JPH06192270A - ペネム誘導体の製造法 - Google Patents
ペネム誘導体の製造法Info
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- JPH06192270A JPH06192270A JP4357958A JP35795892A JPH06192270A JP H06192270 A JPH06192270 A JP H06192270A JP 4357958 A JP4357958 A JP 4357958A JP 35795892 A JP35795892 A JP 35795892A JP H06192270 A JPH06192270 A JP H06192270A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】
［式中、Ｒは、
（Ｒ1はＨ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基を、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ6ア
ルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ6〜Ｃ10アリール
基またはＣ7〜Ｃ11アラルキル基を示し、Ｙは１〜２個
のＯを有する５または６員環のヘテロ脂肪族基を、Ｚは
５−置換−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４−イ
ル基を示し、ｎは１〜６、ｐは１または２の数を意味す
る）を示し、ｍは０または１］式Iで表わされるペネム
誘導体の製造法であって、式II （Ｒ'は、水酸基保護基またはＨ）で表わされるアゼチ
ジノン化合物を、式III （Ｘはハロゲン原子）のシュウ酸モノエステルの酸ハロ
ゲン化物と反応させ、これを環化させる。 【効果】 抗菌剤として有用なペネム誘導体Iの製造工
程を短縮することができる。
ルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ6〜Ｃ10アリール
基またはＣ7〜Ｃ11アラルキル基を示し、Ｙは１〜２個
のＯを有する５または６員環のヘテロ脂肪族基を、Ｚは
５−置換−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４−イ
ル基を示し、ｎは１〜６、ｐは１または２の数を意味す
る）を示し、ｍは０または１］式Iで表わされるペネム
誘導体の製造法であって、式II （Ｒ'は、水酸基保護基またはＨ）で表わされるアゼチ
ジノン化合物を、式III （Ｘはハロゲン原子）のシュウ酸モノエステルの酸ハロ
ゲン化物と反応させ、これを環化させる。 【効果】 抗菌剤として有用なペネム誘導体Iの製造工
程を短縮することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はペネム誘導体の製造法に
関し、更に詳しくは、２位がエステル化されたカルボキ
シル基を持つペネム誘導体の製造法に関する。
関し、更に詳しくは、２位がエステル化されたカルボキ
シル基を持つペネム誘導体の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】次の式（IV）
【化７】 （式中、Ｒ"は水素原子またはアルカリ金属を示す）で
表わされるペネム化合物は、グラム陽性及びグラム陰性
の好気性菌や嫌気性菌に対する優れた抗菌作用を有し、
特に経口吸収されるための化学修飾の必要がなく、それ
自体で注射薬、経口薬両剤の開発が可能である点でも興
味ある化合物であるが、更にこれを修飾し、経口投与し
た場合の生体利用率を高めたペネム化合物とすることが
できれば、安全性および経済性の面から、より有利であ
る。
表わされるペネム化合物は、グラム陽性及びグラム陰性
の好気性菌や嫌気性菌に対する優れた抗菌作用を有し、
特に経口吸収されるための化学修飾の必要がなく、それ
自体で注射薬、経口薬両剤の開発が可能である点でも興
味ある化合物であるが、更にこれを修飾し、経口投与し
た場合の生体利用率を高めたペネム化合物とすることが
できれば、安全性および経済性の面から、より有利であ
る。
【０００３】そこで、本発明者らは、前記式（IV）で表
させる化合物について、経口投与した場合の生体利用率
を高めることを目的として鋭意研究をした結果、当該ペ
ネム化合物の２位のカルボキシル基を特定のエステル誘
導体として得られる式（I）
させる化合物について、経口投与した場合の生体利用率
を高めることを目的として鋭意研究をした結果、当該ペ
ネム化合物の２位のカルボキシル基を特定のエステル誘
導体として得られる式（I）
【０００４】
【化８】 ［式中、Ｒは、基
【化９】 （ここで、Ｒ1は水素原子またはＣ1〜Ｃ6の直鎖もしく
は分岐鎖のアルキル基を、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル
基、Ｃ1〜Ｃ6のアルケニル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール基
またはＣ7〜Ｃ11のアラルキル基を示し、それぞれの基
は、更にＣ1〜Ｃ6のアルキル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール
基、Ｃ7〜Ｃ11アラルキル基、水酸基、Ｃ1〜Ｃ6のアル
コキシ基、ハロゲン原子によって置換されていてもよ
く、ｎは１〜６の数を意味する）、基
は分岐鎖のアルキル基を、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル
基、Ｃ1〜Ｃ6のアルケニル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール基
またはＣ7〜Ｃ11のアラルキル基を示し、それぞれの基
は、更にＣ1〜Ｃ6のアルキル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール
基、Ｃ7〜Ｃ11アラルキル基、水酸基、Ｃ1〜Ｃ6のアル
コキシ基、ハロゲン原子によって置換されていてもよ
く、ｎは１〜６の数を意味する）、基
【化１０】 （ここで、Ｒ1及びＲ2は上記と同一の意味を有し、ｐは
１または２の数を意味する）、基
１または２の数を意味する）、基
【化１１】 （ここで、Ｒ1は前記した意味を有し、Ｙは酸素原子を
１個もしくは２個環内に有する５員環または６員環のヘ
テロ脂肪族基を示す）または 基−ＣＨ2−Ｚ （ここで、Ｚは５−置換−２−オキソ−１,３−ジオキ
ソレン−４−イル基を示し、５位置換基はＣ1〜Ｃ6のア
ルキル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール基、Ｃ7〜Ｃ11のアラル
