JPH06191001A - グラビア彫刻機のスタイラス変位調整装置 - Google Patents
グラビア彫刻機のスタイラス変位調整装置Info
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Abstract
を行う。 【構成】 この装置は、彫刻ヘッド21に設けられたス
タイラスによってグラビアシリンダCの表面に彫刻され
るセルの深さを調整するためのグラビア彫刻機のスタイ
ラス変位調整装置であり、光学顕微鏡41を含むセル観
測手段と、画像処理装置47と、コントローラ40を含
む彫刻信号調整手段とを備えている。前記セル観測手段
は、彫刻ヘッド21によってシリンダ表面に形成された
セルの形状を画像情報として得る。前記画像処理装置4
7は、セル観測手段で得られた画像情報からセルのサイ
ズを演算する。前記彫刻信号調整手段は、画像処理装置
47の処理結果に基づいて所望のセル形状が得られるよ
うにスタイラスを駆動するための彫刻信号を調整する。
Description
し、特に、彫刻ヘッドに設けられたスタイラスによって
グラビアシリンダの表面に彫刻されるセルの深さを調整
するためのスタイラス変位調整装置に関する。
された円筒状のグラビアシリンダを回転させながら、こ
のシリンダ表面にセルと呼ばれる四角錐状の微小な穴を
形成する装置である。そして、セルの深さと幅とによっ
て当該セルに挿入されるインキの量が制御され、画像濃
度が表現されるようになっている。シリンダ表面にセル
を形成するためには、彫刻ヘッドが用いられる。彫刻ヘ
ッドには、先端にダイヤモンドの針(バイト)を有する
スタイラスが設けられており、このスタライスを数kH
zの周波数で振動させて彫刻を行っている。
形を示したものであり、スタライスの変位波形に相当し
ている。この信号波形は、図14(a)に示すような高
周波のキャリー信号波形と図14(b)に示すような濃
度信号波形とを重畳して得られるものである。このよう
な信号波形(彫刻信号)を彫刻ヘッドに印加することに
より、濃度信号に対応する深さ及び幅のセルをシリンダ
表面に彫刻することができる。なお、図14(c)にお
ける一点鎖線Sがシリンダ表面に相当しており、図の斜
線領域で示す部分がセルに相当している。
ア彫刻機では、セル深さによって濃度を表現するように
しているので、セル深さと濃度とは一対一対応の関係に
する必要がある。しかも、線数(画像の目の細かさに相
当)にかかわらず、シリンダの軸方向に隣り合うセル間
には土手と呼ばれる彫刻されない部分を設ける必要があ
る。このため、濃度とセル深さ(セル形状)との対応関
係をセル形状や線数によって変えなければならない。し
たがって、彫刻する線数及びセル形状が変わるたびにス
タイラスの変位調整が必要となる。また、彫刻ヘッドの
ばらつきによって、同じ彫刻信号を印加しても同じスタ
イラス変位とはならないので、彫刻ヘッドが変わるたび
に変位調整をしなければならない。さらに、シリンダが
交換されると、表面の銅メッキの硬度によってセル深さ
が変化するため、この場合にも変位調整が必要となる。
試し彫りを行って変位調整を行っている。この試し彫り
は、グラビアシリンダの端部に適当な大きさの彫刻信号
を彫刻ヘッドに印加して彫刻を行い、彫刻されたセルを
光学顕微鏡、CCDカメラ及びモニタ等からなるセルサ
イズ検出装置により拡大観察してセル幅を計測する。そ
して、彫刻ヘッドに印加する彫刻信号を変化させながら
所望のセル幅になるまで試し彫りを繰り返して行うよう
にしている。
合には、作業者の多大な労力と長時間の作業時間を必要
とし、生産性を低下させる。また、セルのサイズ計測を
作業者によって行っているために、作業者の個人差によ
ってばらつきを生じ、常に安定した濃度とセル深さとの
関係を得ることが困難である。本発明の目的は、簡単に
かつ常に安定したスタイラス変位調整を行うことができ
るようにすることにある。
刻機のスタイラス変位調整装置は、彫刻ヘッドに設けら
れたスタイラスによってグラビアシリンダの表面に彫刻
されるセルの深さを調整するための装置であり、セル観
測手段と、画像処理手段と、彫刻信号調整手段とを備え
ている。
シリンダ表面に形成されたセルの形状を画像情報として
得るための手段である。前記画像処理手段は、セル観測
手段で得られた画像情報からセルのサイズを演算する手
段である。前記彫刻信号調整手段は、画像処理手段の処
理結果に基づいて所望のセル形状が得られるようにスタ
イラスを駆動するための彫刻信号を調整する手段であ
る。
調整装置では、スタイラスの変位調整を行うためのセル
を適当な大きさの彫刻信号によりシリンダ端部に彫刻す
る。このセルの形状は、セル観測手段によって画像情報
として観測される。この観測情報は、画像処理手段に入
力され、ここでセルのサイズが演算される。そして彫刻
信号調整手段は、画像処理手段での演算結果に基づい
て、所望のセル形状が得られるような彫刻信号を調整す
る。
セルの形状を観測し、これを画像処理して彫刻信号を自
動的に調整するので、従来に比較して短時間でかつ常に
安定したスタイラスの変位調整を行うことが可能とな
る。
たグラビア彫刻機を示す。このグラビア彫刻機は、ベッ
ド1と、ベッド1の上面に固定された主軸台2と、主軸
台2と対向して配置された芯押し台3と、第1テーブル
4及び第2テーブル5とを備えている。芯押し台3は、
ベッド1の上面に配置された1対のガイドレール6に沿
って装置の左右方向に移動自在である。そして、ベッド
側部に設けられたモータ及びベルト等からなる駆動機構
9によって、芯押し台3は主軸台2に対して接近または
離反可能である。なお、芯押し台3のセンタ12は、シ
リンダ13によって出没自在である。第1テーブル4及
び第2テーブル5は、ベッド1の上面に配置された1対
のガイドレール7に沿って左右方向に移動自在である。
各テーブル4,5は、1対のレール7間に配置されたボ
ールねじ15及びこれを駆動するための駆動モータ16
によってレール7に沿って移動可能である。主軸台2の
主軸10は、駆動モータ及びベルト等からなる駆動機構
11によって回転させられるようになっている。このよ
うな構成において、クラビアシリンダCは、図1の二点
鎖線で示すように、主軸10とセンタ12との間に支持
される。
ッド21が、装置の前後方向に移動自在に設けられてい
る。そして第1テーブル4上面には、ガイドレール20
が設けられ、ボールねじ22及び駆動モータ23からな
る駆動機構によって彫刻ヘッド21が移動させられるよ
うになっている。図3に、彫刻ヘッド21に設けられた
スタイラス及びその駆動機構を示す。
先端に固定されており、その一端にはダイヤモンドバイ
ト32が装着されている。捩じりシャフト31の他端部
は固定部33に固定されている。また捩じりシャフト3
1の中間部には、平面視菱形のロータ34が固定されて
いる。ロータ34の周囲には、ロータ34を挟み込むよ
うに積層磁性体(ステータ)35が配置されており、こ
のステータ35の側部にはステータ35に磁力を与える
ための永久磁石36が配置されている。また、ロータ3
4の周囲でロータ34とステータ35との間には、コイ
ル37が配置されている。このような構成では、コイル
37に彫刻信号を印加することにより、スタイラス30
は図の矢印方向に彫刻信号の周波数に応じて振動する。
装置はCPU、RAM及びROM等からなるマイクロコ
ンピュータを含むコントローラ40を有している。ま
た、主軸台2と芯押し台3との間に配置されたグラビア
シリンダCの側端部に近い表面に対向して、シリンダ表
面に形成されたセルの形状を観測するための光学顕微鏡
41が配置されている。光学顕微鏡41は、グラビアシ
リンダCに対して接近または離反自在となっている。光
学顕微鏡41にはファイバーケーブル42を介してスト
ロボ光源43が接続されている。またストロボ光源43
にはストロボ電源44が接続されている。このストロボ
光源43によって所定の周波数でストロボを発光させる
ことにより、グラビアシリンダを回転させながらシリン
ダ表面の1か所を静止画として観測することが可能とな
る。光学顕微鏡41にはCCD45が設けられている。
CCD45で得られた画像情報は、カメラコントローラ
46に入力されるようになっている。カメラコントロー
ラ46は画像処理装置47に接続されている。
接続されている。画像処理装置47にはカメラコントロ
ーラ46からビデオ信号が入力され、画像処理装置47
からCRTモニタ48に対してはモニタ信号が送出され
る。画像処理装置47は、カメラコントローラ46から
のビデオ信号をもとにセル形状を演算するための装置で
ある。この画像処理装置47とコントローラ40とはR
S232Cを介して互いに接続されている。
M等を有するマイクロコンピュータを含んでおり、画像
処理装置47からのデータをもとに彫刻信号を調整する
ための機能を有している。コントローラ40から出力さ
れた彫刻信号は、駆動アンプ49を介して彫刻ヘッド2
1に与えられる。彫刻ヘッド21内では、駆動アンプ4
9からの彫刻信号はコイル37に供給される。また、シ
リンダCの回転位置はエンコーダ50によって検出され
るようになっており、このエンコーダ50の出力信号が
コントローラ40に入力されるようになっている。ま
た、コントローラ40は、カメラコントローラ46に対
してタイミングパルスを送出し、カメラコントローラ4
6は、ストロボ電源44に対してストロボを発光させる
ためのストロボタイミング信号を送出する。なお、コン
トローラ40には他の入出力部が接続されている。
したがって本装置の制御動作を説明する。装置の起動ス
イッチがオンされると、まずステップS1において初期
設定がなされる。この初期設定では、各部を初期位置に
移動させる等の処理を行う。次にステップS2では、セ
ルモニタモードが選択されたか否かを判断する。このセ
ルモニタモードは、グラビアシリンダに対して試験的に
彫刻を行い、スタイラスの変位調整すなわちセル深さの
調整を行うためのモードである。またステップS3では
彫刻開始指令がなされたか否か、ステップS4ではその
他の処理が選択されたか否かを判断する。
