JP2932829B2 - 波長変動量測定装置 - Google Patents
波長変動量測定装置Info
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims description 15
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、波長変動量測定装置に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の波長変動量測定装置については、
特開平１−２８７４２７号公報等に詳細に記述されてい
る。
特開平１−２８７４２７号公報等に詳細に記述されてい
る。
【０００３】図２は、従来の波長変動量測定装置を説明
するための図である。
するための図である。
【０００４】図２において、波長変動を測定したい光を
拡散板２によりビームを広げて窓８から気密容器７内に
導入し、反射面間媒質４のエタロン３を透過させる。透
過光は集光光学系５により結像され、干渉縞を検出装置
６上に形成する。この干渉縞は波長の変動に対して形状
が変化するので、干渉縞形状の変化を検出することによ
り波長変動量を測定することができる。
拡散板２によりビームを広げて窓８から気密容器７内に
導入し、反射面間媒質４のエタロン３を透過させる。透
過光は集光光学系５により結像され、干渉縞を検出装置
６上に形成する。この干渉縞は波長の変動に対して形状
が変化するので、干渉縞形状の変化を検出することによ
り波長変動量を測定することができる。
【０００５】ここで、精度および再現性よく波長変動量
を測定するために、反射面間媒質４の温度変化あるいは
圧力変化による屈折率変化を排除する目的で、エタロン
３を気密容器７内に設け、温度制御装置９および圧力制
御装置１０で温度および圧力を測定制御している。
を測定するために、反射面間媒質４の温度変化あるいは
圧力変化による屈折率変化を排除する目的で、エタロン
３を気密容器７内に設け、温度制御装置９および圧力制
御装置１０で温度および圧力を測定制御している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この従来の波長変動量
測定装置においては、エタロンの反射面間の媒質が温度
変化あるいは圧力変化の影響を受けると、屈折率が変動
し、干渉縞形状が波長変動がない場合でも変化してしま
う。これを抑えるために、エタロンを温度および圧力が
一定の気密容器内に設ける必要がある。
測定装置においては、エタロンの反射面間の媒質が温度
変化あるいは圧力変化の影響を受けると、屈折率が変動
し、干渉縞形状が波長変動がない場合でも変化してしま
う。これを抑えるために、エタロンを温度および圧力が
一定の気密容器内に設ける必要がある。
【０００７】しかし気密容器内の温度あるいは圧力を一
定に維持するには、温度検出器および温度調整器あるい
は圧力検出器および圧力調整器等の装置を設置しなけれ
ばならず、装置が大がかりになるという問題がある。
定に維持するには、温度検出器および温度調整器あるい
は圧力検出器および圧力調整器等の装置を設置しなけれ
ばならず、装置が大がかりになるという問題がある。
【０００８】本発明の目的は、温度維持あるいは圧力維
持のための制御機構の必要のない簡便な波長変動量測定
装置を提供することにある。
持のための制御機構の必要のない簡便な波長変動量測定
装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、測定光に対し
て２波長以上の高調波を発生する高調波発生装置と、高
調波発生装置からの測定光および高調波を広げるための
拡散板と、広げられた測定光および高調波を反射・透過
させるエタロンと、エタロンを透過した測定光および高
調波の干渉縞を結像するための集光光学系と、集光光学
系の焦点の位置に配置した干渉縞を観測するための検出
装置とを順に配置して光軸上に備えることを特徴として
いる。
て２波長以上の高調波を発生する高調波発生装置と、高
調波発生装置からの測定光および高調波を広げるための
拡散板と、広げられた測定光および高調波を反射・透過
させるエタロンと、エタロンを透過した測定光および高
調波の干渉縞を結像するための集光光学系と、集光光学
系の焦点の位置に配置した干渉縞を観測するための検出
装置とを順に配置して光軸上に備えることを特徴として
いる。
【００１０】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１１】図１は、本発明の波長変動量測定装置の一
実施例を示す図である。本実施例は、図１に示すよう
に、測定光に対して２波長以上の高調波を発生する発生
装置１と、光を広げるための拡散板２と、反射面間距離
Ｌのエタロン３と、干渉縞を結像するための集光光学系
５と、および集光光学系５の焦点面近傍で集光光学系５
からの距離Ｆに配置した干渉縞を観測するための検出装
置６とを順に光軸上に配置して構成されている。
実施例を示す図である。本実施例は、図１に示すよう
に、測定光に対して２波長以上の高調波を発生する発生
装置１と、光を広げるための拡散板２と、反射面間距離
Ｌのエタロン３と、干渉縞を結像するための集光光学系
５と、および集光光学系５の焦点面近傍で集光光学系５
からの距離Ｆに配置した干渉縞を観測するための検出装
置６とを順に光軸上に配置して構成されている。
