は、以上のように構成されているの
で、半導体素子、出力整合回路基板のパッケージ内への
接着時、該半導体素子、出力整合回路基板の位置ズレが
発生しやすく、これにより半導体素子6,7上の電極位
置、出力整合回路基板8上の整合回路パターンの位置
と、パッケージ上の外部リード4に接続されたアルミナ
基板2上のメタライズ3との間の距離が一定せず、各々
を接続する金線10の長さがバラツキ、性能の不安定、
低下を招き、歩留りが低下する等の問題があった。
半導体素子等の実装は、以上のように構成されているの
で、半導体素子、出力整合回路基板のパッケージ内への
接着時、該半導体素子、出力整合回路基板の位置ズレが
発生しやすく、これにより半導体素子6,7上の電極位
置、出力整合回路基板8上の整合回路パターンの位置
と、パッケージ上の外部リード4に接続されたアルミナ
基板2上のメタライズ3との間の距離が一定せず、各々
を接続する金線10の長さがバラツキ、性能の不安定、
低下を招き、歩留りが低下する等の問題があった。
【0008】また、出力整合回路基板8は薄膜であるた
め、パッケージを含めデバイス全体のコストが高くなる
という問題があった。
め、パッケージを含めデバイス全体のコストが高くなる
という問題があった。
【0009】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、各部品を位置精度よく取りつ
けることができ、かつ低コストとすることのできる半導
体用パッケージを得ることを目的とする。
るためになされたもので、各部品を位置精度よく取りつ
けることができ、かつ低コストとすることのできる半導
体用パッケージを得ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体用
パッケージは、出力整合回路パターンの基板に、外部リ
ードと接続される外部出力端子パターンを同時に印刷し
たアルミナ基板を用い、ベース板、セラミック枠体、外
部リード等を、該アルミナ基板に対してAgロー付、焼
成することにより、接着して形成するようにしたもので
ある。
パッケージは、出力整合回路パターンの基板に、外部リ
ードと接続される外部出力端子パターンを同時に印刷し
たアルミナ基板を用い、ベース板、セラミック枠体、外
部リード等を、該アルミナ基板に対してAgロー付、焼
成することにより、接着して形成するようにしたもので
ある。
【0011】また、この発明に係る半導体パッケージ
は、上記出力整合回路パターンと上記外部出力端子パタ
ーンをメタライズを介して導通させたものである。
は、上記出力整合回路パターンと上記外部出力端子パタ
ーンをメタライズを介して導通させたものである。
【0012】また、この発明に係る半導体パッケージ
は、上記出力整合回路パターンと上記外部出力端子パタ
ーンを分離して形成したものである。
は、上記出力整合回路パターンと上記外部出力端子パタ
ーンを分離して形成したものである。
【0013】
【作用】この発明においては、パッケージの出力整合回
路パターン部を、メタライズにより、外部リードにつな
がる外部出力端子パターンと同一基板上に印刷形成する
ので、該出力整合回路パターンをパッケージ内に位置精
度良く設けることが可能となる。
路パターン部を、メタライズにより、外部リードにつな
がる外部出力端子パターンと同一基板上に印刷形成する
ので、該出力整合回路パターンをパッケージ内に位置精
度良く設けることが可能となる。
【0014】また、本発明においては、出力整合回路パ
ターン部を外部出力端子パターンと同一基板上に設ける
ため、出力整合回路基板をなくすことが可能となり、デ
バイスは低コストとなる。
ターン部を外部出力端子パターンと同一基板上に設ける
ため、出力整合回路基板をなくすことが可能となり、デ
バイスは低コストとなる。
【0015】
実施例1.図1は本発明の一実施例による半導体用パッ
ケージの斜視図、図2は図1の展開斜視図(リードは図
示せず)、図3(a),(b) は本パッケージへの素子の実装
平面図、及びY−Y断面図を示す。
ケージの斜視図、図2は図1の展開斜視図(リードは図
示せず)、図3(a),(b) は本パッケージへの素子の実装
平面図、及びY−Y断面図を示す。
【0016】図1,図2,図3(a),(b) において、1は
金属またはメタライズが形成(図示せず)されたアルミ
ナ等のベース板、4は外部リード、5はパッケージシー
ルのためのセラミック枠、6,7は半導体素子、10は
金線等の金属細線、11は半導体素子接合用のAnSn
等の半田または樹脂、12は本発明のアルミナ基板、1
3は外部リード4取出のための、および内部半導体素子
よりの金線10を接続するためのメタライズ、13aは
出力整合回路パターンである。
金属またはメタライズが形成(図示せず)されたアルミ
ナ等のベース板、4は外部リード、5はパッケージシー