キル基を示し、この基は、更にＣ1〜Ｃ6のアルキル基ま
たはＣ6〜Ｃ10のアリール基、Ｃ7〜Ｃ11のアラルキル
基、水酸基、Ｃ1〜Ｃ6のアルコキシ基、ハロゲン原子に
よって置換されていてもよい）を示し、ｍは０または１
を示す］で表される化合物は、上記目的を達することの
できるものであることを見出し、先に特許出願した（Ｗ
Ｏ９２／０３４４２、ＷＯ９２／０３４４３及びＷＯ９
２／０３４４４号各公開公報参照）。
１個もしくは２個環内に有する５員環または６員環のヘ
テロ脂肪族基を示す）または 基−ＣＨ2−Ｚ （ここで、Ｚは５−置換−２−オキソ−１,３−ジオキ
ソレン−４−イル基を示し、５位置換基はＣ1〜Ｃ6のア
ルキル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール基、Ｃ7〜Ｃ11のアラル
キル基を示し、この基は、更にＣ1〜Ｃ6のアルキル基ま
たはＣ6〜Ｃ10のアリール基、Ｃ7〜Ｃ11のアラルキル
基、水酸基、Ｃ1〜Ｃ6のアルコキシ基、ハロゲン原子に
よって置換されていてもよい）を示し、ｍは０または１
を示す］で表される化合物は、上記目的を達することの
できるものであることを見出し、先に特許出願した（Ｗ
Ｏ９２／０３４４２、ＷＯ９２／０３４４３及びＷＯ９
２／０３４４４号各公開公報参照）。
【０００５】このペネム誘導体（I）の製造法として、
上記国際公開公報には、例えば、次式で示すように式
（IV）で表わされるペネム化合物をエステル化し、式
（I）で表わされる２位がエステル化されたカルボキシ
ル基をもつペネム誘導体を製造する方法が開示されてい
る。
上記国際公開公報には、例えば、次式で示すように式
（IV）で表わされるペネム化合物をエステル化し、式
（I）で表わされる２位がエステル化されたカルボキシ
ル基をもつペネム誘導体を製造する方法が開示されてい
る。
【０００６】
【化１２】
【０００７】しかしながら、式（IV）で表わされる化合
物を得るには、特開昭６１−２０７３８７号及び特開昭
６３−１６２６９４号公報に示されるように、例えば次
のような工程が必要である。
物を得るには、特開昭６１−２０７３８７号及び特開昭
６３−１６２６９４号公報に示されるように、例えば次
のような工程が必要である。
【０００８】
【化１３】
【０００９】従って、従来の方法によれば、式（II）で
表わされる化合物から式（I）で表わされる化合物を製
造するまでには、結局合わせて５工程を要しており、又
カルボキシル基は異なったエステル体となっているもの
を一旦遊離のカルボン酸とした後に改めてエステル化す
るという無駄な工程を含んでいることとなる。これらの
ことから、ペネム化合物（I）を工業的規模において生
産するためには、より工程が短く、しかも効率の良い製
造方法の開発が望まれている。
表わされる化合物から式（I）で表わされる化合物を製
造するまでには、結局合わせて５工程を要しており、又
カルボキシル基は異なったエステル体となっているもの
を一旦遊離のカルボン酸とした後に改めてエステル化す
るという無駄な工程を含んでいることとなる。これらの
ことから、ペネム化合物（I）を工業的規模において生
産するためには、より工程が短く、しかも効率の良い製
造方法の開発が望まれている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者は、この問題を
解決し、工業的に有利なペネム化合物（I）の製造法を
開発すべく鋭意研究を重ねた結果、次の反応式に示すよ
うに式（II）で表わされる化合物から３工程で式（I）
で表わされる２位にエステル化されたカルボキシル基を
もつペネム誘導体に到達する反応工程を見出し、本発明
を確立するに至った。
解決し、工業的に有利なペネム化合物（I）の製造法を
開発すべく鋭意研究を重ねた結果、次の反応式に示すよ
うに式（II）で表わされる化合物から３工程で式（I）
で表わされる２位にエステル化されたカルボキシル基を
もつペネム誘導体に到達する反応工程を見出し、本発明
を確立するに至った。
【００１１】
【化１４】
【００１２】すなわち本発明は、式（Ｉ）
【化１５】 で表わされるペネム誘導体の製造法であって、式（II）
【化１６】 （式中、Ｒ'は、水酸基の保護基または水素原子を示
し、ｍは前記と同じ）で表わされるアゼチジノン化合物
を、式（III）
し、ｍは前記と同じ）で表わされるアゼチジノン化合物
を、式（III）
【化１７】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒは前記と同じ）で
表わされるシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン化物と反
応させ、次いでこれを環化させることを特徴とする方法
である。
表わされるシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン化物と反
応させ、次いでこれを環化させることを特徴とする方法
である。
【００１３】本発明方法の出発原料である、アゼチジノ
ン化合物（II）は、例えば、特開昭６１−２０７３８７
号及び特開昭６３−１６２６９４号公報に示す方法によ
り容易に得ることができる化合物である。また、他の出
発原料であるシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン化物
（III）も既知の方法によって得られ、例えば、所望の
基Ｒを有するアルコールとオキザリルハライド、例えば
オキザリルクロライドの好ましくは１〜２モル当量とを
適当な溶媒中で反応させることにより製造できる化合物
である。
ン化合物（II）は、例えば、特開昭６１−２０７３８７
号及び特開昭６３−１６２６９４号公報に示す方法によ
り容易に得ることができる化合物である。また、他の出
発原料であるシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン化物
（III）も既知の方法によって得られ、例えば、所望の
基Ｒを有するアルコールとオキザリルハライド、例えば
オキザリルクロライドの好ましくは１〜２モル当量とを
適当な溶媒中で反応させることにより製造できる化合物
である。
【００１４】このシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン化
物（III）は、アゼチジノン化合物（II）と効率よく反
応し、一般式（I）で表わされる目的化合物に所望のＲ
を導入できるものであり、当該化合物（III）の基Ｒの
例としては、テトラヒドロフリルカルボニルオキシメチ
ル基、テトラヒドロピラニルカルボニルオキシメチル
基、１,３−ジオキシソラニルカルボニルオキシメチル
基、２−オキソ−１,３−ジオキソラニルカルボニルオ
キシメチル基、１,４−ジオキサニルカルボニルオキシ
メチル基等及びこれらの光学活性体である（Ｒ）−２−
テトラヒドロフリルカルボニルオキシメチル基、（Ｓ）
−２−テトラヒドロフリルカルボニルオキシメチル基
等；（５−メチル−２−オキソ−１,３−ジオキソレン
−４−イル）メチル基、アセチルオキシメチル基、１−
（アセチルオキシ）エチル基、ピバロイルオキシメチル
基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、１−
（イソプロピルオキシカルボニルオキシ）エチル基、１
−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）基、３−
フタリジル基等が挙げられ、また、そのＸで表わされる
ハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素である化合物が
例示される。
物（III）は、アゼチジノン化合物（II）と効率よく反
応し、一般式（I）で表わされる目的化合物に所望のＲ
を導入できるものであり、当該化合物（III）の基Ｒの
例としては、テトラヒドロフリルカルボニルオキシメチ
ル基、テトラヒドロピラニルカルボニルオキシメチル
基、１,３−ジオキシソラニルカルボニルオキシメチル
基、２−オキソ−１,３−ジオキソラニルカルボニルオ
キシメチル基、１,４−ジオキサニルカルボニルオキシ
メチル基等及びこれらの光学活性体である（Ｒ）−２−
テトラヒドロフリルカルボニルオキシメチル基、（Ｓ）
−２−テトラヒドロフリルカルボニルオキシメチル基
等；（５−メチル−２−オキソ−１,３−ジオキソレン
−４−イル）メチル基、アセチルオキシメチル基、１−
（アセチルオキシ）エチル基、ピバロイルオキシメチル
基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、１−
（イソプロピルオキシカルボニルオキシ）エチル基、１
−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）基、３−
フタリジル基等が挙げられ、また、そのＸで表わされる
ハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素である化合物が
例示される。
【００１５】本発明方法を実施するには、まず、アゼチ
ジノン化合物（II）とシュウ酸モノエステルの酸ハロゲ
ン化物（III）化合物とを、適当な溶媒中、塩基の存在
下反応させ、次の式（V）
ジノン化合物（II）とシュウ酸モノエステルの酸ハロゲ
ン化物（III）化合物とを、適当な溶媒中、塩基の存在
下反応させ、次の式（V）
【化１８】 （式中、Ｒ、Ｒ'及びｍは前記と同じ）で表される化合
物を収得する。
物を収得する。
【００１６】この反応において、シュウ酸モノエステル
の酸ハロゲン化物（III）は、アゼチジノン化合物（I
I）に対し、好ましくは、１〜２モル当量用いれば良
い。
の酸ハロゲン化物（III）は、アゼチジノン化合物（I
I）に対し、好ましくは、１〜２モル当量用いれば良
い。
【００１７】また、ここで用いられる溶媒は、適宜選択
すればよいが、好ましくは、非プロトン性有機溶媒、例
えば、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ハロゲン化炭
化水素（例えばジクロロメタン又はクロロホルム）又は
芳香族炭化水素（例えば、トルエン又はキシレン）が挙
げられ、これらは単独で使用するか、又は２種以上混合
して用いられる。
すればよいが、好ましくは、非プロトン性有機溶媒、例
えば、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ハロゲン化炭
化水素（例えばジクロロメタン又はクロロホルム）又は
芳香族炭化水素（例えば、トルエン又はキシレン）が挙
げられ、これらは単独で使用するか、又は２種以上混合
して用いられる。
【００１８】更に、塩基としては、例えば、トリエチル
アミンやジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基が
挙げられ、これは好ましくは、１.１〜２.２モル当量用
いられる。上記反応における反応温度は、好ましくは、
１０℃以下、特に−１０℃〜＋５℃が好ましく、また、
反応時間は、用いるシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン
化物（III）の種類によっても異なるが、好ましい反応
温度下においては数時間で良い。
アミンやジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基が
挙げられ、これは好ましくは、１.１〜２.２モル当量用
いられる。上記反応における反応温度は、好ましくは、
１０℃以下、特に−１０℃〜＋５℃が好ましく、また、
反応時間は、用いるシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン
化物（III）の種類によっても異なるが、好ましい反応
温度下においては数時間で良い。
【００１９】目的とする化合物（V）は、例えば反応終
了後、反応混合物を水洗し、残った有機層を硫酸マグネ
シウム、硫酸ナトリウムなどの適当な乾燥剤で乾燥後、
濃縮することにより得られ、多くの場合は精製すること
なく次工程において使用できるが、場合によっては、カ
ラムクロマトグラフィー、再結晶法などの通常の方法に
より精製してから次工程で使用しても良い。
了後、反応混合物を水洗し、残った有機層を硫酸マグネ
シウム、硫酸ナトリウムなどの適当な乾燥剤で乾燥後、
濃縮することにより得られ、多くの場合は精製すること
なく次工程において使用できるが、場合によっては、カ
ラムクロマトグラフィー、再結晶法などの通常の方法に
より精製してから次工程で使用しても良い。
【００２０】ついで得られた化合物（V）は環化反応に
付されるが、この反応は、例えば、化合物（V）と、好
ましくは３〜５モル当量の有機リン化合物を、適当な溶
媒中で加熱することにより行われる。
付されるが、この反応は、例えば、化合物（V）と、好
ましくは３〜５モル当量の有機リン化合物を、適当な溶
媒中で加熱することにより行われる。
【００２１】この環化反応で用いられる有機リン化合物
としては、トリエチルホスファイトのようなトリアルキ
ルホスファイトやトリフェニルホスフィンのようなトリ
アリールホスフィン等が挙げられる。 また当該反応で
使用される有機溶媒は、特に制限はなく、適宜選択すれ
ばよいが、好ましくは、キシレン、クロロベンゼンなど
の高沸点の溶媒が挙げられ、これらは単独で又は２種以
