JPH04287950A - 半導体装置用パッケージ - Google Patents

半導体装置用パッケージ

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Publication number
JPH04287950A
JPH04287950A JP3034380A JP3438091A JPH04287950A JP H04287950 A JPH04287950 A JP H04287950A JP 3034380 A JP3034380 A JP 3034380A JP 3438091 A JP3438091 A JP 3438091A JP H04287950 A JPH04287950 A JP H04287950A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
package
semiconductor device
metal
ceramic
circuit pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP3034380A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Yamada
浩嗣 山田
Toshihiro Fusayasu
房安 俊広
Masanobu Obara
小原 雅信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP3034380A priority Critical patent/JPH04287950A/ja
Publication of JPH04287950A publication Critical patent/JPH04287950A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、衛星通信、移動通信
(携帯電話等)に用いられる高周波素子を気密封止する
パッケージに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、高周波用パッケージの代表例とし
て、フィードスルーをコバールフレームに挿入したメタ
ルパッケージ、キャビティを有するセラミック多層配線
パッケージ、それに特開平1−232751号公報に開
示されたメタルベースのセラミックパッケージ等がある
【0003】まず、図5の斜視図に従来のメタルパッケ
ージを示す。底面にグランド、上面にRF伝送線路また
はDCバイアス線路を印刷したグリーンシート上面にグ
ランドを印刷した短冊状のシートを熱圧着(120℃、
100kg/cm2、10min)する。その後160
0℃で焼成、側面メタライズ、Niめっき、シンターの
工程を経て所望する形状、特性のセラミックフィードス
ルー1,2,3を得る。これらのフィードスルー1,2
,3を切断加工または射出成形により造られたコバール
フレーム4へ挿入し、ろう付けで接着し気密封止した後
、Auめっきを施してメタルパッケージとする。
【0004】次に、従来の多層セラミックパッケージを
図6の斜視図に示す。製造方法は、キャビティ22の有
無の違いがあるだけで、グリーンシート多層配線基板と
同じである。所望する枚数のシート(この場合は4枚)
にそれぞれ、スルーホールパンチ、スクリーン印刷によ
りバイアホール23の穴埋めと配線導体,RF伝送線路
9とDCバイアス線路10の印刷を行う。これらのシー
トを熱圧着して一体化し、焼成、Niめっき、シンター
、Auめっきの工程を経て多層セラミックパッケージと
する。
【0005】さらに他の従来例として、特開平1−23
2751号公報に示されたパッケージを図7の斜視図に
分解して示す。これは、加工容易なグリーンシートのセ
ラミック枠体形成部材5とセラミック端子形成部材6と
の間にメタライズペーストのメタライズウォール層7を
介在させた状態で挟持させて一体焼成し、Fe−Ni−
Co合金等の金属部材からなる金属ベース8にろう付け
する高周波素子用パッケージである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図5に示すメタルパッ
ケージでは、金属フレームでシールドされているので電
気的特性は優れているが、フレームとして用いるのに適
したコバールやCu−W等は、難加工金属であるので、
フィードスルーを挿入するフレームの切り欠き部の加工
が難しくコストも高くなる。それに切り欠き部とフィー
ドスルーとのギャップの調整が難しいため、ろう付け後
の気密性確保が困難である。
【0007】図6に示す多層セラミックパッケージでは
、グリーンシートを熱圧着して一体化した後、焼成する
ために気密性には優れているが、ICを搭載するキャビ
ティ部を持つため、反りが発生し易く、メタルパッケー
ジに比べて放熱性が悪いという欠点をもつ。
【0008】図7に示すパッケージは、反りや変形を生
