JP2932821B2 - 波長変動量測定装置 - Google Patents
波長変動量測定装置Info
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- JP2932821B2 JP2932821B2 JP5399492A JP5399492A JP2932821B2 JP 2932821 B2 JP2932821 B2 JP 2932821B2 JP 5399492 A JP5399492 A JP 5399492A JP 5399492 A JP5399492 A JP 5399492A JP 2932821 B2 JP2932821 B2 JP 2932821B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、波長変動量測定装置に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の波長変動量測定装置については、
特開平１−２８７４２７号公報等に詳細に記述されてい
る。
特開平１−２８７４２７号公報等に詳細に記述されてい
る。
【０００３】図３は従来の波長変動量測定装置を説明す
るための図である。
るための図である。
【０００４】図３において、波長変動を測定したい光を
拡散板２によりビームを広げて入射窓５から気密容器１
６内に導入し、反射面間媒質１８のエタロン１７を透過
させる。透過光は集光光学系１９により結像され干渉縞
を検出装置２０上に形成する。この干渉縞は波長の変動
に対して形状が変化するので、干渉縞形状の変化を検出
することにより波長変動量を測定できる。
拡散板２によりビームを広げて入射窓５から気密容器１
６内に導入し、反射面間媒質１８のエタロン１７を透過
させる。透過光は集光光学系１９により結像され干渉縞
を検出装置２０上に形成する。この干渉縞は波長の変動
に対して形状が変化するので、干渉縞形状の変化を検出
することにより波長変動量を測定できる。
【０００５】ここで、精度及び再現性よく波長変動量を
測定するために反射面間の媒質１８の温度変化あるいは
圧力変化による屈折率変化を排除する目的で、エタロン
１７を気密容器１６内に設け、温度制御装置４および圧
力制御装置１１で温度及び圧力を測定制御している。
測定するために反射面間の媒質１８の温度変化あるいは
圧力変化による屈折率変化を排除する目的で、エタロン
１７を気密容器１６内に設け、温度制御装置４および圧
力制御装置１１で温度及び圧力を測定制御している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来の波長変
動量測定装置においては、エタロンの反射面間の媒質が
温度変化あるいは圧力変化の影響を受けると、屈折率が
変動し干渉縞形状が波長変動がない場合でも変化してし
まう。これを抑えるために、エタロンを温度および圧力
が一定の気密容器内に設ける必要がある。
動量測定装置においては、エタロンの反射面間の媒質が
温度変化あるいは圧力変化の影響を受けると、屈折率が
変動し干渉縞形状が波長変動がない場合でも変化してし
まう。これを抑えるために、エタロンを温度および圧力
が一定の気密容器内に設ける必要がある。
【０００７】しかし気密容器内の温度あるいは圧力を一
定に維持するには、温度検出器および温度調整器あるい
は圧力検出器および圧力調整器等の装置を設置しなけれ
ばならず、装置が大がかりになるという問題がある。
定に維持するには、温度検出器および温度調整器あるい
は圧力検出器および圧力調整器等の装置を設置しなけれ
ばならず、装置が大がかりになるという問題がある。
【０００８】本発明の目的は、温度維持あるいは圧力維
持のための制御機構の必要のない簡便な波長変動量測定
装置を提供することにある。
持のための制御機構の必要のない簡便な波長変動量測定
装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】第１の発明による波長変
動量測定装置は、測定光に対する高調波発生装置と、前
記高調波発生装置通過後の測定光に対するファブリ−ペ
ロー干渉計とを少なくとも備え、前記ファブリ−ペロー
干渉計のエタロンを定温容器内に配置することを特徴と
する。
動量測定装置は、測定光に対する高調波発生装置と、前
記高調波発生装置通過後の測定光に対するファブリ−ペ
ロー干渉計とを少なくとも備え、前記ファブリ−ペロー
干渉計のエタロンを定温容器内に配置することを特徴と
する。
【００１０】第２の発明による波長変動量測定装置は、
測定光に対する高調波発生装置と、前記高調波発生装置
通過後の測定光に対するファブリ−ペロー干渉計とを少
なくとも備え、前記ファブリ−ペロー干渉計のエタロン
を定圧容器内に配置することを特徴とする。
測定光に対する高調波発生装置と、前記高調波発生装置
通過後の測定光に対するファブリ−ペロー干渉計とを少
なくとも備え、前記ファブリ−ペロー干渉計のエタロン
を定圧容器内に配置することを特徴とする。
【００１１】
【作用】第１の発明による波長変動量測定装置において
は、測定光および高調波発生装置で生成した測定光の高
調波に対してエタロンの反射面間媒質の屈折率が異なる
ため、検出装置上に形成する干渉縞の変化量が測定光の
波長の変化に対する場合と、エタロンの反射面間媒質の
圧力の変動による屈折率の変化に対する場合とで異な
る。このため干渉縞の変化量から波長変化量と屈折率変
化量を同時に検出できる。従って、定温容器内の圧力変
化が生じても精度良く波長変動量を測定できる。
は、測定光および高調波発生装置で生成した測定光の高
調波に対してエタロンの反射面間媒質の屈折率が異なる
ため、検出装置上に形成する干渉縞の変化量が測定光の
波長の変化に対する場合と、エタロンの反射面間媒質の
圧力の変動による屈折率の変化に対する場合とで異な
る。このため干渉縞の変化量から波長変化量と屈折率変
化量を同時に検出できる。従って、定温容器内の圧力変
化が生じても精度良く波長変動量を測定できる。
【００１２】第２の発明による波長変動量測定装置にお
いては、測定光および高調波発生装置で生成した測定光
の高調波に対してエタロンの反射面間媒質の屈折率が異
なるため、検出装置上に形成する干渉縞の変化量が測定
光の波長の変化に対する場合と、エタロンの反射面間媒
質の温度の変動による屈折率の変化に対する場合とで異
なる。このため干渉縞の変化量から波長変化量と屈折率
変化量を同時に検出できる。従って、定圧容器内の温度
変化が生じても精度良く波長変動量を測定できる。
いては、測定光および高調波発生装置で生成した測定光
の高調波に対してエタロンの反射面間媒質の屈折率が異
なるため、検出装置上に形成する干渉縞の変化量が測定
光の波長の変化に対する場合と、エタロンの反射面間媒
質の温度の変動による屈折率の変化に対する場合とで異
なる。このため干渉縞の変化量から波長変化量と屈折率
変化量を同時に検出できる。従って、定圧容器内の温度
変化が生じても精度良く波長変動量を測定できる。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例を図面を用いて説明する。
【００１４】図１は、第１の発明の波長変動量測定装置
の一実施例を説明するための図である。
の一実施例を説明するための図である。
【００１５】図１に示した波長変動量測定装置は、測定
光の高調波発生装置１、光を広げるための拡散板２、反
射面間距離Ｌ1 のエタロン６、エタロン６を配置した定
温容器３、定温容器３内の温度を一定に保つための温度
制御装置４、定温容器３内に光を導入するための窓５、
干渉縞を結像するための集光光学系８、および集光光学
系８の焦点面近傍で集光光学系８からの距離Ｆ1 に配置
した干渉縞を観測するための検出装置９とから構成され
る。配置は図示の如くである。
光の高調波発生装置１、光を広げるための拡散板２、反
射面間距離Ｌ1 のエタロン６、エタロン６を配置した定
温容器３、定温容器３内の温度を一定に保つための温度
制御装置４、定温容器３内に光を導入するための窓５、
干渉縞を結像するための集光光学系８、および集光光学
系８の焦点面近傍で集光光学系８からの距離Ｆ1 に配置
した干渉縞を観測するための検出装置９とから構成され
る。配置は図示の如くである。
【００１６】この波長変動量測定装置において、ある圧
力ｐ0 における、特定の波長λ0 の光がエタロン６を透
過したｍ1 次光による干渉縞の検出装置９上での光軸か
らの距離ｘ1 、および波長λ0 の高調波（波長λ0 ／
２）の光がエタロンを透過したｍ2 次光による干渉縞の
検出装置９上での光軸からの距離ｘ2 を事前に測定す
る。
力ｐ0 における、特定の波長λ0 の光がエタロン６を透
過したｍ1 次光による干渉縞の検出装置９上での光軸か
らの距離ｘ1 、および波長λ0 の高調波（波長λ0 ／
２）の光がエタロンを透過したｍ2 次光による干渉縞の
検出装置９上での光軸からの距離ｘ2 を事前に測定す
る。
【００１７】測定光の変動時の波長λは、エタロンを透
過したｍ1 次光による干渉縞および高調波のｍ2 次光に
よる干渉縞の検出装置９上での光軸からの距離がそれぞ
れｙ1 ，ｙ2 のとき、
過したｍ1 次光による干渉縞および高調波のｍ2 次光に
よる干渉縞の検出装置９上での光軸からの距離がそれぞ
れｙ1 ，ｙ2 のとき、
【００１８】
【数１】
【００１９】 ｎ1 ＝ｎ1 （ｐ0 ）， ｎ2 ＝ｎ2 （ｐ0 ） θ1 ＝ｃｏｓ-1（２ｎ1 Ｌ1 ／ｍ1 λ0 ）， θ2 ＝ｃｏｓ-1（４ｎ2 Ｌ1 ／ ｍ2 λ0 ） ｎ1 （ｐ）：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 に対す
る屈折率 ｎ2 （ｐ）：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 ／２に
対する屈折率 α1 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 に対す
る屈折率の波長係数 α2 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 ／２に
対する屈折率の波長係数 β1 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 に対す
る屈折率の圧力係数 β2 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 ／２に
対する屈折率の圧力係数 で表せる。この式には圧力ｐが含まれないため定温容器
３内の圧力変化に関係なく波長変動量を測定できる。従
って、第１の発明を用いれば、圧力維持のための定圧容
器および圧力制御機構の必要のない簡便な波長変動量測
定装置を提供できる。
る屈折率 ｎ2 （ｐ）：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 ／２に
対する屈折率 α1 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 に対す
る屈折率の波長係数 α2 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 ／２に
対する屈折率の波長係数 β1 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 に対す
る屈折率の圧力係数 β2 ：エタロン反射面間媒質７の波長λ0 ／２に
対する屈折率の圧力係数 で表せる。この式には圧力ｐが含まれないため定温容器
３内の圧力変化に関係なく波長変動量を測定できる。従
って、第１の発明を用いれば、圧力維持のための定圧容
器および圧力制御機構の必要のない簡便な波長変動量測
定装置を提供できる。
【００２０】図２は、第２の発明の波長変動量測定装置
の一実施例を説明するための図である。
の一実施例を説明するための図である。
【００２１】図２に示した波長変動量測定装置は、測定
光の高調波発生装置１、光を広げるための拡散板２、反
射面間距離Ｌ2 のエタロン１２、エタロン１２を配置し
た定圧容器１０、定圧容器１０内の圧力を一定に保つた
めの圧力制御装置１１、定圧容器１０内に光を導入する
ための窓５、干渉縞を結像するための集光光学系１４、
および集光光学系１４の焦点面近傍で集光光学系１４か
らの距離Ｆ2 に配置した干渉縞を観測するための検出装
置１５とから構成される。配置は図示の如くである。
光の高調波発生装置１、光を広げるための拡散板２、反
射面間距離Ｌ2 のエタロン１２、エタロン１２を配置し
た定圧容器１０、定圧容器１０内の圧力を一定に保つた
めの圧力制御装置１１、定圧容器１０内に光を導入する
ための窓５、干渉縞を結像するための集光光学系１４、
および集光光学系１４の焦点面近傍で集光光学系１４か
らの距離Ｆ2 に配置した干渉縞を観測するための検出装
置１５とから構成される。配置は図示の如くである。
【００２２】この波長変動量測定装置において、ある温
度ｔ0 における、特定の波長λ0 の光がエタロン１２を
透過したｍ3 次光による干渉縞の検出装置１５上での光
軸からの距離ｘ3 、および波長λ0 の高調波（波長λ0
／２）の光がエタロン１２を透過したｍ4 次光による干
渉縞の検出装置１５上での光軸からの距離ｘ4 を事前に
測定する。
度ｔ0 における、特定の波長λ0 の光がエタロン１２を
透過したｍ3 次光による干渉縞の検出装置１５上での光
軸からの距離ｘ3 、および波長λ0 の高調波（波長λ0
／２）の光がエタロン１２を透過したｍ4 次光による干
渉縞の検出装置１５上での光軸からの距離ｘ4 を事前に
測定する。
【００２３】測定光の変動時の波長λは、エタロン１２
を透過したｍ3 次光による干渉縞および高調波のｍ4 次
光による干渉縞の検出装置１５上での光軸からの距離が
それぞれｙ3 ，ｙ4 のとき、
を透過したｍ3 次光による干渉縞および高調波のｍ4 次
光による干渉縞の検出装置１５上での光軸からの距離が
それぞれｙ3 ，ｙ4 のとき、
【００２４】
【数２】
【００２５】 ｎ3 ＝ｎ3 （ｔ0 ）， ｎ4 ＝ｎ4 （ｔ0 ） θ3 ＝ｃｏｓ-1（２ｎ3 Ｌ2 ／ｍ3 λ0 ）， θ4 ＝ｃｏｓ-1（４ｎ4 Ｌ2 ／ ｍ4 λ0 ） ｎ3 （ｔ）：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 に対
する屈折率 ｎ4 （ｔ）：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 ／２
に対する屈折率 α3 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 に対
する屈折率の波長係数 α4 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 ／２
に対する屈折率の波長係数 β3 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 に対
する屈折率の温度係数 β4 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 ／２
に対する屈折率の温度係数 で表せる。この式には温度ｔが含まれないため定圧容器
１０内の温度変化に関係なく波長変動量を測定できる。
従って、第２の発明を用いれば、温度維持のための定温
容器および温度制御機構の必要のない簡便な波長変動量
測定装置を提供できる。
する屈折率 ｎ4 （ｔ）：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 ／２
に対する屈折率 α3 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 に対
する屈折率の波長係数 α4 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 ／２
に対する屈折率の波長係数 β3 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 に対
する屈折率の温度係数 β4 ：エタロン反射面間媒質１２の波長λ0 ／２
に対する屈折率の温度係数 で表せる。この式には温度ｔが含まれないため定圧容器
１０内の温度変化に関係なく波長変動量を測定できる。
従って、第２の発明を用いれば、温度維持のための定温
容器および温度制御機構の必要のない簡便な波長変動量
測定装置を提供できる。
【００２６】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、装置
雰囲気の温度変化あるいは圧力変化に関係なく波長を測
定できるため、温度維持のための定温容器および温度制
御機構あるいは圧力維持のための定圧容器および圧力制
御機構の必要のない簡便な波長変動量測定装置を提供で
きる。
雰囲気の温度変化あるいは圧力変化に関係なく波長を測
定できるため、温度維持のための定温容器および温度制
御機構あるいは圧力維持のための定圧容器および圧力制
御機構の必要のない簡便な波長変動量測定装置を提供で
きる。
【図１】第１の発明による波長変動量測定装置の一実施
例を示す図である。
例を示す図である。
【図２】第２の発明による波長変動量測定装置の一実施
例を示す図である。
例を示す図である。
【図３】従来の波長変動量測定装置を示す図である。
１ 高調波発生装置 ２ 拡散板 ３ 定温容器 ４ 温度制御装置 ５ 窓 ６ 反射面間距離Ｌ1 のエタロン ７ 反射面間媒質 ８ 焦点距離Ｆ1 の集光光学系 ９ 検出装置 １０ 定圧容器 １１ 圧力制御装置 １２ 反射面間距離Ｌ2 のエタロン １３ 反射面間媒質 １４ 焦点距離Ｆ2 の集光光学系 １５ 検出装置 １６ 気密容器 １７ エタロン １８ 反射面間媒質 １９ 集光光学系 ２０ 検出装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−212321（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−241908（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−46526（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−310583（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−250835（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−250833（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−240709（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−72036（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−29718（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−168330（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−155673（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−250834（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01J 3/00 - 3/52 G01J 9/00 - 9/04 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (2)
- 【請求項１】測定光に対する高調波発生装置と、前記高
調波発生装置通過後の測定光に対するファブリ−ペロー
干渉計とを少なくとも備え、前記ファブリ−ペロー干渉
計のエタロンを定温容器内に配置することを特徴とする
波長変動量測定装置。 - 【請求項２】測定光に対する高調波発生装置と、前記高
調波発生装置通過後の測定光に対するファブリ−ペロー
干渉計とを少なくとも備え、前記ファブリ−ペロー干渉
計のエタロンを定圧容器内に配置することを特徴とする
波長変動量測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5399492A JP2932821B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 波長変動量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5399492A JP2932821B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 波長変動量測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05256708A JPH05256708A (ja) | 1993-10-05 |
| JP2932821B2 true JP2932821B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=12958169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5399492A Expired - Fee Related JP2932821B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 波長変動量測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2932821B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108760057B (zh) * | 2018-04-26 | 2019-12-20 | 西安交通大学 | 一种激光波长精密测量方法 |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP5399492A patent/JP2932821B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05256708A (ja) | 1993-10-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |