JP2002510570A - 彫刻部材の位置決め方法 - Google Patents

彫刻部材の位置決め方法

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JP2002510570A
JP2002510570A JP2000542179A JP2000542179A JP2002510570A JP 2002510570 A JP2002510570 A JP 2002510570A JP 2000542179 A JP2000542179 A JP 2000542179A JP 2000542179 A JP2000542179 A JP 2000542179A JP 2002510570 A JP2002510570 A JP 2002510570A
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printing cylinder
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axial
billet
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リュプケ ベルント
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/02Engraving; Heads therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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    • Y10T409/303752Process

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、凹版印刷のために印刷胴を彫刻する電子彫刻機械における彫刻部材の位置決め方法および装置に関する。印刷胴(1)では、該印刷胴(1)の軸方向に並び合って配置された、所定のビレット幅(SB)の少なくとも2つの彫刻ビレット(A,B,C)が、セルの形態で、それぞれ対応する彫刻部材(3)によって彫刻される。彫刻の前には、彫刻部材(3)の軸方向の間隔を、要求されるビレット幅(SB)に相互に調整する必要がある。時間を節約するために彫刻部材(3)の軸方向の間隔がまず手動で大まかに調整される。装置(20)において、軸方向の相互の間隔がビレット幅(SB)に等しい基準位置マーク(18)が形成される。彫刻部材(3)は軸方向の位置マーク(19)を有する。大まかな調整時には彫刻部材(3)を手動で移動して、位置マーク(19)と、対応するそれぞれの基準位置マーク(18)とが一致するようにする。この手動による大まかな位置決めの後、彫刻部材(3)の細かな位置決めが行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、電子複製技術の分野に関し、また凹版印刷のために印刷胴を彫刻す
る電子彫刻機械における彫刻部材の位置決め方法と、基準位置マークをこの彫刻
部材の位置決めのために形成する装置と、前記の方法を実施する彫刻機械に関し
、ここでは印刷胴の軸方向に並び合って配置された、所定のビレット幅の少なく
とも2つの彫刻ビレット(engraving billet)が、それぞれ対応する彫刻部材に
よって彫刻される。
【0002】 電子彫刻機械における印刷胴の彫刻時に、彫刻部材は軸方向に、回転する印刷
胴に沿って移動する。彫刻部材は、例えば、刃物として彫刻針を有する電磁式彫
刻部材として構成されている。彫刻制御信号によって制御される彫刻針は、彫刻
パターンに配置された種々の深さのセルの列を印刷胴の套面にカッティングする
。この彫刻制御信号は、「淡い」(白)と「濃い」(黒)との間の、彫刻すべき
階調値を表す画像信号と、周期的なラスタ信号とを重畳することによって形成さ
れる。この周期的なラスタ信号によって、彫刻針の振動的ストローク往復運動が
行われ彫刻パターンが形成されるのに対して、画像信号値によって、印刷胴の套
面に彫刻されるセルの深さが、ひいては彫刻する階調値が決定される。
【0003】 雑誌印刷のためには印刷胴に、彫刻ビレットと称される、軸方向に並び合う多
数のストライプ状円筒領域をそれぞれの彫刻部材によって彫刻しなければならな
いことが多い。これは例えば1つの印刷指示の複数の印刷ページである。個々の
彫刻ビレットに対応する複数の彫刻部材は、共通の彫刻台車に取り付けられ、こ
の彫刻台車は彫刻時に軸方向に印刷胴に沿って移動する。