プログラムはステップS2からステップS5に移行し、
後述するスタイラス変位調整処理を実行する。またスタ
イラスの変位調整が終了して彫刻の開始が選択された場
合にはステップS3からステップS6に移行する。ステ
ップS6では、グラビアシリンダの表面に画像情報に応
じた彫刻処理が実行される。またその他の処理が選択さ
れた場合には、ステップS4からステップS7に移行
し、選択された処理を実行してステップS2に戻る。
明する。ここで、各種の線数における濃度とセル深さと
の関係を図10に示す。線数の種類としては、コンプレ
ストセル、エロンゲートセル、ファイン等があり、線数
の違いによって濃度とセル深さとの関係が図に示すよう
に異なる。ここで、コンプレストセル(175L/i)
を例にとって説明すると、スタイラス変位は図の実線a
に示されるような特性に調整されなければならない。こ
れは、濃度100%ではセル深さを42μmとし、濃度
5%ではセル深さを8μmとし、また濃度0%ではシリ
ンダ表面が彫刻されないようにスタイラスとシリンダ表
面との間に所定の隙間x(5μm程度)が生じるように
するためである。このとき、演算によって求めるその時
の条件に適合する調整用基準特性として、図の破線bで
示すような特性を求め、この特性を実線aのデータに補
正して彫刻信号を作成する。
刻信号の出力電圧波形vは次式で表される。 v=(−127〜127)Gc+(0〜255)Gd−16Gs…(1) ここで、式(1)における第1項はキャリー信号(図1
4(a)参照)を作成するための項であり、第2項は濃
度信号(図14(b)参照)を付加する項であり、第3
項はオフセット(図10参照)を決定するための項であ
る。ここで、式(1)は、キャリー信号は振幅が±12
7ステップで、濃度信号は256ステップ(必ずしも2
56ステップでなくてもよく、後述の例では228ステ
ップ)で、オフセットは16ステップでそれぞれ変化す
ることを示している。また、式(1)における定数G
c,Gd,Gsがセル形状や線数あるいはシリンダ径等
の彫刻パラメータによって調整されるべきゲインであ
る。なお、キャリーゲインGcは出力波形の振幅を示
し、濃度ゲインGdは図10における破線の特性bの傾
きを示し、オフセットゲインGsはキャリー信号中心部
のシリンダ表面からのオフセットを示している。
ートにしたがって求められる。まずステップS10で
は、セル形状や線数あるいはシリンダ径等の彫刻パラメ
ータがオペレーターによって入力されるのを待つ。彫刻
パラメータが入力されると、ステップS11において各
パラメータをコントローラ40に設定する。次にステッ
プS12では、濃度ステップパターンを彫刻する。ここ
では、前回既に各ゲインが本処理によって求められてい
る場合には、前回のゲインを用いて、10%濃度ごとに
セルが形成されるような彫刻信号を出力する。これによ
り、グラビアシリンダCには、10%濃度ごとのセルが
彫刻される。また、各ゲインの値が求められていない場
合には、それぞれのゲインを予め設定された初期値(G
c=Gc0,Gd=Gd0 ,Gs=Gs0 )として10
%濃度ごとのセルを彫刻する。
ーラ46に対して制御信号を送出し、光学顕微鏡41を
シリンダ表面に焦点合わせさせる。また、グラビアシリ
ンダの回転数と前述した彫刻のセル線数とに応じてタイ
ミングパルスをカメラコントローラ46に送出し、その
タイミングでストロボを発光させる。これにより、光学
顕微鏡41によりグラビアシリンダCに彫刻された所定
位置のセル形状を観測することが可能となる。
焦点合わせする場合には、CCD45で取り込んだセル
画像の濃度ヒストグラムを作成し、最大コントラストが
得られるまで光学顕微鏡41を前進あるいは後退させ
る。このようにして最大コントラストが得られた光学顕
微鏡位置がフォーカス位置である。このような制御は、
画像処理装置47によって行われる。
ータは、ビデオ信号としてカメラコントローラ46から
画像処理装置47に送られる。そこでステップS14に
おいて、コントローラ40から画像処理装置47に対し
て信号を出力し、セルサイズ(たとえば、セルの最大
幅)を画像処理装置47に計測させる。このセルサイズ
の計測データは、RS232Cを介してコントローラ4
0に取り込まれる。ステップS15では、この取り込ま
れたデータをもとに、セルサイズが許容値内であるか否
かを判断する。ここで、10%濃度ごとにセルが彫刻さ
れているが、許容値内にあるか否かの判断は、20%濃
度のセルと100%濃度のセルとによって行う。この時
点でセルサイズが許容値内にある場合には、図9のデー
タ補正処理に移行する。すなわち、たとえばグラビアシ
リンダのみを交換し、他の条件が変更されていない場合
には、前回得られた調整データを使える場合が多い。こ
の場合にはステップS15でYESと判断される場合が
多く、調整用基準データを作成する処理を省略してデー
タ補正処理のみを行う。これにより、時間短縮を図るこ
とができる。
無い場合には、図7のステップS16に移行する。ステ
ップS16では、各ゲインGc,Gd,Gsを初期値と
し、濃度100%として式(1)にしたがった彫刻信号
を作成し彫刻を行う。次にステップS17では、前記同
様にして光学顕微鏡41をシリンダ表面にフォーカス
し、ステップS18で濃度100%で彫刻されたセルの
サイズを計測する。ステップS19では、計測されたセ
ルサイズが許容値内にあるか否かを判断する。許容値内
に無い場合にはステップS19からステップS20に移
行する。ステップS20では、濃度ゲインGd及びキャ
リーゲインGcを変更する。この変更された各ゲインを
用いて式(1)にしたがった濃度100%の彫刻信号を
作成し、ステップS21で彫刻処理を実行する。そして
ステップS18に戻る。ステップS18〜ステップS2
1の処理を繰り返し実行して、濃度100%のセルサイ
ズが許容値内に入った場合にはステップS19からステ
ップS22に移行する。ステップS22では、最終的に
得られたキャリーゲインGcを決定する。
ンGd及びキャリーゲインGcの変更について説明す
る。なお、セルの形状としては、図11(a)〜(c)
に示すように、円周方向(グラビアシリンダの回転方
向)に隣接するセル間で連続部を形成する連続タイプ
と、図12(a)に示すように、円周方向に隣接するセ
ル間で連続部を形成しない不連続タイプとがある。連続
タイプは、たとえば、印刷時にインキの流れを向上させ
るために使用される。
1 及びキャリーゲインGc1 による1回目の彫刻によっ
て図11(a)に示すようなセル形状が得られ、また濃
度ゲインGd2 及びキャリーゲインGc1 による2回目
の彫刻によって図11(b)に示すようなセル形状が得
られたとする。また、目標のセル形状(最大幅Wa、連
続部の幅Wb)が得られる濃度ゲインをGd、キャリー
ゲインをGcとすると、目標濃度ゲインGd及び目標キ
ャリーゲインGcは、それぞれ以下のようにして計算上
求めることができる。
にして求める。すなわち図12(a)に示すようにセル
が彫刻された場合には、各セル間の距離L,l及びセル
の幅Wは、図12(b)に示す彫刻信号出力波形の同符
号で示した部分に対応している。すなわち、図において
Lがキャリー信号の周期(=2π)に対応しているの
で、図12(b)におけるxは、
て、
W1a,W2aに、さらにC A を(W2a−W2b)に代入すれ
ば、目標濃度ゲインGd及び目標キャリーゲインGcを
求めることができる。
濃度100%のセルを彫刻することによって理論上は目
標の濃度ゲイン及びキャリーゲインが得られる。しか
し、実際はステップ18〜ステップ21の処理を何回か
繰り返すことによって目標ゲインが得られる。次に、図
8のステップS25において濃度0%で彫刻されるよう
に彫刻信号を出力する。このとき、オフセットゲインG
sは予め設定された初期値Gs0 を用い、キャリーゲイ
ンはステップS22で決定されたGcを用い、式(1)
にしたがった濃度0%の彫刻信号を作成する。ステップ
S26及びステップS27では、前記同様に光学顕微鏡
41をシリンダ表面にフォーカスし、濃度0%で彫刻さ
れたセルの形状を観測する。ステップS28では、シリ
ンダ表面に彫刻されているか否かを判断する。
からステップS29に移行する。ステップS29では、
オフセットゲインGsを増やし(Gs+Gsi)、ステ
ップS30に移行する。ステップS30、ステップS3
1及びステップS32では、前記同様にステップS29
で変更されたオフセットゲインGsを用いて濃度0%で
彫刻されるように彫刻信号を出力する。そして光学顕微
鏡41をシリンダ表面にフォーカスしてセルの形状を観
測する。ステップS33では彫刻されたか否かを判断す
る。彫刻された場合にはステップS29に戻り、オフセ
ットをさらに増加してスタイラスをシリンダ表面から遠
ざけ、同様の処理を繰り返し実行する。そしてオフセッ
トを増加して彫刻されなくなった時点で次のステップに
移行する。
と判断された場合にはステップS28からステップS3
5に移行する。ステップS35では、オフセットゲイン
Gsを減らし(Gs−Gsi)、ステップS36、ステ
ップS37及びステップS38を実行する。すなわち、
減らされたオフセットゲインGsで濃度0%の彫刻がな
されるように彫刻信号を出力し、光学顕微鏡41をシリ
ンダ表面にフォーカスしてセル形状を観測する。ステッ
プS39では、彫刻されたか否かを判断する。彫刻され
なかったと判断された場合にはステップS35に戻り、
さらにオフセットゲインGsを減少させる。そしてステ
ップS36〜ステップS39の処理を繰り返し実行す
る。オフセットゲインGsを徐々に減らしてスタイラス
をシリンダ表面に近づけ、彫刻された場合には、ステッ
プS39からステップS40に移行する。ステップS4
0では、オフセットゲインGsをワンステップだけ増加
し(Gs+Gsi)、ステップS41に移行する。この
ようにしてオフセットゲインGsが決定される。
ゲインGdの計算を行う。ここでは、 Gd=Gd0 +16(Gs−Gs0 )/228 に基づいて計算する。ここで、上式における「228」
は濃度100%のステップ数(式(1)では「25
6」)に相当し、「16」は式(1)におけるオフセッ
トの変化ステップに相当している。
Gdが決定され、彫刻信号を作成するための式(1)は
確定する。このようにして得られた式(1)から彫刻信
号データを求め、ステップS42でたとえば10%ごと
の濃度ステップパターンを彫刻する。次に、ステップS
43及びS44では、前記同様に光学顕微鏡41をシリ
ンダ表面にフォーカスし、各濃度%ごとに形成されたセ
ルの形状を観測する。これにより、図10の破線bで示
す調整用基準特性が得られる。
タをもとに、実際の特性(図10における実線a)を得
るためにデータ補正を行う。すなわち、図13に示すよ
うに、前記のセル深さ調整処理によって破線で示す調整
用基準データによる特性bが得られると、実行データで
ある特性aの濃度データを、対応する基準特性b上にお
けるデータに書き換えてデータ補正を行う。特性bは、
ある関数で表され、また特性aも関数で表される。した
がって、たとえば濃度e1 及びe2 を、2つの関数式を
用いて濃度データe3 及びe4 に補正する。このように
して、たとえば濃度e1 のセルを形成する場合は、調整
用基準特性b上では濃度e3 に相当するので、e1 をe
3 に補正して彫刻信号を作成する。これにより、形成さ
れたセルによる濃度はe1 となる。
濃度の関係にあまり影響しない場合には、各ゲインを求
めるための処理が省略されてステップS45が処理され
るが、この場合は、ステップS11で求めた各濃度%の
セルサイズデータをもとに調整用基準特性bを求め、デ
ータ補正を行う。このような実施例では、彫刻パラメー
タをコントローラ40に設定するだけで自動的に安定し
たスタイラス変位の調整を行うことができ、作業者の労
力や作業時間を軽減できる。また、常に安定したセル深
さの調整を行うことができる。
セル形状を計測できるため、彫刻中のセルのサイズの安
定性の確認やスタイラスの欠けによるセルの変形等も検
出でき、早期に異常検出を行うことができる。 〔他の実施例〕 (a) 前記実施例では、ステップS11で濃度0〜1
00%のセルを形成した後、ステップS15でNOと判
断された場合に、ステップS16でさらに濃度100%
で彫刻を行ってそのセルサイズを計測するようにしてい
るが、ステップS11〜ステップS14で得られた計測
データを利用してステップS19で判断を行うようにし
てもよい。 (b) 前記実施例では、たとえばステップS18〜S
21で彫刻及びセル計測をこの順序で順次繰り返すよう
にしたが、ゲインを種々変化させてまとめて彫刻し、そ
の後彫刻された各セル形状を計測するようにしてもよ
く、この場合には処理時間をより短縮することができ
る。
イラス変位の調整を自動かつ短時間で行うことができる
ので、作業者の労力や作業時間が軽減され、しかも常に
安定したセル深さ調整を行うことができる。
の正面図。
動機構を示す斜視図。
ート。
ート。
ート。
ート。
を示す図。
の説明図。
の説明図。
Claims (2)
- 【請求項1】彫刻ヘッドに設けられたスタイラスによっ
てグラビアシリンダの表面に彫刻されるセルの深さを調
整するためのグラビア彫刻機のスタイラス変位調整装置
であって、 前記スタイラスによってシリンダ表面に形成されたセル
の形状を画像情報として得るためのセル観測手段と、 前記セル観測手段で得られた画像情報から前記セルのサ
イズを演算する画像処理手段と、 前記画像処理手段の処理結果に基づいて所望のセル形状
が得られるように前記スタイラスを駆動するための彫刻
信号を調整する彫刻信号調整手段と、を備えたグラビア
彫刻機のスタイラス変位調整装置。 - 【請求項2】前記彫刻信号調整手段は、 複数の濃度に対応するセルサイズデータから調整用基準
データを作成する基準データ作成手段と、 各濃度に対応する実際のセル深さを得るための実行デー
タを前記基準データ作成手段で得られた調整用基準デー
タから演算する補正手段とを備えている、請求項1に記
載のグラビア彫刻機のスタイラス変位調整装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4290094A JP2818525B2 (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | グラビア彫刻機のスタイラス変位調整装置 |
US08/143,552 US5828464A (en) | 1992-10-28 | 1993-10-26 | Electromechanical rotogravure stylus automatic calibrator |
EP93117504A EP0595324B1 (en) | 1992-10-28 | 1993-10-28 | Automatic real-time calibrator for electromechanical rotogravure stylus |
DE69307097T DE69307097T2 (de) | 1992-10-28 | 1993-10-28 | Automatischer Echtzeitkalibrierer für elektromechanischen Rotationstiefdruckstift |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4290094A JP2818525B2 (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | グラビア彫刻機のスタイラス変位調整装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11500970A (ja) * | 1995-02-27 | 1999-01-26 | オハイオ エレクトロニック イングレイバーズ インク | 彫刻信号を発生させるための方法及び装置 |
JPH11188831A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-07-13 | Dainippon Printing Co Ltd | グラビア版彫刻セル測定装置およびグラビア版彫刻方法 |
JP2010538874A (ja) * | 2007-09-20 | 2010-12-16 | ヘル グラビア システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 刷版を彫刻するための彫刻ヘッド |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5831746A (en) * | 1993-02-25 | 1998-11-03 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Engraved area volume measurement system and method using pixel data |
DE4491078C2 (de) * | 1993-02-25 | 2003-07-24 | Mdc Max Daetwyler Ag Bleienbac | Vorrichtung und Verfahren zur Fehlererkennung für Graviermaschinen |
US5424845A (en) * | 1993-02-25 | 1995-06-13 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Apparatus and method for engraving a gravure printing cylinder |
US5737090A (en) | 1993-02-25 | 1998-04-07 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | System and method for focusing, imaging and measuring areas on a workpiece engraved by an engraver |
US6362899B1 (en) * | 1993-02-25 | 2002-03-26 | Mdc Max Daetwyler Ag | Error detection apparatus and method for use with engravers |
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US5825503A (en) * | 1993-02-25 | 1998-10-20 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Engraving apparatus and method for adjusting a worn stylus using a midtone correction |
DE19627746C2 (de) * | 1995-07-14 | 2002-12-12 | Dainippon Screen Mfg | Tiefdruck-Graviersystem |
DE19722762A1 (de) * | 1997-06-02 | 1998-12-03 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zur Erzeugung eines Probeschnitts |
DE19722996A1 (de) * | 1997-06-02 | 1998-12-03 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zur Signalverarbeitung |
EP0986465B1 (de) * | 1997-06-02 | 2001-11-07 | Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft | Verfahren zur gravur von druckzylindern |
DE19754379A1 (de) * | 1997-12-09 | 1999-06-10 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zum Betrieb eines Gravierorgans |
DE19801473A1 (de) * | 1998-01-16 | 1999-07-22 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zur Kalibrierung einer elektronischen Graviermaschine |
DE19801472A1 (de) * | 1998-01-16 | 1999-07-22 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zur Ermittlung von Einstellwerten |
DE19835303B4 (de) | 1998-08-05 | 2004-07-01 | Hell Gravure Systems Gmbh | Verfahren zur Erzeugung und Auswertung einer Probegravur |
DE19841602A1 (de) * | 1998-09-11 | 2000-03-16 | Heidelberger Druckmasch Ag | Verfahren zur Gravur von Druckzylindern |
DE59914564D1 (de) * | 1999-04-14 | 2008-01-10 | Daetwyler Ag | Verfahren zur Erzeugung von Gravurdaten |
DE19920206B4 (de) * | 1999-05-03 | 2006-02-23 | Hell Gravure Systems Gmbh | Verfahren zum Ausmessen von Näpfchen |
WO2001031911A1 (de) * | 1999-10-19 | 2001-05-03 | Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft | Verfahren zur gravur von druckzylindern |
US6523467B2 (en) * | 1999-12-17 | 2003-02-25 | Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft | Method for measuring engraving cups |
EP1369230A1 (en) * | 2002-06-05 | 2003-12-10 | Kba-Giori S.A. | Method of manufacturing an engraved plate |
DE10260253A1 (de) † | 2002-12-20 | 2004-07-01 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Stichtiefdruckplatten und damit hergestellte Druckplatte |
EP2442985B1 (en) * | 2009-06-18 | 2013-05-15 | Sun Chemical B.V. | Process for gravure printing with a water-based ink |
US9254637B2 (en) * | 2013-09-27 | 2016-02-09 | Ohio Gravure Technologies, Inc. | Real-time virtual proofing system and method for gravure engraver |
CN112455061B (zh) * | 2020-11-23 | 2022-07-29 | 固高科技股份有限公司 | 基于机器视觉的电雕驱动方法、装置和电雕控制系统 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6398442A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 印刷版検査方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4357633A (en) * | 1979-07-11 | 1982-11-02 | Buechler Lester W | Engraving apparatus and method |
US4422101A (en) * | 1980-07-30 | 1983-12-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | Electronic cylinder making method |