上混合して用いられる。 また、この反応の温度は、好
ましくは１２０℃〜１５０℃程度であり、加熱時間は、
好ましい反応温度下では３〜８時間でよい。
としては、トリエチルホスファイトのようなトリアルキ
ルホスファイトやトリフェニルホスフィンのようなトリ
アリールホスフィン等が挙げられる。 また当該反応で
使用される有機溶媒は、特に制限はなく、適宜選択すれ
ばよいが、好ましくは、キシレン、クロロベンゼンなど
の高沸点の溶媒が挙げられ、これらは単独で又は２種以
上混合して用いられる。 また、この反応の温度は、好
ましくは１２０℃〜１５０℃程度であり、加熱時間は、
好ましい反応温度下では３〜８時間でよい。
【００２２】上記環化反応の目的化合物は次の式（I'）
【化１９】 （式中、Ｒ、Ｒ'及びｍは前記と同じ）で表わされる化
合物であるが、これは環化反応の終了後に、例えば反応
混合物を減圧下濃縮して溶媒等を留去し、キシレン、酢
酸エチル、シクロヘキサンなどの適当な溶媒またはこれ
らの混合物に溶解して水洗し、残った有機層を硫酸ナト
リウムなどの適当な乾燥剤で乾燥後濃縮することにより
得られる。
合物であるが、これは環化反応の終了後に、例えば反応
混合物を減圧下濃縮して溶媒等を留去し、キシレン、酢
酸エチル、シクロヘキサンなどの適当な溶媒またはこれ
らの混合物に溶解して水洗し、残った有機層を硫酸ナト
リウムなどの適当な乾燥剤で乾燥後濃縮することにより
得られる。
【００２３】このようにして得られた化合物（I'）は、
出発原料（II）として、Ｒ'が水素原子であるものを利
用したときは、そのまま最終目的化合物（I）となる
が、その６位側鎖の水酸基が保護されている場合には、
更に、その水酸基保護基を除去する必要がある。
出発原料（II）として、Ｒ'が水素原子であるものを利
用したときは、そのまま最終目的化合物（I）となる
が、その６位側鎖の水酸基が保護されている場合には、
更に、その水酸基保護基を除去する必要がある。
【００２４】この脱保護反応は、上記の如くして得られ
た化合物（I'）をそのまま用いても良いが、必要によ
り、カラムクロマトグラフィー、再結晶法などの通常の
方法による精製の後、脱保護反応をおこなっても良く、
高収率で化合物（I）を得ることができる。
た化合物（I'）をそのまま用いても良いが、必要によ
り、カラムクロマトグラフィー、再結晶法などの通常の
方法による精製の後、脱保護反応をおこなっても良く、
高収率で化合物（I）を得ることができる。
【００２５】保護基の除去法は、特に限定されず、例え
ば、特開昭６１−２０７３８７号、特開昭６３−１６２
６９４号公報等に記載された方法等の既知の方法によっ
ても実施することができる。
ば、特開昭６１−２０７３８７号、特開昭６３−１６２
６９４号公報等に記載された方法等の既知の方法によっ
ても実施することができる。
【００２６】なお、水酸基保護基の除去は、化合物
（I'）からの除去のみでなく、化合物（V）において除
去してもよい。
（I'）からの除去のみでなく、化合物（V）において除
去してもよい。
【００２７】最終目的化合物（I）は、例えば上記の反
応終了後、反応混合物を水および炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄し、残った有機層を硫酸ナトリウムなどの適
当な乾燥剤で乾燥後に濃縮し、溶媒を留去することによ
り得られ、必要に応じ、カラムクロマトグラフィー、再
結晶法などの通常の方法により精製した後、医薬として
利用される。
応終了後、反応混合物を水および炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄し、残った有機層を硫酸ナトリウムなどの適
当な乾燥剤で乾燥後に濃縮し、溶媒を留去することによ
り得られ、必要に応じ、カラムクロマトグラフィー、再
結晶法などの通常の方法により精製した後、医薬として
利用される。
【００２８】以上の各工程においては、本製造法の一般
的手法を記述したが、これらが光学活性体の合成にも全
く同じように使用できることはいうまでもなく、又、化
合物（II）として、２位側鎖についてｄｌ化合物を用い
た場合には、再結晶、カラムクロマトグラフィー、分取
薄層クロマトグラフィーなどにより光学分割も可能であ
る。
的手法を記述したが、これらが光学活性体の合成にも全
く同じように使用できることはいうまでもなく、又、化
合物（II）として、２位側鎖についてｄｌ化合物を用い
た場合には、再結晶、カラムクロマトグラフィー、分取
薄層クロマトグラフィーなどにより光学分割も可能であ
る。
【００２９】
【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により何等限定さ
れるものではない。
に説明するが、本発明はこれら実施例により何等限定さ
れるものではない。
【００３０】実 施 例 １ ４−ホルミルオキシメチル−５−メチル−１,３−ジオ
キソール−２−オンの合成：４−クロロメチル−５−メ
チル−１,３−ジオキソール−２−オン １４９.４ｇ
（０.７５モル）、ギ酸カリウム ９４.５ｇ（１.１３モ
ル）、ヨウ化カリウム１２.０ｇ（０.０７５モル）、炭
酸水素ナトリウム １８.０ｇ（０.１５モル）およびジ
メチルホルムアミド ６００ｍｌの混合物を、６０℃で
５時間加熱撹拌後、反応混合物に酢酸エチル及び水を加
えて有機層を分離した。 有機層を食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し
た。 残渣を減圧蒸留に付し、ｂｐ １１４〜１２６℃
（１.９−０.６ｍｍＨｇ）の留分を集めて標記物質 ７
７.０ｇ（６５.０％）を得た。
キソール−２−オンの合成：４−クロロメチル−５−メ
チル−１,３−ジオキソール−２−オン １４９.４ｇ
（０.７５モル）、ギ酸カリウム ９４.５ｇ（１.１３モ
ル）、ヨウ化カリウム１２.０ｇ（０.０７５モル）、炭
酸水素ナトリウム １８.０ｇ（０.１５モル）およびジ
メチルホルムアミド ６００ｍｌの混合物を、６０℃で
５時間加熱撹拌後、反応混合物に酢酸エチル及び水を加
えて有機層を分離した。 有機層を食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し
た。 残渣を減圧蒸留に付し、ｂｐ １１４〜１２６℃
（１.９−０.６ｍｍＨｇ）の留分を集めて標記物質 ７
７.０ｇ（６５.０％）を得た。
【００３１】ＩＲ（ＣＨＣｌ3）ｃｍ-1：１８２１（ジ
オキソロン Ｃ=Ｏ）、１７３６（ホルミル Ｃ=Ｏ） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２.１９
（３Ｈ,ｓ,５位メチル）, ４.９３（２Ｈ,ｓ,４位メチ
レン）,８.０９（１Ｈ,ｓ,−ＣＨＯ）.