【0004】 良好な複製品質を得るためには彫刻部材の彫刻針先端の軸方向間隔を見当に精
確に、個々の彫刻ビレットの要求される幅に調整しなければならず、ここでこの
調整は彫刻部材を彫刻台車上で軸方向に移動することによって行われる。引き続
き、彫刻台車を精確な間隔で隔てられた彫刻部材と共に、印刷胴に対して位置決
めして、彫刻針の先端が、彫刻ビレットを彫刻するための軸方向のスタート位置
にあるようにする。
【0005】 個々の彫刻部材を見当に精確に配置する時に時間を節約するために、オペレー
タは要求される軸方向の間隔を、彫刻部材の手動の移動により、例えば位置マー
クに基づいてまたはメジャーテープを用いてまず大まかに調整する。彫刻部材の
手動による大まかな位置決めによって殊に時間が節約されるのは、多くの彫刻ビ
レットを彫刻しなければならず、ひいては多くの彫刻部材を位置決めしなければ
ならない場合である。この大まかな位置決めの後、引き続いて彫刻部材の見当に
精確な細かな位置決めが行われる。
【0006】 本発明の課題は、電子彫刻装置における彫刻部材の位置決め方法と、この彫刻
部材を位置決めするために基準位置マークを形成および表示する装置と、前記の
方法を実施するための彫刻機械とを提供して、彫刻部材の位置決めをより簡単に
、より短時間で行えるようにすることである。
【0007】 上記の課題は、方法については請求項1の特徴的構成により、装置については
請求項9の特徴的構成により、また彫刻機械については請求項14の特徴的構成
によって解決される。
【0008】 有利な発展形態および実施形態は従属請求項に記載されている。
【0009】 本発明を以下、図1および2に基づいて詳しく説明する。
【0010】 ここで、 図1は、印刷胴に対する彫刻機械の基本ブロック図を、 図2は、基準位置マークを形成する装置の実施例を示している。
【0011】 図1は、凹版印刷のための印刷胴を彫刻する彫刻機械の基本ブロック図を示し
ている。このような彫刻機械は、例えばドイツ連邦共和国キールのHell Gravure
Systems社のHelioKlischograph(R)である。
【0012】 印刷胴1はシリンダ駆動部2によって回転駆動される。印刷胴1では、この軸
方向に並び合って配置された、軸方向に同じビレット幅SBを有する複数の彫刻
ビレットを、それぞれ対応する彫刻部材3によって彫刻しなければならない。彫
刻ビレットはこの実施例では3つの彫刻ビレットA,B,Cである。
【0013】 例えば、刃物として彫刻針4を有する電磁式彫刻部材として構成された彫刻部
材3は彫刻台車5上に配置されており、この上でこれらの彫刻部材は、印刷胴1
の軸方向に手動で移動および停止可能である。彫刻中に、彫刻台車5を印刷胴1
に対して軸方向に位置決めするために、また彫刻台車5を軸方向に移動するため
に、彫刻台車5をスピンドル6を介して彫刻台車駆動部7により印刷胴1の軸方
向に運動させる。彫刻部材3を個別にスピンドルナットによってスピンドル6に
結合することも可能である。この場合、共通の彫刻台車5は省略される。
【0014】 彫刻部材3の彫刻針4は彫刻線毎に、印刷パターンに配置されたセルの列を、
回転する印刷胴1の套面にカッティングし、この間に彫刻台車5は彫刻部材3と
共に移動方向に印刷胴1に沿って移動する。
【0015】 セルの彫刻は、図示の実施例では、円形に印刷胴1の円周方向に延在する個別
の彫刻線に行われ、ここで彫刻台車5はそれぞれ、彫刻線にセルを彫刻した後、
次の彫刻線へと軸方向に1ステップ、移動する。
【0016】 このような彫刻方法は例えばUS−PS4013829に記載されている。択
一的には彫刻ビレットA,B,Cの彫刻を、ヘリックス形状に印刷胴1の周りに
延在する彫刻線において行うこともでき、この場合に彫刻台車5は彫刻中に連続
移動を行う。
【0017】 彫刻部材3の彫刻針4は、彫刻制御信号GSによって制御される。彫刻制御信
号GSは、彫刻増幅器8において、線路9の周期的なラスタ信号Rと、画像信号
Bとを重畳することによって形成され、ここで画像信号Bは、彫刻すべきセルの
「淡い」(白)と「濃い」(黒)との間の階調値を表す。この周期的なラスタ信
号Rによって振動的なストローク運動が行われて彫刻パターンが形成されるのに
対して、画像信号値Bによって、彫刻すべき階調値に応じて、印刷胴1の套面に
彫刻されるセルのそれぞれの幾何学寸法、穿孔深さ、横方向対角線および長手方
向対角線などが決定される。
【0018】 アナログの画像信号値Bは、D/A変換器10において彫刻データ(GD)か