ルのためのセラミック枠、6,7は半導体素子、10は
金線等の金属細線、11は半導体素子接合用のAnSn
等の半田または樹脂、12は本発明のアルミナ基板、1
3は外部リード4取出のための、および内部半導体素子
よりの金線10を接続するためのメタライズ、13aは
出力整合回路パターンである。
【0017】図1,図2において、アルミナ基板12上
には、外部リード取出用メタライズ13と、出力整合回
路パターン部13aとが、同時にタングステン等のペー
ストで印刷されている。また、出力整合回路パターン1
3aと外部リード取出しパターン13とは、前記印刷時
に接続される。このアルミナ基板12と、外部リード
4、ベース板1、セラミック枠5とがAgロー付、焼成
により接着され、その後仕上げのNi,Auめっきが出
力整合回路パターン部13aを含んで、金属部、メタラ
イズ部に施され、本実施例の半導体用パッケージが形成
される。
には、外部リード取出用メタライズ13と、出力整合回
路パターン部13aとが、同時にタングステン等のペー
ストで印刷されている。また、出力整合回路パターン1
3aと外部リード取出しパターン13とは、前記印刷時
に接続される。このアルミナ基板12と、外部リード
4、ベース板1、セラミック枠5とがAgロー付、焼成
により接着され、その後仕上げのNi,Auめっきが出
力整合回路パターン部13aを含んで、金属部、メタラ
イズ部に施され、本実施例の半導体用パッケージが形成
される。
【0018】図3において、半導体素子6,7はアルミ
ナ基板12の空間部12aを介してAuSn11等によ
りベース板1へ接着する。その後、半導体素子6,7と
アルミナ基板12上の出力整合回路パターン部13aと
が金線10により接続され、また回路整合用のコンデン
サ9と出力整合回路パターン部13aとが金線10によ
り接続される。その後の封止は、従来と同様の工程で行
われる。
ナ基板12の空間部12aを介してAuSn11等によ
りベース板1へ接着する。その後、半導体素子6,7と
アルミナ基板12上の出力整合回路パターン部13aと
が金線10により接続され、また回路整合用のコンデン
サ9と出力整合回路パターン部13aとが金線10によ
り接続される。その後の封止は、従来と同様の工程で行
われる。
【0019】このように本実施例1においては、出力整
合回路パターン13aと外部リード取り出しパターン1
3を同一のアルミナ基板12上に設けたことにより、出
力整合回路基板の位置決めが不要となり、出力整合回路
パターン13aの位置精度の高い取付が可能となる。ま
た、従来のような薄い出力整合回路基板をなくすことが
可能となり、デバイスを低コストとすることができる。
合回路パターン13aと外部リード取り出しパターン1
3を同一のアルミナ基板12上に設けたことにより、出
力整合回路基板の位置決めが不要となり、出力整合回路
パターン13aの位置精度の高い取付が可能となる。ま
た、従来のような薄い出力整合回路基板をなくすことが
可能となり、デバイスを低コストとすることができる。
【0020】実施例2.図7は本発明の一実施例による
半導体用パッケージを示し、図において、図3と同一の
符号は同一または相当する部分を示し、13bは出力整
合回路パターン部である。
半導体用パッケージを示し、図において、図3と同一の
符号は同一または相当する部分を示し、13bは出力整
合回路パターン部である。
【0021】本実施例2においては、外部リード取出部
13と、出力整合回路パターン部13bは接続されず、
独立したメタライズ部としてアルミナ基板12上に同時
に印刷されている。本実施例2においても、上記実施例
1と同様の効果を得ることができる。
13と、出力整合回路パターン部13bは接続されず、
独立したメタライズ部としてアルミナ基板12上に同時
に印刷されている。本実施例2においても、上記実施例
1と同様の効果を得ることができる。
【0022】
【発明の効果】以上のように、この発明にかかる半導体
用パッケージによれば、出力整合回路部を外部取出用ア
ルミナ基板上のメタライズと同時に印刷形成することに
より、出力整合回路パターンの位置精度の向上を図るこ
とができ、性能の安定したデバイスを歩留りよく得られ
る効果がある。またこれにより出力整合回路基板が不要
となり、安価なパッケージを得ることができる効果があ
る。
用パッケージによれば、出力整合回路部を外部取出用ア
ルミナ基板上のメタライズと同時に印刷形成することに
より、出力整合回路パターンの位置精度の向上を図るこ
とができ、性能の安定したデバイスを歩留りよく得られ
る効果がある。またこれにより出力整合回路基板が不要
となり、安価なパッケージを得ることができる効果があ
る。
【図1】本発明の一実施例による半導体用パッケージの
斜視図。
斜視図。
【図2】図1の半導体用パッケージの展開斜視図。