オキソロン Ｃ=Ｏ）、１７３６（ホルミル Ｃ=Ｏ） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２.１９
（３Ｈ,ｓ,５位メチル）, ４.９３（２Ｈ,ｓ,４位メチ
レン）,８.０９（１Ｈ,ｓ,−ＣＨＯ）.
【００３２】実 施 例 ２ ４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１,３−ジオキソ
ール−２−オンの合成：実施例１で得た４−ホルミルオ
キシメチル−５−メチル−１,３−ジオキソール−２−
オン ３９.０ｇ（１.５８モル）をメタノール ３００ｍ
ｌに溶解し、３時間加熱還流した。 減圧下に溶媒を留
去後、残渣を減圧蒸留に付し、ｂｐ １１６〜１１８℃
（０.０９ｍｍＨｇ以下）の留分を集めて標記化合物 ２
３.８ｇ（７４.２％）を得た。
ール−２−オンの合成：実施例１で得た４−ホルミルオ
キシメチル−５−メチル−１,３−ジオキソール−２−
オン ３９.０ｇ（１.５８モル）をメタノール ３００ｍ
ｌに溶解し、３時間加熱還流した。 減圧下に溶媒を留
去後、残渣を減圧蒸留に付し、ｂｐ １１６〜１１８℃
（０.０９ｍｍＨｇ以下）の留分を集めて標記化合物 ２
３.８ｇ（７４.２％）を得た。
【００３３】ＩＲ（ＣＨＣｌ3）ｃｍ-1：３４９２（−
ＯＨ）,１８０２（ジオキソロン Ｃ=０）. ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２.１４
（３Ｈ,ｓ,５位メチル）, ２.８４（１Ｈ,ｓ,−ＯＨ）,
４.４１（２Ｈ,ｓ,４位メチレン）.
ＯＨ）,１８０２（ジオキソロン Ｃ=０）. ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２.１４
（３Ｈ,ｓ,５位メチル）, ２.８４（１Ｈ,ｓ,−ＯＨ）,
４.４１（２Ｈ,ｓ,４位メチレン）.
【００３４】実 施 例 ３ （５−メチル−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４
−イル）メトキサリルクロリドの合成：オキザリルクロ
リド７.８ｍｌ（８８ミリモル）をジクロロメタン５ｍ
ｌに溶解した溶液中に、実施例２で得た４−ヒドロキシ
メチル−５−メチル−１,３−ジオキソール−２−オン
１０.４ｇ（８０ミルモル）をジクロロメタン ４０ｍｌ
に溶解した溶液を、−５〜０℃で滴下した。 ０℃で１
５分間撹拌後、溶媒、過剰のオキザリルクロリドを減圧
下留去し、標記化合物を含む油状物を得た。このものは
精製せずに次の反応に用いた。
−イル）メトキサリルクロリドの合成：オキザリルクロ
リド７.８ｍｌ（８８ミリモル）をジクロロメタン５ｍ
ｌに溶解した溶液中に、実施例２で得た４−ヒドロキシ
メチル−５−メチル−１,３−ジオキソール−２−オン
１０.４ｇ（８０ミルモル）をジクロロメタン ４０ｍｌ
に溶解した溶液を、−５〜０℃で滴下した。 ０℃で１
５分間撹拌後、溶媒、過剰のオキザリルクロリドを減圧
下留去し、標記化合物を含む油状物を得た。このものは
精製せずに次の反応に用いた。
【００３５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐ
ｍ）：２.２４（３Ｈ,ｓ,５位メチル）, ５.１１（２
Ｈ,ｓ,４位メチレン）.
ｍ）：２.２４（３Ｈ,ｓ,５位メチル）, ５.１１（２
Ｈ,ｓ,４位メチレン）.
【００３６】実 施 例 ４ （３Ｓ,４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル］−１−（５−メチル−２−
オキソ−１,３−ジオキソレン−４−イル） メトキサリ
ル−４−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフロイルチオ］−
２−アゼチジノンの合成：実施例３で得た（５−メチル
−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４−イル）メト
キサリルクロリドおよび（３Ｓ,４Ｒ）−３−［（Ｒ）
−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル］−
４−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフロイルチオ］−２−
アゼチジノン １９.２ｇ（５３ミリモル）をジクロロメ
タン ８０ｍｌに溶解し、この中にトリエチルアミン １
１.７ｍｌ（８４ミリモル）をジクロロメタン ４０ｍｌ
に溶解した溶液を−５〜５℃で滴下した。
メチルシリロキシ）エチル］−１−（５−メチル−２−
オキソ−１,３−ジオキソレン−４−イル） メトキサリ
ル−４−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフロイルチオ］−
２−アゼチジノンの合成：実施例３で得た（５−メチル
−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４−イル）メト
キサリルクロリドおよび（３Ｓ,４Ｒ）−３−［（Ｒ）
−１−（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル］−
４−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフロイルチオ］−２−
アゼチジノン １９.２ｇ（５３ミリモル）をジクロロメ
タン ８０ｍｌに溶解し、この中にトリエチルアミン １
１.７ｍｌ（８４ミリモル）をジクロロメタン ４０ｍｌ
に溶解した溶液を−５〜５℃で滴下した。
【００３７】５℃で３０分間撹拌後、ジクロロメタン
４００ｍｌを加え、飽和硫酸水素カリウム水溶液 １５
０ｍｌ、水 １５０ｍｌで１回ずつ洗浄した。 無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合
物を含む油状物 ３２.７ｇを得た。 このものは精製せ
ずに次の反応に用いた。
４００ｍｌを加え、飽和硫酸水素カリウム水溶液 １５
０ｍｌ、水 １５０ｍｌで１回ずつ洗浄した。 無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し、標記化合
物を含む油状物 ３２.７ｇを得た。 このものは精製せ
ずに次の反応に用いた。
【００３８】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐ
ｍ）：０.０２（３Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−Ｍｅ）, ０.０８（３
Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−Ｍｅ）,０.８５（９Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−ｔ−
Ｂｕ）,１.２１（３Ｈ,ｄ,Ｊ=６.５Ｈｚ,３位のエチル
のメチル）,１.８７−１.９５（２Ｈ,ｍ,テトラヒドロ
フラン環のメチレン）,２.０５−２.１４（１Ｈ,ｍ,テ
トラヒドロフラン環のメチレンの中の１Ｈ） ２.１９（３Ｈ,ｓ,ジオキソールのメチル）,２.２３−
２.３１（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメチレンの
中の１Ｈ）
ｍ）：０.０２（３Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−Ｍｅ）, ０.０８（３
Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−Ｍｅ）,０.８５（９Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−ｔ−
Ｂｕ）,１.２１（３Ｈ,ｄ,Ｊ=６.５Ｈｚ,３位のエチル
のメチル）,１.８７−１.９５（２Ｈ,ｍ,テトラヒドロ
フラン環のメチレン）,２.０５−２.１４（１Ｈ,ｍ,テ
トラヒドロフラン環のメチレンの中の１Ｈ） ２.１９（３Ｈ,ｓ,ジオキソールのメチル）,２.２３−
２.３１（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメチレンの
中の１Ｈ）
【００３９】４.５５（１Ｈ,ｔ,Ｊ=７Ｈｚ,テトラヒド
ロフラン環のメチン）,３.８４−３.８９（１Ｈ,ｍ,テ
トラヒドロフラン環のメチレンの中の１Ｈ） ３.９６−４.００（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ３.４１（１Ｈ,ｄｄ,Ｊ=６.５,１.５Ｈｚ,３位のメチ
ン）,４.３３（１Ｈ,ｄｑ,Ｊ=６.５,６.５Ｈｚ,３位の
エチルのメチン）,４.９５（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,ジ
オキソールについたメチレン中の１Ｈ） ４.９７（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,ジオキソールについた
メチレン中の１Ｈ） ５.８６（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,４位のメチン）.
ロフラン環のメチン）,３.８４−３.８９（１Ｈ,ｍ,テ
トラヒドロフラン環のメチレンの中の１Ｈ） ３.９６−４.００（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ３.４１（１Ｈ,ｄｄ,Ｊ=６.５,１.５Ｈｚ,３位のメチ
ン）,４.３３（１Ｈ,ｄｑ,Ｊ=６.５,６.５Ｈｚ,３位の
エチルのメチン）,４.９５（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,ジ
オキソールについたメチレン中の１Ｈ） ４.９７（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,ジオキソールについた
メチレン中の１Ｈ） ５.８６（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,４位のメチン）.
【００４０】実 施 例 ５ （５−メチル−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４
−イル）メチル （５Ｒ,６Ｓ）−６−［（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル］−７−オ
キソ−３−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフリル］−４−
チア−１−アザビシクロ［３.２.０］ヘプタ−２−エン
−２−カルボキシレートの合成：実施例４で得た（３
Ｓ,４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル］−１−（５−メチル−２−オキ
ソ−１,３−ジオキソレン−４−イル）メトキサリル−
４−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフロイルチオ］−２−
アゼチジノン ６０.０ｇ（０.１１モル）にホスホン酸
トリエチル ５６.８ｍｌ（０.３３モル）、キシレン ６
００ｍｌを加え、３時間４５分加熱還流、冷却後、減圧
下溶媒を留去して、 標記化合物 ２８.１ｇ（ＨＰＬＣ
の定量より）を含む結晶を得た（収率５０％）。
−イル）メチル （５Ｒ,６Ｓ）−６−［（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリロキシ）エチル］−７−オ
キソ−３−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフリル］−４−
チア−１−アザビシクロ［３.２.０］ヘプタ−２−エン
−２−カルボキシレートの合成：実施例４で得た（３
Ｓ,４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル］−１−（５−メチル−２−オキ
ソ−１,３−ジオキソレン−４−イル）メトキサリル−
４−［（Ｒ）−２−テトラヒドロフロイルチオ］−２−
アゼチジノン ６０.０ｇ（０.１１モル）にホスホン酸
トリエチル ５６.８ｍｌ（０.３３モル）、キシレン ６
００ｍｌを加え、３時間４５分加熱還流、冷却後、減圧
下溶媒を留去して、 標記化合物 ２８.１ｇ（ＨＰＬＣ
の定量より）を含む結晶を得た（収率５０％）。
【００４１】ｍｐ： ９３−９４℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：１８３５（ジオキソロン Ｃ=
Ｏ）, １７７１（７位 Ｃ=Ｏ）, １７１０（２位エステ
ル Ｃ=Ｏ）. ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０.０６
（３Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−Ｍｅ）, ０.０７（３Ｈ,ｓ,−Ｓｉ
−Ｍｅ）,０.８７（９Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−ｔ−Ｂｕ）,１.２
４（３Ｈ,ｄ,Ｊ=６Ｈｚ,６位エチルのメチル）,１.７９
−１.８６（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメチレン
の中の１Ｈ） １.９４−２.０６（２Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレン）,
Ｏ）, １７７１（７位 Ｃ=Ｏ）, １７１０（２位エステ
ル Ｃ=Ｏ）. ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０.０６
（３Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−Ｍｅ）, ０.０７（３Ｈ,ｓ,−Ｓｉ
−Ｍｅ）,０.８７（９Ｈ,ｓ,−Ｓｉ−ｔ−Ｂｕ）,１.２
４（３Ｈ,ｄ,Ｊ=６Ｈｚ,６位エチルのメチル）,１.７９
−１.８６（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメチレン
の中の１Ｈ） １.９４−２.０６（２Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレン）,
【００４２】２.１８（３Ｈ,ｓ,ジオキソールのメチ
ル）,２.４１−２.４８（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン
環のメチレンの中の１Ｈ） ３.６７（１Ｈ,ｄｄ,Ｊ=６,１.５Ｈｚ,６位のメチン）,
３.８４−３.８９（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ３.９６−４.００（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ４.１５（１Ｈ,ｄｑ,Ｊ=６,６Ｈｚ,６位のエチルのメチ
ン）,４.８７（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１４Ｈｚ,ジオキソールにつ
いたメチレン）,４.９９（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１４Ｈｚ,ジオキ
ソールについたメチレン）,５.３３（１Ｈ,ｔ,Ｊ=７Ｈ
ｚ,テトラヒドロフラン環のメチン） ５.４７（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,５位のメチン）.