ら得られ、ここでこの彫刻データは、彫刻データ記憶装置11に記憶されており
、ここから彫刻線毎に読み出されてD/A変換器10に供給される。ここでは印
刷胴1のセルに対する各彫刻位置に、少なくとも1バイトの彫刻データが割り当
てられており、この彫刻データは例えば、彫刻情報として「淡い」と「濃い」と
の間の、彫刻すべき階調値を含む。
【0019】 彫刻パターンによってあらかじめ与えられた、セルに対する彫刻位置は、印刷
胴1に配属されたXY座標系の位置座標(x,y)によって定義され、そのY座
標は印刷胴1の円周方向(彫刻方向)に、またそのX軸は印刷胴1の軸方向(移
動方向)を向いている。
【0020】 彫刻台車駆動部7はx位置座標を移動方向に形成し、これらのx位置座標は彫
刻台車5の軸方向位置を印刷胴1に対して定義する。印刷胴1に機械的に結合さ
れた位置検出器12は、相応のy位置座標を彫刻方向に形成する。位置座標(x
,y)は、線路13,14を介して、彫刻の実行を制御する制御ユニット15に
供給される。
【0021】 制御ユニット15は、彫刻データ記憶装置11から彫刻データ(GD)を読み
出すために3つの読み出しクロック列を多重線路16に形成し、彫刻台車5のス
テップ移動を制御するために移動命令S1を彫刻台車駆動部7への線路17に形 成し、またラスタ信号Rを線路9に形成する。
【0022】 ラスタ信号Rの周波数と、印刷胴1の周速度と、彫刻台車5の軸方向の移動ス
テップ幅とによって、彫刻パターンの幾何学形状がパターン角およびパターン幅
について決定される。
【0023】 印刷胴1の彫刻ビレットA,B,Cの見当に精確な彫刻を達成するため、彫刻
部材3の彫刻針4間の軸方向の間隔を調整して、この間隔が所定のビレット幅S
Bに等しくなるようにしなければならない。
【0024】 このために実践的には、まずオペレータが彫刻台車5上で彫刻部材3を手動で
軸方向に移動することにより、彫刻部材3の大まかな位置決めがほぼビレット幅
SBで行われる。引き続き彫刻部材3の彫刻針4の細かな位置決めが、オペレー
タによる目視によって実行される。この細かな位置決めは、例えば専用の顕微鏡
装置(針割り当てゲージ)と、彫刻台車5の手動で操作可能なスピンドル駆動部
とによって行われる。
【0025】 彫刻部材3の細かな位置決めとは択一的に彫刻中に、大まかな位置決めで生じ
た間隔誤差を、ドイツ連邦共和国特許明細書第P197230075号にしたが
って電子的に補正することができる。
【0026】 引き続き彫刻台車5を軸方向に移動して、彫刻部材3の彫刻針の先端が、印刷
胴1の個々の彫刻ビレットA,B,Cのスタート彫刻線に位置決めされるように
し、彫刻をスタートすることができる。
【0027】 彫刻の前のオペレータによる彫刻部材3の手動の大まかな位置決めをより簡便
化するために、本発明では彫刻パラメタ「彫刻ビレットの数」と「ビレット幅」
とに依存して軸方向の基準位置マーク18が形成され、ここでこの基準位置マー
クの数は彫刻すべき彫刻ビレットA,B,Cの数に等しく、この基準位置マーク
の軸方向の相互の間隔は、所望のビレット幅SBに一致する。彫刻部材3には相
応の位置マーク19が付されている。大まかな位置決め時にオペレータは有利に
も個々の彫刻部材3を軸方向に移動することによって、彫刻部材3の位置マーク
19と、所属の基準位置マーク18とが一致させるだけでよい。
【0028】 このために彫刻機械は、基準位置マーク18を形成しかつ表示するための装置
20を有する。装置20は、図1に示した実施例ではその長手方向が、軸方向な
いしは移動方向に配向されており、かつ軸方向に移動可能な彫刻台車5に固定さ
れている。装置20は、所定の彫刻パラメタに依存して、制御ユニット15から
の線路21の相応の制御命令S2によって制御される。
【0029】 図2は、基準位置マーク18を形成および表示する装置20の実施例を示して
おり、この基準位置マークは、例えばアクリルガラス管製の透明な管22からな
り、この管の中に光学的に屈折する粒子、例えば丸められていないガラス粉体粒
子が設けられている。管22の一方の端面には周波数が制御可能な音検出器23
が、また他方の端面には可視光を形成する光源24が固定されている。管22の
ガラスおよび/または管22内の大気に伝播する音は、管22に波節26を有す
る定常の音波25を形成し、ここで最初の波節26は音検出器23の領域に、ま
た最後の波節は光源24の領域にある。これらの波節26では粒子の堆積が発生
し、これらの粒子の堆積は光源24によって外部に基準位置マーク18として見