【図3】図1の半導体用パッケージの実装図(図(a) )
及びその断面図(図(b) )。
及びその断面図(図(b) )。
【図4】従来の半導体用パッケージの斜視図。
【図5】図4の半導体用パッケージの展開斜視図。
【図6】図4の半導体用パッケージの実装図(図(a) )
及びその断面図(図(b) )。
及びその断面図(図(b) )。
【図7】本発明の実施例2による半導体用パッケージを
示す図。
示す図。
1 ベース板 1a ベース板表面 1b ベース板側面 1c ベース板裏面 1d スルーホール 2 アルミナ基板 3 アルミナ基板上メタライズ 4 外部リード 5 セラミック枠体 6,7 半導体素子 8 出力整合回路基板 9 コンデンサ 10 金線 11 AuSn半田 12 本発明のアルミナ基板 12a 空間部 13 本発明のアルミナ基板上メタライズ 13a 出力整合回路パターン 13b 出力整合回路パターン
【手続補正書】
【提出日】平成6年3月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】図において、1は金属またはメタライズが
形成(図示せず)されたアルミナ等のベース板、2は外
部リード取付用、及びパッケージ内部に収納された半導
体素子等からの金線等を接続するためのアルミナ等の基
板、3は該基板2上に形成された、外部リードと接続さ
れる外部出力端子パターンのメタライズ、4は外部リー
ド、5はパッケージシールのためのセラミック枠、6,
7は半導体素子、8は出力整合回路基板、9は回路整合
用のコンデンサ、10は金線等の金属細線、11は半導
体素子接合用のAuSn等の半田または樹脂である。
形成(図示せず)されたアルミナ等のベース板、2は外
部リード取付用、及びパッケージ内部に収納された半導
体素子等からの金線等を接続するためのアルミナ等の基
板、3は該基板2上に形成された、外部リードと接続さ
れる外部出力端子パターンのメタライズ、4は外部リー
ド、5はパッケージシールのためのセラミック枠、6,
7は半導体素子、8は出力整合回路基板、9は回路整合
用のコンデンサ、10は金線等の金属細線、11は半導
体素子接合用のAuSn等の半田または樹脂である。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】半導体素子6,7、及び出力整合回路基板
8はパッケージ内のベース板1上にAuSn等の半田1
1により接着され、出力整合回路基板8上には回路整合
等用のコンデンサ9が接着され、その後半導体素子6,
7、出力整合回路基板8の各々の電極と、アルミナ等の
基板2上に施されたメタライズ3とが、金線等の金属細
線10により接続され、外部リード4の各端子へ電気的
に接続される。その後セラミック枠体5,上面5a部に
施されたメタライズを介して金属等のフタ(図示せず)
が、AuSnを用いた半田,及びシーム溶接等により接
着され、封止される。
8はパッケージ内のベース板1上にAuSn等の半田1
1により接着され、出力整合回路基板8上には回路整合
等用のコンデンサ9が接着され、その後半導体素子6,
7、出力整合回路基板8の各々の電極と、アルミナ等の
基板2上に施されたメタライズ3とが、金線等の金属細
線10により接続され、外部リード4の各端子へ電気的
に接続される。その後セラミック枠体5,上面5a部に
施されたメタライズを介して金属等のフタ(図示せず)
が、AuSnを用いた半田,及びシーム溶接等により接
着され、封止される。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来のパッケージへの
半導体素子等の実装は、以上のように構成されているの
で、半導体素子、出力整合回路基板のパッケージ内への
接着時、該半導体素子、出力整合回路基板の位置ズレが
発生しやすく、これにより半導体素子6,7上の電極位
置、出力整合回路基板8上の整合回路パターンの位置
と、パッケージ上の外部リード4に接続されたアルミナ
基板2上のメタライズ3との間の距離が一定せず、各々
を接続する金線10の長さがばらつき、性能の不安定、
低下を招き、歩留りが低下する等の問題があった。
半導体素子等の実装は、以上のように構成されているの
で、半導体素子、出力整合回路基板のパッケージ内への
接着時、該半導体素子、出力整合回路基板の位置ズレが
発生しやすく、これにより半導体素子6,7上の電極位
置、出力整合回路基板8上の整合回路パターンの位置
と、パッケージ上の外部リード4に接続されたアルミナ
基板2上のメタライズ3との間の距離が一定せず、各々
を接続する金線10の長さがばらつき、性能の不安定、
低下を招き、歩留りが低下する等の問題があった。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】図1,図2,図3(a),(b) において、1は
金属またはメタライズが形成(図示せず)されたアルミ
ナ等のベース板、4は外部リード、5はパッケージシー
ルのためのセラミック枠、6,7は半導体素子、10は
金線等の金属細線、11は半導体素子接合用のAuSn
等の半田または樹脂、12は本発明のアルミナ基板、1
3は外部リード4取出のための、および内部半導体素子
よりの金線10を接続するためのメタライズ、13aは
出力整合回路パターンである。
金属またはメタライズが形成(図示せず)されたアルミ
ナ等のベース板、4は外部リード、5はパッケージシー
ルのためのセラミック枠、6,7は半導体素子、10は
金線等の金属細線、11は半導体素子接合用のAuSn
等の半田または樹脂、12は本発明のアルミナ基板、1
3は外部リード4取出のための、および内部半導体素子
よりの金線10を接続するためのメタライズ、13aは
出力整合回路パターンである。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0017
【補正方法】変更
【補正内容】
【0017】図1,図2において、アルミナ基板12上
には、外部リード取出用メタライズ13と、出力整合回
路パターン部13aとが、同時にタングステン,Mo−
Mn等のペーストで印刷されている。また、出力整合回
路パターン13aと外部リード取出しパターン13と
は、前記印刷時に接続される。このアルミナ基板12
と、外部リード4、ベース板1、セラミック枠5とがA
gロー付、焼成により接着され、その後仕上げのNi,
Auめっきが出力整合回路パターン部13aを含んで、
金属部、メタライズ部に施され、本実施例の半導体用パ
ッケージが形成される。
には、外部リード取出用メタライズ13と、出力整合回
路パターン部13aとが、同時にタングステン,Mo−
Mn等のペーストで印刷されている。また、出力整合回
路パターン13aと外部リード取出しパターン13と
は、前記印刷時に接続される。このアルミナ基板12
と、外部リード4、ベース板1、セラミック枠5とがA
gロー付、焼成により接着され、その後仕上げのNi,
Auめっきが出力整合回路パターン部13aを含んで、
金属部、メタライズ部に施され、本実施例の半導体用パ
ッケージが形成される。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】このように本実施例1においては、出力整
合回路パターン13aと外部リード取り出しパターン1
3を同一のアルミナ基板12上に設けたことにより、出
力整合回路基板の位置決めが不要となり、出力整合回路
パターン13aの位置精度の高い取付が可能となる。ま
た、出力整合回路パターン13aと外部リード取り出し
パターン13とを接続した状態で印刷形成することがで
きるから、従来のような薄膜の出力整合回路基板をなく
すことが可能となり、デバイスを低コストとすることが
できる。
合回路パターン13aと外部リード取り出しパターン1
3を同一のアルミナ基板12上に設けたことにより、出
力整合回路基板の位置決めが不要となり、出力整合回路
パターン13aの位置精度の高い取付が可能となる。ま
た、出力整合回路パターン13aと外部リード取り出し
パターン13とを接続した状態で印刷形成することがで
きるから、従来のような薄膜の出力整合回路基板をなく
すことが可能となり、デバイスを低コストとすることが
できる。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】本実施例2においては、外部リード取出部
13と、出力整合回路パターン部13bは接続されず、
独立したメタライズ部としてアルミナ基板12上に同時
に印刷されている。本実施例2においても、上記実施例
1と同様の効果を得ることができる。なお、上記各実施
例においては、基板12の材料としてアルミナを用いる
ようにしたが、窒化アルミニウム,Cu,Cu−Wを用
いるようにしても同様の効果を得ることができる。ま
た、上記各実施例においては出力整合回路パターン13
a,13bをタングステン等を印刷することにより形成
した場合について説明したが、本発明は印刷を行う代わ
りにCu箔をはりつけて上記パターンを形成するように
した場合についても適用でき、上記各実施例と同様の効
果を得ることができる。
13と、出力整合回路パターン部13bは接続されず、
独立したメタライズ部としてアルミナ基板12上に同時
に印刷されている。本実施例2においても、上記実施例
1と同様の効果を得ることができる。なお、上記各実施
例においては、基板12の材料としてアルミナを用いる
ようにしたが、窒化アルミニウム,Cu,Cu−Wを用
いるようにしても同様の効果を得ることができる。ま
た、上記各実施例においては出力整合回路パターン13
a,13bをタングステン等を印刷することにより形成
した場合について説明したが、本発明は印刷を行う代わ
りにCu箔をはりつけて上記パターンを形成するように
した場合についても適用でき、上記各実施例と同様の効
果を得ることができる。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】
【発明の効果】以上のように、この発明にかかる半導体
用パッケージによれば、出力整合回路部を外部リード取
出用アルミナ基板上のメタライズと同時に印刷形成する
ことにより、出力整合回路パターンの位置精度の向上を
図ることができ、性能の安定したデバイスを歩留りよく
得られる効果がある。またこれにより出力整合回路基板
が不要となり、安価なパッケージを得ることができる効
果がある。
用パッケージによれば、出力整合回路部を外部リード取
出用アルミナ基板上のメタライズと同時に印刷形成する
ことにより、出力整合回路パターンの位置精度の向上を
図ることができ、性能の安定したデバイスを歩留りよく
得られる効果がある。またこれにより出力整合回路基板
が不要となり、安価なパッケージを得ることができる効
果がある。
Claims (5)
- 【請求項1】 Cu、Cu−W、窒化アルミニウム、ま
たは、アルミナで構成されるベース基板と、該ベース基
板上に外部リードを挟んで接着されるセラミック枠体と
を備えてなる半導体用パッケージにおいて、 上記ベース基板とセラミック枠体との間に、その表面に
上記外部リードにつながる外部出力端子パターン及び出
力整合回路パターンを形成してなるセラミック板を介挿
されていることを特徴とする半導体用パッケージ。 - 【請求項2】 請求項1記載の半導体用パッケージにお
いて、 上記出力整合回路パターンがW,Mo−Mnのペースト
で形成されていることを特徴とする半導体用パッケー
ジ。 - 【請求項3】 請求項1記載の半導体用パッケージにお
いて、 上記出力整合回路パターンがCu箔の貼り付けで形成さ
れていることを特徴とする半導体用パッケージ。 - 【請求項4】 請求項2または3記載の半導体用パッケ
ージにおいて、 上記出力整合回路パターンが、上記外部リードにつなが
る外部出力端子パターンとメタライズを介して導通され
ていることを特徴とする半導体用パッケージ。 - 【請求項5】 請求項2または3記載の半導体用パッケ
ージにおいて、 上記出力整合回路パターンと、上記外部リードにつなが
る外部出力端子パターンとが分離されていることを特徴
とする半導体用パッケージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5001506A JPH06209051A (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 半導体用パッケージ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5001506A JPH06209051A (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 半導体用パッケージ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06209051A true JPH06209051A (ja) | 1994-07-26 |
Family
ID=11503368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5001506A Pending JPH06209051A (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 半導体用パッケージ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06209051A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6217930B1 (en) | 1999-02-24 | 2001-04-17 | Cultor Food Science, Inc. | Betaine and bakery products |
-
1993
- 1993-01-08 JP JP5001506A patent/JPH06209051A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6217930B1 (en) | 1999-02-24 | 2001-04-17 | Cultor Food Science, Inc. | Betaine and bakery products |
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