ル）,２.４１−２.４８（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン
環のメチレンの中の１Ｈ） ３.６７（１Ｈ,ｄｄ,Ｊ=６,１.５Ｈｚ,６位のメチン）,
３.８４−３.８９（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ３.９６−４.００（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ４.１５（１Ｈ,ｄｑ,Ｊ=６,６Ｈｚ,６位のエチルのメチ
ン）,４.８７（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１４Ｈｚ,ジオキソールにつ
いたメチレン）,４.９９（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１４Ｈｚ,ジオキ
ソールについたメチレン）,５.３３（１Ｈ,ｔ,Ｊ=７Ｈ
ｚ,テトラヒドロフラン環のメチン） ５.４７（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,５位のメチン）.
【００４３】実 施 例 ６ （５−メチル−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４
−イル）メチル （５Ｒ,６Ｓ）−６−［（Ｒ）−１−ヒ
ドロキシエチル］−７−オキソ−３−［（Ｒ）−２−テ
トラヒドロフリル］−４−チア−１−アザビシクロ
［３.２.０］ヘプタ−２−エン−２−カルボキシレート
の合成：実施例５で得た（５−メチル−２−オキソ−
１,３−ジオキソレン−４−イル）メチル （５Ｒ,６
Ｓ）−６−［（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル］−７−オキソ−３−［（Ｒ）−２−テ
トラヒドロフリル］−４−チア−１−アザビシクロ
［３.２.０］ヘプタ−２−エン−２−カルボキシレート
５.０ｇ（９.８ミリモル）をテトラヒドロフラン ２７
ｍｌに溶解し、酢酸 ３.５２ｇ（５９ミリモル）および
tert−ブチルアンモニウムフルオリド ５.１１ｇ（２０
ミリモル）を加え、室温で２０時間撹拌した。
−イル）メチル （５Ｒ,６Ｓ）−６−［（Ｒ）−１−ヒ
ドロキシエチル］−７−オキソ−３−［（Ｒ）−２−テ
トラヒドロフリル］−４−チア−１−アザビシクロ
［３.２.０］ヘプタ−２−エン−２−カルボキシレート
の合成：実施例５で得た（５−メチル−２−オキソ−
１,３−ジオキソレン−４−イル）メチル （５Ｒ,６
Ｓ）−６−［（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリ
ロキシ）エチル］−７−オキソ−３−［（Ｒ）−２−テ
トラヒドロフリル］−４−チア−１−アザビシクロ
［３.２.０］ヘプタ−２−エン−２−カルボキシレート
５.０ｇ（９.８ミリモル）をテトラヒドロフラン ２７
ｍｌに溶解し、酢酸 ３.５２ｇ（５９ミリモル）および
tert−ブチルアンモニウムフルオリド ５.１１ｇ（２０
ミリモル）を加え、室温で２０時間撹拌した。
【００４４】減圧下溶媒を留去した後、酢酸エチル １
００ｍｌを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水で洗浄した。 無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。 残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再
結晶し、ｍｐ１２５−１３０℃の無色結晶として標記化
合物 ３.１４ｇ（８１.０％）を得た。
００ｍｌを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水で洗浄した。 無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去した。 残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再
結晶し、ｍｐ１２５−１３０℃の無色結晶として標記化
合物 ３.１４ｇ（８１.０％）を得た。
【００４５】ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３５１２（−Ｏ
Ｈ）, １８４０（ジオキソロン Ｃ=Ｏ）, １７６９（７
位Ｃ=Ｏ）,１７１１（２位エステル Ｃ=Ｏ）. ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１.３３
（３Ｈ,ｄ,Ｊ=６.５Ｈｚ,６位エチルのメチル）,１.７
８−１.８６（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメチレ
ンの中の１Ｈ） １.９３−２.０８（２Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレン）,２.２０（３Ｈ,ｓ,ジオキソールのメチル）,
２.４１−２.４８（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ２.９５（１Ｈ,ｓ,−ＯＨ）,
Ｈ）, １８４０（ジオキソロン Ｃ=Ｏ）, １７６９（７
位Ｃ=Ｏ）,１７１１（２位エステル Ｃ=Ｏ）. ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3/ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１.３３
（３Ｈ,ｄ,Ｊ=６.５Ｈｚ,６位エチルのメチル）,１.７
８−１.８６（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメチレ
ンの中の１Ｈ） １.９３−２.０８（２Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレン）,２.２０（３Ｈ,ｓ,ジオキソールのメチル）,
２.４１−２.４８（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ２.９５（１Ｈ,ｓ,−ＯＨ）,
【００４６】３.７２（１Ｈ,ｄｄ,Ｊ=６.５,１.５Ｈｚ,
６位のメチン）,３.８４−３.８９（１Ｈ,ｍ,テトラヒ
ドロフラン環のメチレンの中の１Ｈ） ３.９５−４.００（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ４.２０（１Ｈ,ｄｑ,Ｊ=６.５,６.５Ｈｚ,６位のエチル
のメチン）,４.９７（２Ｈ,ｓ,ジオキソールについたメ
チレン）,５.３０（１Ｈ,ｔ,Ｊ=７Ｈｚ,テトラヒドロフ
ラン環のメチン） ５.５１（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,５位のメチン）.
６位のメチン）,３.８４−３.８９（１Ｈ,ｍ,テトラヒ
ドロフラン環のメチレンの中の１Ｈ） ３.９５−４.００（１Ｈ,ｍ,テトラヒドロフラン環のメ
チレンの中の１Ｈ） ４.２０（１Ｈ,ｄｑ,Ｊ=６.５,６.５Ｈｚ,６位のエチル
のメチン）,４.９７（２Ｈ,ｓ,ジオキソールについたメ
チレン）,５.３０（１Ｈ,ｔ,Ｊ=７Ｈｚ,テトラヒドロフ
ラン環のメチン） ５.５１（１Ｈ,ｄ,Ｊ=１.５Ｈｚ,５位のメチン）.
【００４７】
【発明の効果】本発明によれば、抗菌剤として有用なペ
ネム誘導体（I）の製造工程を従来方法よりも短縮する
ことができ、ペネム化合物のエステル体を一旦遊離のカ
ルボン酸とした後、改めてエステル化するといった無駄
な工程も必要としないので、ペネム誘導体（I）の製造
法として工業的に極めて優れたものである。 以 上
ネム誘導体（I）の製造工程を従来方法よりも短縮する
ことができ、ペネム化合物のエステル体を一旦遊離のカ
ルボン酸とした後、改めてエステル化するといった無駄
な工程も必要としないので、ペネム誘導体（I）の製造
法として工業的に極めて優れたものである。 以 上
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関内 和人 群馬県邑楽郡千代田町大字赤岩字くらかけ 2716番地１ サントリー株式会社千代田医 薬工場内 (72)発明者 岩浪 辰也 群馬県邑楽郡千代田町大字赤岩字くらかけ 2716番地１ サントリー株式会社千代田医 薬工場内 (72)発明者 水川 康正 群馬県邑楽郡千代田町大字赤岩字くらかけ 2716番地１ サントリー株式会社千代田医 薬工場内 (72)発明者 島 啓祐 群馬県邑楽郡千代田町大字赤岩字くらかけ 2716番地１ サントリー株式会社千代田医 薬工場内 (72)発明者 吉田 卓朗 群馬県邑楽郡千代田町大字赤岩字くらかけ 2716番地１ サントリー株式会社医薬セン ター内 (72)発明者 岩田 裕光 大阪府高槻市南平台５−27−７
Claims (19)
- 【請求項１】 式（I） 【化１】 ［式中、Ｒは、基 【化２】 （ここで、Ｒ1は水素原子またはＣ1〜Ｃ6の直鎖もしく
は分岐鎖のアルキル基を、Ｒ2は、Ｃ1〜Ｃ6のアルキル
基、Ｃ1〜Ｃ6のアルケニル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール基
またはＣ7〜Ｃ11のアラルキル基を示し、それぞれの基
は、更にＣ1〜Ｃ6のアルキル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール
基、Ｃ7〜Ｃ11アラルキル基、水酸基、Ｃ1〜Ｃ6のアル
コキシ基、ハロゲン原子によって置換されていてもよ
く、ｎは１〜６の数を意味する）、基 【化３】 （ここで、Ｒ1及びＲ2は上記と同一の意味を有し、ｐは
１または２の数を意味する）、基 【化４】 （ここで、Ｒ1は前記した意味を有し、Ｙは酸素原子を
１個もしくは２個環内に有する５員環または６員環のヘ
テロ脂肪族基を示す）または 基−ＣＨ2−Ｚ （ここで、Ｚは５−置換−２−オキソ−１,３−ジオキ
ソレン−４−イル基を示し、５位置換基はＣ1〜Ｃ6のア
ルキル基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール基またはＣ7〜Ｃ11のア
ラルキル基を示し、この基は、更にＣ1〜Ｃ6のアルキル
基、Ｃ6〜Ｃ10のアリール基、Ｃ7〜Ｃ11のアラルキル
基、水酸基、Ｃ1〜Ｃ6のアルコキシ基、ハロゲン原子に
よって置換されていてもよい）を示し、ｍは０または１
を示す］で表わされるペネム誘導体の製造法であって、
式（II） 【化５】 （式中、Ｒ'は、水酸基の保護基または水素原子を示
し、ｍは前記と同じ）で表わされるアゼチジノン化合物
を、式（III） 【化６】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒは前記と同じ）で
表わされるシュウ酸モノエステルの酸ハロゲン化物と反
応させ、次いでこれを環化させることを特徴とする方
法。 - 【請求項２】 式（I）の化合物において、３位の置換
基が（Ｒ）−２−テトラヒドロフリル基である請求項第
１項記載の製造法。 - 【請求項３】 式（I）の化合物において、３位の置換
基が、３−テトラヒドロフリルメチル基である請求項第
１項記載の製造法。 - 【請求項４】 式（I）の化合物において、基Ｙがテト
ラヒドロフリル基である請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項５】 式（I）の化合物において、基Ｙがテト
ラヒドロピラニル基である請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項６】 式（I）の化合物において、基Ｙが１,３
−ジオキソラニル基である請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項７】 式（I）の化合物において、基Ｙが２−
オキソ−１,３−ジオキソラニル基である請求項第１項
記載の製造法。 - 【請求項８】 式（I）の化合物において、基Ｙが１,４
−ジオキサニル基である請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項９】 式（I）の化合物において、基Ｙが
（Ｒ）−２−テトラヒドロフリル基である請求項第１項
記載の製造法。 - 【請求項１０】 式（I）の化合物において、基Ｙが
（Ｓ）−２−テトラヒドロフリル基である請求項第１項
記載の製造法。 - 【請求項１１】 式（I）の化合物において、基Ｒが
（５−メチル−２−オキソ−１,３−ジオキソレン−４
−イル）メチル基である請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項１２】 式（I）の化合物において、基Ｒがア
セチルオキシメチル基である請求項第１項記載の製造
法。 - 【請求項１３】 式（I）の化合物において、基Ｒが１
−（アセチルオキシ）エチル基である請求項第１項記載
の製造法。 - 【請求項１４】 式（I）の化合物において、基Ｒがピ
バロイルオキシメチル基である請求項第１項記載の製造
法。 - 【請求項１５】 式（I）の化合物において、基Ｒが１
−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基である請求項
第１項記載の製造法。 - 【請求項１６】 式（I）の化合物において、基Ｒが１
−（イソプロピルオキシカルボニルオキシ）エチル基で
ある請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項１７】 式（I）の化合物において、基Ｒが１
−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）エチル基
である請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項１８】 式（I）の化合物において、基Ｒが３
−フタリジル基である請求項第１項記載の製造法。 - 【請求項１９】 式（I）の化合物において、基Ｒが光
学活性体である、請求項第１項記載の製造法。
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Cited By (1)
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| WO2002079185A1 (fr) * | 2001-03-30 | 2002-10-10 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procede de production de derive d'ester (dioxolenon-4-yl) methyle |
-
1992
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| WO2002079185A1 (fr) * | 2001-03-30 | 2002-10-10 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procede de production de derive d'ester (dioxolenon-4-yl) methyle |
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| KR100880807B1 (ko) * | 2001-03-30 | 2009-01-30 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | (디옥소레논-4-일)메틸에스테르 유도체의 제조방법 |
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