えるようにすることができる。択一的にはこのガラス粉体と、蛍光材料とを混合
することができ、ここで光源24をUV光源として構成する。
【0030】 2つの波節26の相互の間隔は、定常波25の半波長λ/2に等しい。この波
長λは、定常波25の周波数によって変更することができる。半波長の整数倍で
ある音検出器23の端面と光源24の端面との間の距離Lは、それぞれ音検出器
23および/または光源24を軸方向に移動することによって要求に適合させる
ことができる。
【0031】 形成すべき基準位置マーク18の数ないしは形成すべき波節26の数は、印刷
胴1に彫刻すべき彫刻ビレットA,B,Cの数nに等しい。半波長λ/2に等し
い基準位置マーク相互の間隔は、彫刻すべき彫刻ビレットA,B,Cの所定のビ
レット幅SBに等しい。
【0032】 音検出器23と光源24の相互に対向する端面における最初および最後の波節
26を基準位置マークの形成に利用可能であるという前提の下では、音検出器2
3と光源24との間の調整すべき間隔Lと、音検出器23において調整すべき周
波数fとは、音の速度cをすると L=n×λ/2=n×SB かつ f=c/λ=c/2SB となる。
【0033】 定常波の「自由な」波節だけが、基準位置マークの形成に利用可能であるとい
う前提の下では、音検出器23と光源24との間の調整すべき間隔Lと、音検出
器23において調整すべき周波数fとは、音の速度cをすると L=(n+1)×λ/2=(n+1)×SB かつ f=c/λ=c/2SB となる。
【0034】 この場合にSB=0.15〜0.6mmの通常のビレット幅では、f=110
3〜275Hzの音の周波数が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 印刷胴に対する彫刻機械の基本ブロック図を示す図である。
【図2】 基準位置マークを形成する装置の実施例を示す図である。
【手続補正書】
【提出日】平成12年10月3日(2000.10.3)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 Kurfuersten−Anlage 52−60,Heidelberg,Fede ral Republic of Ger many

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 凹版印刷のために印刷胴を彫刻する電子彫刻機械における彫
    刻部材の位置決め方法であって、 印刷胴(1)の軸方向に並び合って配置された、所定のビレット幅(SB)の
    少なくとも2つの彫刻ビレット(A,B,C)を、セルの形態で、それぞれ対応
    する彫刻部材(3)によって彫刻し、 彫刻の前に彫刻部材(3)の軸方向の間隔を相互に調整し、 彫刻部材(3)によって彫刻時に軸方向の移動を印刷胴(1)に沿って行う形
    式の彫刻部材の位置決め方法において、 彫刻部材(3)の軸方向の間隔を近似的にビレット幅(SB)に調整するため
    に、 彫刻部材(3)に対して、軸方向の基準位置マーク(18)を形成かつ表示し
    、ここで該基準位置マーク(18)の相互の間隔は、印刷胴(1)に彫刻すべき
    彫刻ビレット(A,B,C)の所定のビレット幅(SB)に等しく、 彫刻部材(3)は軸方向の位置マーク(19)を有しており、 彫刻部材(3)を軸方向に移動して、位置マーク(19)と、それぞれ対応す
    る基準位置マーク(18)とを一致させることを特徴とする 彫刻部材の位置決め方法。
  2. 【請求項2】 前記彫刻部材(3)は彫刻台車(5)上に移動可能および停
    止可能に配置されており、 彫刻部材(3)を、間隔調整のために彫刻台車(5)上で移動および停止させ
    、 彫刻台車(5)を停止された彫刻部材(3)と共に彫刻ビレット(A,B,C
    )の彫刻時に印刷胴(1)に沿って移動する 請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 彫刻部材(3)の位置マーク(19)はそれぞれ、印刷胴(
    1)の軸に垂直に、かつセルを形成する、彫刻部材(3)のエレメントが延在す
    る平面内に配置されている 請求項1また2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 セルを形成する前記エレメントは彫刻針(4)である 請求項3に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記基準位置マーク(18)と、印刷胴(1)の彫刻ビレッ
