JPH0616952B2 - レーザ光エネルギー管理方法 - Google Patents

レーザ光エネルギー管理方法

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JPH0616952B2
JPH0616952B2 JP63194603A JP19460388A JPH0616952B2 JP H0616952 B2 JPH0616952 B2 JP H0616952B2 JP 63194603 A JP63194603 A JP 63194603A JP 19460388 A JP19460388 A JP 19460388A JP H0616952 B2 JPH0616952 B2 JP H0616952B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は,レーザ装置の出力を測定する技術に関し,特
にレーザ加工分野でレーザ加工物に与えられるレーザ光
を測定する技術に関する。
〔従来の技術〕
従来,この種のレーザ光エネルギーを管理する方法は,
事前にレーザ装置の入出力特性(入力エネルギーと出力
エネルギー特性)を測定し,このデータを元に加工物に
与えられるエネルギー値を管理したり,あるいは第2図
においてレーザ装置13の全反射ミラー14から透過す
る約0.5%ほどのレーザ光を第5の検知器15により
モニタすることによりレーザエネルギーの管理をおこな
っている。また,第3図においてレーザ装置16の出射
ミラー17の外側にビームスプリッタ18を置き,レー
ザ光の一部をビームスプリッタ18により反射し第6の
検知器19により測定していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のレーザ光のエネルギー管理方法は,以下
の欠点を有する。すなわち,レーザ装置の入出力特性を
測定しそのデータを元に管理する方法においては,レー
ザ装置の条件であるガス圧励起ランプ状態,光学部品の
清浄度,アライメントなどが経時的に変化するため定期
的な測定が必要であり,また急激な状態変化を知る方法
とはなりえない。
全反射ミラーの透過光あるいは出射側ミラーの外側にビ
ームスプリッタを置く方法では,第4図に示すように,
加工物からの反射光がないときの測定値と加工物からの
反射光があるときの測定値により差が生じる。これは,
加工物からの反射光がない場合,検出器により測定され
る値は,元のレーザ出力をI0 ビームスプリッターの反
射率をr0 あるいは全反射ミラーの透過率をt0 とする
と,各々r0r0とt0r0であるが,加工物でレーザ光が反射
しレーザ装置にもどってくると,このレーザ光は出射側
ミラーで再び反射されビームスプリッタ18により検出
器に入射するので,実際のレーザ出力よりも高い値を示
す。また,加工物で反射したレーザ光はレーザ装置の出
射側ミラーを一部透過しさらに全反射ミラーを一部透過
し検出器に入射し、実際のレーザ出力よりも高い値を示
す。
このため,従来のレーザ光のエネルギー管理方法は,加
工中の実際のレーザ出力を正確に測定できないという欠
点がある。
本発明は上記の欠点を補うため,加工物から反射される
光を測定する手段を新らたに設け,更に従来レーザ光と
して測定していた値(実際は加工物からの反射光を含ん
でいる)から加工物からの分を差引く演算装置を設けた
ものである。
[課題を解決するための手段] 本発明によれば、レーザ発振器から発するレーザ光出力
0 のエネルギーを、反射率rL の出射ミラーと反射率
Rの加工物の間に設けた反射率r0 のビームスプリッタ
で一部取り出して第1の検知器で検知し、又、該ビーム
スプリッタで前記加工物から反射するレーザ光を取り出
して第2の検出器で検知し、該第1及び第2の検出器の
出力から前記レーザ光出力I0 の値を求める演算を行う
レーザ光エネルギーの管理方法において、前記レーザ光
出力I0 の値を求める演算が、前記出射ミラー、加工
物、及びビームスプリッタに於ける反射が無限回数行わ
れて前記第1の検出器の測定する値I3 が(1+a+a
2 +……+a )r00 で表わされ、又前記第2の
検出器の測定する値I4 が(1+a+a2 +……+a
)r0 R(1−R0 )I0 で表わされることを考慮
し、且つ式a=rL R(1−r02 で定義される1よ
り小さい値aを定義して、前記反射率RをR=(I4
3 )/(1−r0 )から求め、該得られたRの値を前
記aの定義式にいれてaの値を求め、このaの値を用い
て(1+a+a2 +……+a )r0 を計算すること
によりI0 を求める計算を、加工中続けて行うことを特
徴とするレーザ光エネルギー管理方法が得られる。
[実施例] 次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例に用いる装置のブロック図で
ある。レーザ装置1より発振したレーザ光は反射率r0
有するビームスプリッタ2により反射される。このとき
第1の検出器3には元のレーザ出力をI0とするとr0I0