【００１２】次に、本実施例の動作について説明する。
【００１３】本実施例においては、エタロンの反射面間
媒質の屈折率が、測定光および、高調波を発生するため
の装置で生成した測定光の２波長以上の高調波に対して
異なるため、検出装置上に形成する干渉縞の変化量が測
定光の波長の変化に対する場合と、エタロンの反射面間
媒質の圧力の変動による屈折率の変化に対する場合と、
エタロンの反射面間媒質の温度の変動による屈折率の変
化に対する場合とで異なる。このため検出装置で干渉縞
の変化量を測定することにより波長変化量と屈折率変化
量を同時に検出することができる。従って、エタロン雰
囲気の温度変化あるいは圧力変化が生じても、精度良く
波長変動量を測定することができる。
媒質の屈折率が、測定光および、高調波を発生するため
の装置で生成した測定光の２波長以上の高調波に対して
異なるため、検出装置上に形成する干渉縞の変化量が測
定光の波長の変化に対する場合と、エタロンの反射面間
媒質の圧力の変動による屈折率の変化に対する場合と、
エタロンの反射面間媒質の温度の変動による屈折率の変
化に対する場合とで異なる。このため検出装置で干渉縞
の変化量を測定することにより波長変化量と屈折率変化
量を同時に検出することができる。従って、エタロン雰
囲気の温度変化あるいは圧力変化が生じても、精度良く
波長変動量を測定することができる。
【００１４】図１に示す波長変動量測定装置において、
圧力ｐ0 、温度ｔ0 のとき、波長λ0 のｍ1 次のエタロ
ン３透過光による干渉縞の検出装置６上での光軸からの
距離ｘ1 、波長λ0 のｋ2 次高調波（波長λ0 ／ｋ2 ）
のｍ2 次のエタロン３透過光による干渉縞の検出装置６
上での光軸からの距離ｘ2 、波長λ0 のｋ3 次高調波
（波長λ0 ／ｋ3 ）のｍ3 次のエタロン３透過光による
干渉縞の検出装置６上での光軸からの距離ｘ3 を事前に
測定する。
圧力ｐ0 、温度ｔ0 のとき、波長λ0 のｍ1 次のエタロ
ン３透過光による干渉縞の検出装置６上での光軸からの
距離ｘ1 、波長λ0 のｋ2 次高調波（波長λ0 ／ｋ2 ）
のｍ2 次のエタロン３透過光による干渉縞の検出装置６
上での光軸からの距離ｘ2 、波長λ0 のｋ3 次高調波
（波長λ0 ／ｋ3 ）のｍ3 次のエタロン３透過光による
干渉縞の検出装置６上での光軸からの距離ｘ3 を事前に
測定する。
【００１５】測定光の変動波長λは、測定光のｍ1 次光
による干渉縞、ｋ2 次高調波のｍ2次光による干渉縞、
およびｋ3 次高調波のｍ3 次光による干渉縞の検出装置
６上での光軸からの距離がそれぞれｙ1 ，ｙ2 ，ｙ3 の
とき、
による干渉縞、ｋ2 次高調波のｍ2次光による干渉縞、
およびｋ3 次高調波のｍ3 次光による干渉縞の検出装置
６上での光軸からの距離がそれぞれｙ1 ，ｙ2 ，ｙ3 の
とき、
【００１６】
【数１】
【００１７】ｎ1(p,t)：エタロン反射面間媒質４の波長
λ0 に対する屈折率 ｎ2(p,t)：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率 ｎ3(p,t)：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率 α1 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 に対する
屈折率の波長係数 α2 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率の波長係数 α3 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率の波長係数 β1 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 に対する
屈折率の温度係数 β2 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率の温度係数 β3 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率の温度係数 γ1 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 に対する
屈折率の圧力係数 γ2 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率の圧力係数 γ3 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率の圧力係数 で表せ、式には温度ｔおよび圧力ｐが含まれていない。
λ0 に対する屈折率 ｎ2(p,t)：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率 ｎ3(p,t)：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率 α1 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 に対する
屈折率の波長係数 α2 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率の波長係数 α3 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率の波長係数 β1 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 に対する