    ト(A,B,C)の軸方向彫刻スタート位置とを一致させる 請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
  6. 【請求項6】 彫刻台車(5)を、彫刻部材(3)の間隔を調整した後に移
    動して、 前記基準位置マーク(18)と、印刷胴(1)の彫刻ビレット(A,B,C)
    の軸方向彫刻スタート位置とを一致させる 請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
  7. 【請求項7】 彫刻部材(3)の軸方向の間隔を近似的に調整した後、精確
    な間隔調整を行う 請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記基準位置マーク(18)を、彫刻すべき彫刻ビレット(
    A,B,C)の数と、所定のビレット幅(SB)とに依存して自動的に形成する 請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。
  9. 【請求項9】 光学的に屈折する粒子が設けられている透明な管(22)を
    有しており、 定常の音波(25)を形成するために前記管(22)の一方の端面に配置され
    た音検出器(23)を有しており、ここで音波(25)の波節(26)にて粒子
    が堆積し、 ビームを形成するために管(22)の他方の端面に配置された光源(24)を
    有しており、ここで前記ビームは堆積した粒子を基準位置マーク(18)として
    可視にすることを特徴とする 基準位置マークを形成および表示する装置。
  10. 【請求項10】 前記音検出器(23)および/または光源(24)は、管
    (22)に軸方向に移動可能に配置されている 請求項9に記載の装置。
  11. 【請求項11】 前記粒子はガラス粉体粒子である 請求項9または10に記載の装置。
  12. 【請求項12】 前記粒子は蛍光材料と混合されており、 前記光源(24)はUVビームを形成する 請求項9から11までのいずれか1項に記載の装置。
  13. 【請求項13】 音検出器(23)の周波数は調整可能である 請求項9から12までのいずれか1項に記載の装置。
  14. 【請求項14】 印刷胴の軸方向に並び合って配置された、所定のビレット
    幅(SB)の少なくとも2つの彫刻ビレット(A,B,C)を、それぞれ対応す
    る彫刻部材(3)によって彫刻する彫刻機械であって、 第1駆動部(2)によって回転される、回転可能に取り付けられた印刷胴(1
    )と、 第2駆動部(7)によって軸方向に印刷胴(1)に沿って移動可能な彫刻台車
    (5)と、 該彫刻台車(5)に移動可能および停止可能に配置された、彫刻ビレット(A
    ,B,C)を彫刻する彫刻部材(3)とを有する形式の彫刻機械において、 彫刻部材(3)の軸方向の間隔を、要求されるビレット幅(SB)に近似的に
    調整するために、基準位置マーク(18)を自動的に形成および表示する装置(
    20)を有することを特徴とする 彫刻機械。
  15. 【請求項15】 前記装置(20)は、彫刻台車(5)に設けられており、
    彫刻部材(3)の少なくとも移動領域にわたって延在している 請求項14に記載の彫刻機械。
  16. 【請求項16】 基準位置マーク(18)を形成および表示する前記装置(
    20)は、 光学的に屈折する粒子が設けられている透明な管(22)を有しており、 定常の音波(25)を形成するために、管(22)の一方の端面の配置された
    音検出器(23)を有しており、ここで前記音波(25)の波節(26)にて粒
    子が堆積し、 ビームを形成するために管(22)の他方の端面に配置された光源(24)を
    有しており、ここで前記ビームは堆積した粒子を基準位置マーク(18)として
    可視にする 請求項14または15に記載の彫刻機械。
  17. 【請求項17】 音検出器(23)の周波数および音検出器(23)と光源
    (24)との間の間隔とが調整されて、定常の音波(25)の波節(26)の数
    が、彫刻すべき彫刻ビレット(A,B,C)の数に等しく、かつ波節(26)の
    間隔が、所定のビレット幅(SB)に等しくなるようにされている 請求項14から16までのいずれか1項に記載の彫刻機械。
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