エネルギーI1 が入射し,ビームスプリッタ2を透過す
るレーザ光は(1−r0)I0である。ビームスプリッタ2
を透過したレーザ光は加工物4で反射されるが,このと
きの反射率をRとすると,R(1−r0)I0のエネルギー
が反射し,ビームスプリッタ2で反射して加工物からの
反射光モニタ用の第2の検出器5にr0R(1−r0)I0のエネ
ルギーI2 が入射する。このビームスプリッタ2を透過
したエネルギーR(1−r0)2I0のレーザ光はレーザ装置1
に入射するが,レーザ装置1からのレーザ光の反射率を
L とすると,レーザ装置1から再びrLR(1−r0)2I0
エネルギーが加工物4方向にもどってくることになる。
これらを総合すると,第1の検出器3には,a=rLR(1
−r0)2とおくと,(1+a+c2+a3+a4+a5+……+a)r0I0
レーザ光エネルギーI3 が入射し,第2の検出器5には
(1+a+a2+a3+……+a)r0R(1-r0)I0のレーザ光エネルギ
ーI4 が入射することになる。aは1より小さい数字で
あり,(1+a+a2+……a)は無限等比級数の和として1
/(1−a)に収束する。
演算装置6によりI4値をI3で割るとR(1−r0)の値が
得られる。r0の値はビームスプリッタ2の反射率で一
定値のあらかじめから分っている値であり,これより加
工物4の反射率Rの値を演算(I4 /I3 )/(1−r
0 )により求めることができる。そして加工物4の反射
率を求めることにより,a=rLR(1-r0)2の値を求め,
(1+a+a2+a3+……+a)r0の値を計算し、この値でI3
を除算することにより,レーザ光の元の出力I0 を求め
ることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように,本発明はレーザ光からの出力と加
工物からのレーザ光の反射光をビームスプリッターによ
り一部反射し,2個の検出器を用いて測定することによ
り,加工物からの反射率が変化しても加工中のレーザ出
力を正確に測定することができる。このためレーザ加工
中のレーザ出力を正確に管理することが出来,レーザ加
工の品質を向上させる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はレーザ光エネルギーモニタ装置のブロック図,
第2図は従来のレーザ光エネルギーモニタ装置の一例の
ブロック図,第3図は従来のレーザ光エネルギーモニタ
装置の他の例のブロック図である。 記号の説明:1……レーザ装置,1a……出射ミラー,
2……ビームスプリッタ,3……第1の検出器,4……
加工物,5……第2の検出器,6……演算装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ発振器から発するレーザ光出力I0
    のエネルギーを、反射率rL の出射ミラーと反射率Rの
    加工物の間に設けた反射率r0 のビームスプリッタで一
    部取り出して第1の検知器で検知し、又、該ビームスプ
    リッタで前記加工物から反射するレーザ光を取り出して
    第2の検出器で検知し、該第1及び第2の検出器の出力
    から前記レーザ光出力I0 の値を求める演算を行うレー
    ザ光エネルギーの管理方法において、 前記レーザ光出力I0 の値を求める演算が、前記出射ミ
    ラー、加工物、及びビームスプリッタに於ける反射が無
    限回数行われて前記第1の検出器の測定する値I3
    (1+a+a2 +……+a )r00 で表わされ、
    又前記第2の検出器の測定する値I4 が(1+a+a2
    +……+a )r0 R(1−r0 )I0 で表わされる
    ことを考慮し、且つ式a=rL R(1−r02 で定義
    される1より小さい値aを定義して、前記反射率RをR
    =(I4 /I3 )/(1−r0 )から求め、該得られた
    Rの値を前記aの定義式にいれてaの値を求め、このa
    の値を用いて(1+a+a2 +……+a )r0 を計
    算することによりI0 を求める計算を、加工中続けて行
    うことをを特徴とするレーザ光エネルギー管理方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03120427A (ja) * 1989-10-03 1991-05-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd レーザ発振出力モニタリング方法
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0714098B2 (ja) * 1985-10-30 1995-02-15 株式会社日平トヤマ レ−ザ出力制御装置
JPH0755388B2 (ja) * 1986-09-02 1995-06-14 株式会社小松製作所 高反射率材料のレ−ザ加工方法

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