じやすいグリーンシート状で接合等の加工を行うために
、焼成後の反りによるろう付けの不完全さが心配される
【0009】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、放熱性が良く、高周波特性に
優れ、かつ簡便に製作できる半導体装置用パッケージを
得ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置用パッケージは、側面部の入出力端子と半導体素子の
電極部分とを接続するための電極端子を有する入出力用
回路パターンを設ける部分をメタライズしたセラミック
で形成し、他の側面部と半導体素子を搭載するベース基
板を金属で形成し、これらを接合して形成したものであ
る。
【0011】
【作用】この発明の半導体装置用パッケージにおいては
、金属ブロックで構成されたフレーム(金属ベース及び
入出力用回路パターンが設けられない側面部)が、RF
伝送線路のグランドとしてシールドされ、所定のインピ
ーダンスを得られる。また、金属フレームは加工が容易
な形状をしておりコストの低減が図れる。入出力用回路
パターンを設ける側面部のセラミック配線部において、
グリーンシート状態で上下層の面積の差を小さくするこ
とで、圧力が均一に加わり、反りを制御できる。さらに
側面部の金属ブロックと金属ベースとを一体加工するこ
とで気密性の確保をより確実にする。
【0012】
【実施例】実施例1 図1はこの発明の一実施例の半導体装置用パッケージを
分解して示す斜視図である。まず、以下に示す組成によ
りグリーンシートを成形し、そのグリーンシート12の
下面にグランド層、上面にRF伝送線路9とDCバイア
ス線路10とをスクリーン印刷により、タングステンペ
ーストを印刷する。その印刷面へ上面にグランド層を印
刷した短冊状のグリーンシート(遮蔽用セラミック部材
となる)11を熱圧着(15〜20kg/cm2、12
0℃、10min)して接合し、側面のグランド層を印
刷した後、1600℃で焼成してセラミック配線部材(
入出力用回路パターンを設けた側面部)13を得た。そ
してコバールを切断加工して、他の側面部に用いるコバ
ールブロック14とベース基板に用いるコバールベース
15を得た。それぞれNiめっきを施した後、銀ろう(
BAg−8)を用いて水素雰囲気において800℃で接
合した。 組成:  アルミナ粉末    60.6%フラックス
        3.1% 分散剤            0.6%有機結合剤 
       3.8% 可塑剤            3.2%有機溶剤  
      28.7%
【0013】この実施例のパッケージは、フィードスル
ー部のRF伝送線路9及びDCバイアス線路10を必要
な間隔で並列に並べた焼成後のセラミック配線部材13
をパッケージ側面部の二辺にもち、他の二辺とベース基
板とを金属(コバールブロック14とコバールベース1
5)で作製して一体化したもので、金属フレームに切り
欠きをいれる必要もなく、加工が簡単なブロック状に金
属を加工し、配線部をセラミックで作製し、それぞれを
接合して造るものであるので、製造が容易で、コストの
低減が図れる。また、コバールブロック14とコバール
ベース15が、RF伝送線路9のグランドとしてシール
ドされ、所定のインピーダンスを得られる。セラミック
配線部材13はグリーンシート状態で上下層の面積の差
を小さくすることで、圧力が均一に加わり、反りを制御
できる。
【0014】実施例2 図2はこの発明の他の実施例の半導体装置用パッケージ
を分解して示す斜視図である。入出力用回路パターンを
設けた側面部のセラミック配線部材17は、熱圧着時の
圧力の不均一による反り等の不良を少なくするため、上
層にリード部材との接合部を切り欠いたシート16(矩
形状の遮蔽用セラミック部材となる)で実施例1と同様
の方法で製作した。得られた回路パターンの上層のセラ
ミック層の形状を電極端子部分のみ矩形状に切り欠いた
構造の端子部切り欠きセラミック配線部材17と回路パ
ターンを形成しない側面部のCu−Wブロック14及び
ベース基板のCu−Wベース15との接合は、銀ろう(
BAg−8)を用いて水素雰囲気において800℃にて
行った。
【0015】実施例3 図3はこの発明のさらに他の実施例の半導体装置用パッ
ケージを分解して示す斜視図である。回路パターンを形
成しない側面部のCu−Wブロックとベース基板のCu
−Wベースとを一体加工した側面一体化金属ベース18
に実施例2と同様の製造方法で造ったセラミック配線部
材17のみを銀ろう(BAg−8)でろう付けした。こ
の実施例では、回路パターンを形成しない側面部とベー
ス基板とを一体加工した側面一体化金属ベース18を用
いることで気密性の確保をより確実にできる。
【0016】実施例1〜3のパッケージは、それぞれ図
4(a)の平面図、同(b)の側面図に示すように外部
にリードフレーム20をはんだ付けし、高周波素子であ
るGaAsIC19をパッケージ内にAuSiを用いて
400℃でダイボンドする。ICとそれぞれの伝送線路
は、Φ25μmのAuワイヤ21を用いて接続され、I
Cの酸化を防止し、信頼性を高めるため、窒素雰囲気で
Au80/20Snを用いてプレート(蓋)が接合され
る。
【0017】この発明は、上記実施例で述べたことに限
定されることなく、RF伝送線路を隣合わせにする場合
は、線路間にスルーホールを形成し、導体を埋めてグラ
ンドとすることによりアイソレーションの向上を図るこ
ともできる。また、実施例2でセラミック配線部材の上
層の形状は、矩形に限らずワイヤボンド、リードフレー
ム等のリード部材との接合スペースを残せば、加工に問
題がない範囲で自由に変えられる。さらに、各部材の接
合方法は、ろう付け以外に、はんだや無機系接着剤でも
差しつかえない。
【0018】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、半導
体装置用パッケージを、側面部の入出力端子と半導体素
子の電極部分とを接続するための電極端子を有する入出
力用回路パターンを設ける部分をメタライズしたセラミ
ックで形成し、他の側面部と半導体素子を搭載するベー
ス基板を金属で形成し、これらを接合してなるものとし
たので、従来のように金属フレームを切り欠く加工を施
したりせずとも、簡便に製造でき、放熱性が良く、高周
波特性に優れたものが得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1の半導体装置用パッケージ
を示す斜視図である。
【図2】この発明の実施例2の半導体装置用パッケージ
を示す斜視図である。
【図3】この発明の実施例3の半導体装置用パッケージ
を示す斜視図である。
【図4】この発明に係わる高周波素子を実装した半導体
装置用パッケージを示す平面図と側面図である。
【図5】従来のメタルパッケージを示す斜視図である。
【図6】従来の多層セラミックパッケージを示す斜視図
である。
【図7】従来のメタルベースのセラミックパッケージを
示す斜視図である。
【符号の説明】 9  RF伝送線路 10  DCバイアス線路 13  メタライズしたセラミックからなる入出力用回
路パターンを設ける側面部のセラミック配線部材14 
 側面金属ブロック 15  ベース基板の金属ベース 17  メタライズしたセラミックからなる入出力用回
路パターンを設ける側面部の端子部切り欠きセラミック
配線部材 18  側面一体化金属ベース

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半導体素子を搭載するベース基板、入
    出力端子と上記半導体素子の電極部分とを接続するため
    の電極端子を有する入出力用回路パターンが設けられる
    側面部、及び上記半導体素子を保護する保護部からなる
    半導体装置用パッケージにおいて、上記側面部の入出力
    用回路パターンを設ける部分をメタライズしたセラミッ
    クで形成し、他の側面部と上記ベース基板を金属で形成
    し、これらを接合して形成したことを特徴とする半導体
    装置用パッケージ。
JP3034380A 1991-02-28 1991-02-28 半導体装置用パッケージ Pending JPH04287950A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH065724A (ja) * 1992-06-22 1994-01-14 Nec Corp 半導体装置用容器
JP2011096827A (ja) * 2009-10-29 2011-05-12 Kyocera Corp 素子収納用パッケージ、並びに実装構造体
JP2012222079A (ja) * 2011-04-06 2012-11-12 Kyocera Corp 端子構造体、電子部品収納用パッケージおよび電子装置
JP2014011271A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Kyocera Corp 素子収納用パッケージおよび実装構造体

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH065724A (ja) * 1992-06-22 1994-01-14 Nec Corp 半導体装置用容器
JP2011096827A (ja) * 2009-10-29 2011-05-12 Kyocera Corp 素子収納用パッケージ、並びに実装構造体
JP2012222079A (ja) * 2011-04-06 2012-11-12 Kyocera Corp 端子構造体、電子部品収納用パッケージおよび電子装置
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