WO1984005006A1 (en) * | 1983-06-03 | 1984-12-20 | Gravure Res Inst | Screen gravure engraving system for electromechanical engravers |
DE3617714A1 (de) * | 1986-05-27 | 1987-12-03 | Hell Rudolf Dr Ing Gmbh | Volumen-messverfahren fuer oberflaechenvertiefungen |
US5029011A (en) * | 1990-04-13 | 1991-07-02 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Engraving apparatus with oscillatory movement of tool support shaft monitored and controlled to reduce drift and vibration |
US5293426A (en) * | 1990-05-25 | 1994-03-08 | R. R. Donnelley & Sons Company | Printing cylinder engraver calibration system and method |
US5422958A (en) * | 1990-05-25 | 1995-06-06 | R. R. Donnelley & Sons Company | Printing cylinder engraver calibration system and method |
US5440398A (en) * | 1993-02-25 | 1995-08-08 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Error detection apparatus and method for use with engravers |
US5438422A (en) * | 1993-02-25 | 1995-08-01 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Error detection apparatus and method for use with engravers |
US5424845A (en) * | 1993-02-25 | 1995-06-13 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Apparatus and method for engraving a gravure printing cylinder |
-
1992
- 1992-10-28 JP JP4290094A patent/JP2818525B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-10-26 US US08/143,552 patent/US5828464A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-28 DE DE69307097T patent/DE69307097T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-28 EP EP93117504A patent/EP0595324B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6398442A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 印刷版検査方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11500970A (ja) * | 1995-02-27 | 1999-01-26 | オハイオ エレクトロニック イングレイバーズ インク | 彫刻信号を発生させるための方法及び装置 |
JPH11188831A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-07-13 | Dainippon Printing Co Ltd | グラビア版彫刻セル測定装置およびグラビア版彫刻方法 |
JP2010538874A (ja) * | 2007-09-20 | 2010-12-16 | ヘル グラビア システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 刷版を彫刻するための彫刻ヘッド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0595324A1 (en) | 1994-05-04 |
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