屈折率の温度係数 β2 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率の温度係数 β3 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率の温度係数 γ1 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 に対する
屈折率の圧力係数 γ2 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ2 に
対する屈折率の圧力係数 γ3 ：エタロン反射面間媒質４の波長λ0 ／ｋ3 に
対する屈折率の圧力係数 で表せ、式には温度ｔおよび圧力ｐが含まれていない。
【００１８】従って、本実施例の波長変動量測定装置
は、エタロン３雰囲気の温度変化および圧力変化に関係
なく波長変動量を測定することができる。
は、エタロン３雰囲気の温度変化および圧力変化に関係
なく波長変動量を測定することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、測定光の
変動時の波長λの式に温度ｔおよび圧力ｐを含まないた
め、装置雰囲気の温度変化あるいは圧力変化に関係なく
波長変動量を測定でき、温度維持および圧力維持のため
の気密容器および制御機構を必要としないという効果を
有する。
変動時の波長λの式に温度ｔおよび圧力ｐを含まないた
め、装置雰囲気の温度変化あるいは圧力変化に関係なく
波長変動量を測定でき、温度維持および圧力維持のため
の気密容器および制御機構を必要としないという効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による波長変動量測定装置の一実施例を
示す図である。
示す図である。
【図２】従来の波長変動量測定装置を示す図である。
１ 高調波発生装置 ２ 拡散板 ３ エタロン ４ 反射面間媒質 ５ 集光光学系 ６ 検出装置 ７ 気密容器 ８ 窓 ９ 温度制御装置 １０ 圧力制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01J 3/00 - 3/52 G01J 9/00 - 9/04 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (1)
- 【請求項１】測定光に対して２波長以上の高調波を発生
する高調波発生装置と、 高調波発生装置からの測定光および高調波を広げるため
の拡散板と広げられた測定光および高調波を反射・透過
させるエタロンと、 エタロンを透過した測定光および高調波の干渉縞を結像
するための集光光学系と、 集光光学系の焦点の位置に配置した干渉縞を観測するた
めの検出装置とを順に配置して光軸上に備えることを特
徴とする波長変動量測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12653792A JP2932829B2 (ja) | 1992-05-20 | 1992-05-20 | 波長変動量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12653792A JP2932829B2 (ja) | 1992-05-20 | 1992-05-20 | 波長変動量測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05322661A JPH05322661A (ja) | 1993-12-07 |
| JP2932829B2 true JP2932829B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=14937655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12653792A Expired - Fee Related JP2932829B2 (ja) | 1992-05-20 | 1992-05-20 | 波長変動量測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2932829B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7653095B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-01-26 | Cymer, Inc. | Active bandwidth control for a laser |
| CN108489618B (zh) * | 2018-07-02 | 2024-08-27 | 北方民族大学 | 一种激光波长测量装置及其标定方法、测量方法 |
-
1992
- 1992-05-20 JP JP12653792A patent/JP2932829B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05322661A (ja) | 1993-12-07 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |