JPH06199806A - ジフルオロメトキシピラゾール誘導体及びその製造方法 - Google Patents

ジフルオロメトキシピラゾール誘導体及びその製造方法

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JPH06199806A
JPH06199806A JP26571593A JP26571593A JPH06199806A JP H06199806 A JPH06199806 A JP H06199806A JP 26571593 A JP26571593 A JP 26571593A JP 26571593 A JP26571593 A JP 26571593A JP H06199806 A JPH06199806 A JP H06199806A
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JP
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reaction
mmol
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same
lower alkyl
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JP26571593A
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Tsumoru Kodaira
積 小平
Akihiko Yoshiura
昭彦 好浦
Masaaki Kudo
正昭 工藤
Kenji Tsubata
健治 津幡
Hiroshi Hamaguchi
洋 濱口
Takayuki Akita
孝幸 秋田
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Nihon Nohyaku Co Ltd
Original Assignee
Nihon Nohyaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 新規なジフルオロメトキシピラゾ−ル誘導体
及びその製造方法。 【構成】 式(II)の化合物を不活性溶媒及び塩基の存在
下にクロロジフルオロメタンを反応させてジフルオロメ
トキシピラゾ−ル誘導体を得る。 【化1】 (式中、R はH又は低級アルキル、R1はハロゲン又は-O
-C(R3)R4-CO-R5(R3及びR4はH又は低級アルキル、R5
低級アルコキシ又は低級アルキル置換アミノ)R2はH又
はハロゲン、mは1〜3を示す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I)
【化4】 〔式中、R は水素原子又は低級アルキル基を示し、R1
ハロゲン原子又は-O-C(R3)R4-CO-R5(式中、R3及びR4
同一又は異なっても良く、水素原子又は低級アルキル基
を示し、R5は低級アルコキシ基又は同一又は異なっても
良い1〜2個の低級アルキル基で置換されても良いアミ
ノ基を示す。)を示し、R2は水素原子又はハロゲン原子
を示し、X は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子を
示し、m は1〜3の整数を示す。〕で表されるジフルオ
ロメトキシピラゾ−ル誘導体及び該ジフルオロメトキシ
ピラゾ−ル誘導体の製造方法に関し、本発明の一般式
(I) で表されるジフルオロメトキシピラゾ−ル誘導体は
それ自体除草剤として又除草剤の中間体として有用な化
合物である。
【0002】
【従来の技術】特開平2−300173号、特開平3−
47180号、特開平3−81275号、特開平3−1
51367号及び特開平3−163063号公報等に本
発明のピラゾ−ル誘導体に類似のピラゾ−ル類が除草剤
として有用であることが開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は除草剤の
新規な製造方法を開発すべく研究した結果、本発明の一
般式(I) で表されるジフルオロメトキシピラゾ−ル誘導
体が文献未記載の新規化合物であることを見出し本発明
を完成させたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の一般式(I) で表
されるジフルオロメトキシピラゾ−ル誘導体の製造方法
を例えば図式的に示すと下記の通りである。
【化5】 〔式中、R 、R1、R2、X 及びm は前記に同じ。〕
【0005】一般式(II)で表されるピラゾ−ル類を不活
性溶媒及び塩基の存在下にクロロジフルオロメタンと反
応させることにより一般式(I')で表されるジフルオロメ
トキシピラゾ−ル誘導体を製造することができる。本反
応で使用できる不活性溶媒としては本反応の進行を著し
く阻害しないものであれば良く、例えばメタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等のアルコ−ル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエ
ステル類、モノ又はジアルキルグリコ−ル、エチレング
リコ−ル等のグリコ−ル類、セロソルブ類、ジエチルエ
−テル、ジオキサン等の鎖状又は環状エ−テル類、アセ
トン等のケトン類、シクロヘキサノン、N−メチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、
ジメチルアセトアミド、テトラメチルウレア、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、ジメチル
スルホキシド(DMSO)、水等を例示することがで
き、これらの不活性溶媒は単独で若しくは混合して使用
することができる。
【0006】本反応で使用するクロロジフルオロメタン
はそのまま反応系にバブリングしても良く、オ−トクレ
−ブで封入しても良く、適当な不活性溶媒に溶解して使
用することもでき、その使用量は一般式(II)で表される
ピラゾ−ル類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選
択すれば良く、好ましくは過剰モル使用するのが良い。
【0007】本反応で使用する塩基としては、無機塩基
又は有機塩基を使用することができ、好ましくは無機塩
基が良く、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、蟻酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等
のアルカリ金属原子又はアルカリ土類金属原子の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩又は有機酸塩等を使用することが
でき、塩基の使用量は一般式(II)で表されるピラゾ−ル
類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して
使用すれば良い。
【0008】本反応を促進する目的でクラウンエ−テ
ル、第4級アンモニウム塩、モレキュラ−シ−ブ類を触
媒量から一般式(II)で表されるピラゾ−ル類に対して等
モルの範囲で添加して反応を行うこともできる。本反応
の反応温度は室温乃至150℃の範囲から選択すれば良
く、好ましくは60℃乃至120℃の範囲である。反応
時間は反応量、反応温度により一定しないが30分乃至
24時間の範囲であり、好ましくは1乃至5時間の範囲
である。反応終了後、目的物を含む反応系より常法によ
り単離し、必要に応じて精製等を行うことにより目的物
を製造することができる。
【0009】本発明の一般式(I) で表されるジフルオロ
メトキシピラゾ−ル誘導体を製造する際の原料化合物で
ある一般式(II)で表されピラゾ−ル類は特開平2−30
0173号、特開平3−47180号、特開平3−81
275号、特開平3−151367号及び特開平3−1
63063号公報等に記載の製造方法により製造するこ
とができる。
【0010】
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0011】実施例1 エチル 〔5−(5’−ジフル
オロメトキシ−1’−メチル−3’−ピラゾリル)−2
−クロロ−4−フルオロフェノキシ〕アセテ−トの製造
【化6】
【0012】1−1.100mlの3口丸底フラスコに
温度計及び還流管を取り付け、これにエチル〔5−
(5’−ヒドロキシ−1’−メチル−3’−ピラゾリ
ル)−2−クロロ−4−フルオロフェノキシ〕アセテ−
ト5g(15.2ミリモル)、炭酸カリウム1.5g
(11ミリモル)及びDMF50mlを入れ、100℃
でクロロジフルオロメタンガスを3時間導入した。反応
終了後、反応液を水300ml中に注ぎ、析出した結晶
を減圧濾過することにより目的物3.2gを得た。 物性 m.p.98.5〜99.5℃ 収率58%
【0013】1−2.200mlのステンレス製オ−ト
クレ−ブにエチル 〔5−(5’−ヒドロキシ−1’−
メチル−3’−ピラゾリル)−2−クロロ−4−フルオ
ロフェノキシ〕アセテ−ト10g(30.4ミリモ
ル)、炭酸カリウム3.2g(22.8ミリモル)及び
DMF100mlを入れて密封した後、クロロジフルオ
ロメタンガス15g(173ミリモル)を封入して11
0℃で3時間反応を行った。反応終了後、反応液を水5
00ml中に注ぎ、析出した結晶を減圧濾過することに
より目的物11gを得た。(収率95%)
【0014】実施例2 〔5−(5’−ジフルオロメト
キシ−1’−メチル−3’−ピラゾリル)−2−クロロ
−4−フルオロフェノキシ〕アセトアミドの製造
【化7】
【0015】2−1.200mlの3口丸底フラスコに
温度計及び還流管を取り付け、これに〔5−(5’−ヒ
ドロキシ−1’−メチル−3’−ピラゾリル)−2−ク
ロロ−4−フルオロフェノキシ〕アセトアミド4g(1
3.3ミリモル)、炭酸カリウム5.5g(40ミリモ
ル)、クロロジフルオロメタン18wt%DMF溶液3
2g(66.5ミリモル)、DMF50ml及び水10
mlを入れ、100℃で2時間反応を行った。反応終了
後、反応液を水250ml中に注ぎ、析出した結晶を減
圧濾過することにより目的物3.2gを得た。 物性 m.p.188.5〜190℃ 収率69%
【0016】2−2.100mlの3口丸底フラスコに
温度計及び還流管を取り付け、これに〔5−(5’−ヒ
ドロキシ−1’−メチル−3’−ピラゾリル)−2−ク
ロロ−4−フルオロフェノキシ〕アセトアミド1g
(3.3ミリモル)、水酸化カリウム0.9g(16ミ
リモル)、クロロジフルオロメタン15wt%DMF溶
液9.6g(16.7ミリモル)、DMF10ml及び
水2mlを入れ、100℃で3時間反応を行った。反応
終了後、反応液を水200ml中に注ぎ、析出した結晶
を減圧濾過することにより目的物0.46gを得た。
(収率40%)
【0017】2−3.100mlのステンレス製オ−ト
クレ−ブに〔5−(5’−ヒドロキシ−1’−メチル−
3’−ピラゾリル)−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ〕アセトアミド1g(3.3ミリモル)、炭酸カリ
ウム1.4g(10ミリモル)、DMF9ml及び水1
mlを入れて密封した後、クロロジフルオロメタンガス
1.4g(16.7ミリモル)を封入し、70℃で3時
間反応を行った。反応終了後、反応液を水200ml中
に注ぎ、析出した結晶を減圧濾過することにより目的物
0.76gを得た。(収率65%)
【0018】2−4.100mlのステンレス製オ−ト
クレ−ブに〔5−(5’−ヒドロキシ−1’−メチル−
3’−ピラゾリル)−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ〕アセトアミド1g(3.3ミリモル)、炭酸カリ
ウム1.4g(10ミリモル)、メタノ−ル9ml及び
水1mlを入れて密封した後、クロロジフルオロメタン
ガス1.4g(16.7ミリモル)を封入し、70℃で
3時間反応を行った。反応終了後、反応液を水200m
l中に注ぎ、析出した結晶を減圧濾過することにより目
的物0.61gを得た。(収率52%)
【0019】2−5.100mlのステンレス製オ−ト
クレ−ブに〔5−(5’−ヒドロキシ−1’−メチル−
3’−ピラゾリル)−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ〕アセトアミド1g(3.3ミリモル)、水酸化ナ
トリウム0.4g(10ミリモル)、メタノ−ル9ml
及び水1mlを入れて密封した後、クロロジフルオロメ
タンガス1.4g(16.7ミリモル)を封入し、70
℃で3時間反応を行った。反応終了後、反応液を水20
0ml中に注ぎ、析出した結晶を減圧濾過することによ
り目的物0.70gを得た。(収率60%)
【0020】2−6.100mlのステンレス製オ−ト
クレ−ブに〔5−(5’−ヒドロキシ−1’−メチル−
3’−ピラゾリル)−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ〕アセトアミド1g(3.3ミリモル)、炭酸カリ
ウム0.7g(5ミリモル)、DMF5ml及びエタノ
−ル5mlを入れて密封した後、クロロジフルオロメタ
ンガス1.4g(16.7ミリモル)を封入し、70℃
で3時間反応を行った。反応終了後、反応液を水200
ml中に注ぎ、析出した結晶を減圧濾過することにより
目的物0.76gを得た。(収率65%)
【0021】2−7.実施例2−6で使用したエタノ−
ルをn-プロパノ−ルにかえて同様に実施することにより
目的物を0.63g得た。(収率55%)
【0022】2−8.実施例2−6で使用したエタノ−
ルをi-プロパノ−ルにかえて同様に実施することにより
目的物を0.55g得た。(収率48%)
【0023】2−9.実施例2−6で使用したエタノ−
ルをエチレングリコ−ルにかえて同様に実施することに
より目的物を0.61g得た。(収率53%)
【0024】2−10.〔5−(5’−ヒドロキシ−
1’−メチル−3’−ピラゾリル)−2−クロロ−4−
フルオロフェノキシ〕アセトアミド4.9g(16.4
ミリモル)、クロロジフルオロ酢酸ナトリウム5.0g
(32.8ミリモル)及び炭酸カリウム22.3g(1
6.4ミリモル)をDMF15ml及びエタノ−ル3m
lの混合液に懸濁させ、90℃で1時間反応を行った。
反応終了後、反応液を放冷して水75mk中に注ぎ、析
出する結晶を濾集して乾燥後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィ−(酢酸エチル)で生成することにより目的
物2.8gを得た。 収率 48%
【0025】2−11.100mlのオ−トクレ−ブ中
に〔5−(5’−ヒドロキシ−1’−メチル−3’−ピ
ラゾリル)−2−クロロ−4−フルオロフェノキシ〕ア
セトアミド2.0g(6.7ミリモル)、炭酸カリウム
2.8g(20ミリモル)、エタノ−ル10ml、DM
F8ml、水2ml及びブロモジフルオロメタン2.9
g(22.1ミリモル)を封入して70℃で6時間反応
を行った。反応終了後、反応液を水100ml中に注い
で析出する結晶を濾集し、水20mlを洗浄及び乾燥す
ることにより目的物1.56gを得た。 収率 66.
8%
【0026】実施例3 3−(5−ブロモ−2、4−ジ
クロロフェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1−メチ
ルピラゾ−ルの製造
【化8】
【0027】3−(5−ブロモ−2、4−ジクロロフェ
ニル)−5−ヒドロキシ−1−メチルピラゾ−ル1.0
g(3.1ミリモル)を10mlのDMFに溶解し、該
溶液に炭酸カリウム0.86g(6.2ミリモル)を加
えて60℃でクロロジフルオロメタンを吹き込みながら
2時間反応を行った。反応終了後、反応液を放冷して水
100mlを加えて目的物を酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水洗し無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ−で精製することにより目的物0.63gを得た。 物性 m.p.99.7℃ 収率58%
【0028】実施例4 2−〔2−クロロ−4−フルオ
ロ−(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピ
ラゾ−ル−3−イル)フェノキシ〕酢酸の製造
【化9】
【0029】100mlのステンレス製オ−トクレ−ブ
に〔5−(5’−ヒドロキシ−1’−メチル−3’−ピ
ラゾリル)−2−クロロ−4−フルオロフェノキシ〕酢
酸5g(16.6ミリモル)、炭酸カリウム11.5g
(83.3ミリモル)、DMF20ml及び水5mlを
入れて密封した後、クロロジフルオロメタンガス14.
4g(167ミリモル)を封入し、120℃で3時間反
応を行った。反応終了後、反応液を水75ml中に注
ぎ、塩酸により酸性として析出した結晶を減圧濾過する
ことにより目的物3.8gを得た。 物性 m.p.192.5〜194.0℃ 収率65%
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 濱口 洋 京都府京都市伏見区深草堀田町10−1、A −804 (72)発明者 秋田 孝幸 千葉県佐倉市宮ノ台2−8−5

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 〔式中、R は水素原子又は低級アルキル基を示し、R1
    ハロゲン原子又は-O-C(R3)R4-CO-R5(式中、R3及びR4
    同一又は異なっても良く、水素原子又は低級アルキル基
    を示し、R5はヒドロキシ基、低級アルコキシ基又は同一
    又は異なっても良い1〜2個の低級アルキル基で置換さ
    れても良いアミノ基を示す。)を示し、R2は水素原子又
    はハロゲン原子を示し、X は同一又は異なっても良く、
    ハロゲン原子を示し、m は1〜3の整数を示す。但し、
    R1が-O-C(R3)R4-CO-R5(式中、R3、R4及びR5は前記に同
    じ。)を示す場合、R2は水素原子を示すものとする。〕
    で表されるジフルオロメトキシピラゾ−ル誘導体。
  2. 【請求項2】 一般式(II) 【化2】 〔式中、R は水素原子又は低級アルキル基を示し、R1
    ハロゲン原子又は-O-C(R3)R4-CO-R5(式中、R3及びR4
    同一又は異なっても良く、水素原子又は低級アルキル基
    を示し、R5はヒドロキシ基、低級アルコキシ基又は同一
    又は異なっても良い1〜2個の低級アルキル基で置換さ
    れても良いアミノ基を示す。)を示し、R2は水素原子又
    はハロゲン原子を示し、X は同一又は異なっても良く、
    ハロゲン原子を示し、m は1〜3の整数を示す。〕で表
    されるピラゾ−ル類とジフルオロメチル化剤とを反応さ
    せることを特徴とする一般式(I) 【化3】 〔式中、R 、R1、R2、X 及びm は前記に同じ。〕で表さ
    れるジフルオロメトキシピラゾ−ル誘導体の製造方法。
  3. 【請求項3】 ジフルオロメチル化剤がクロロジフルオ
    ロメタン、ブロモジフルオロメタン又はトリフルオロ酢
    酸ナトリウムである請求項第2項記載のジフルオロメト
    キシピラゾ−ル誘導体の製造方法。
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