JPH0616658A - １，２−ジチオラン化合物 - Google Patents
１，２−ジチオラン化合物Info
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- JPH0616658A JPH0616658A JP18011592A JP18011592A JPH0616658A JP H0616658 A JPH0616658 A JP H0616658A JP 18011592 A JP18011592 A JP 18011592A JP 18011592 A JP18011592 A JP 18011592A JP H0616658 A JPH0616658 A JP H0616658A
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- formula
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 抗菌活性および細胞生育阻害活性を有する1,
２−ジチオラン化合物を提供する。 【構成】 式（Ｉ） 〔式中、ｎは０から２の整数を表わし、R1 はOR3（式
中、R3 は水素または低級アルキルを表わす）、NR4R
5（式中、R4 およびR5 は同一もしくは異なって、水
素、低級アルキル、脂環式アルキルまたはベンジルを表
わす）または式（ii） （式中、ｐは２から８の整数を表わす）を表わし、R2
は水素または低級アルキルを表わす〕で表わされる1,２
−ジチオラン化合物。
２−ジチオラン化合物を提供する。 【構成】 式（Ｉ） 〔式中、ｎは０から２の整数を表わし、R1 はOR3（式
中、R3 は水素または低級アルキルを表わす）、NR4R
5（式中、R4 およびR5 は同一もしくは異なって、水
素、低級アルキル、脂環式アルキルまたはベンジルを表
わす）または式（ii） （式中、ｐは２から８の整数を表わす）を表わし、R2
は水素または低級アルキルを表わす〕で表わされる1,２
−ジチオラン化合物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は1,２−ジチオラン化合物
に関する。本化合物は、抗菌活性および細胞生育阻害活
性を示し、抗菌剤および抗腫瘍剤として有用である。
に関する。本化合物は、抗菌活性および細胞生育阻害活
性を示し、抗菌剤および抗腫瘍剤として有用である。
【０００２】
【従来の技術】ＤＣ−１０７はストレプトマイセス属に
属する微生物が生産する物質であり、各種細菌に抗菌活
性を示すほか、抗腫瘍活性を示し、特開平１−１１２９
８８号公報に開示されている下記の構造を有する化合物
である。
属する微生物が生産する物質であり、各種細菌に抗菌活
性を示すほか、抗腫瘍活性を示し、特開平１−１１２９
８８号公報に開示されている下記の構造を有する化合物
である。
【０００３】
【化３】
【０００４】ＤＣ−１０７の部分構造として存在し、そ
の活性発現に必須であると考えられる1,２−ジチオラン
骨格を有する化合物は、抗菌剤あるいは抗腫瘍剤として
期待され、また、ＤＣ−１０７の合成中間体としても有
用である。
の活性発現に必須であると考えられる1,２−ジチオラン
骨格を有する化合物は、抗菌剤あるいは抗腫瘍剤として
期待され、また、ＤＣ−１０７の合成中間体としても有
用である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、抗菌
活性および細胞生育阻害活性を有する1,２−ジチオラン
化合物を提供することにある。
活性および細胞生育阻害活性を有する1,２−ジチオラン
化合物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は式（Ｉ）
【０００７】
【化４】
【０００８】〔式中、ｎは０から２の整数を表わし、R
1 はOR3（式中、R3 は水素または低級アルキルを表わ
す）、NR4R5（式中、R4 およびR5 は同一もしくは異な
って、水素、低級アルキル、脂環式アルキルまたはベン
ジルを表わす) または式（ii）
1 はOR3（式中、R3 は水素または低級アルキルを表わ
す）、NR4R5（式中、R4 およびR5 は同一もしくは異な
って、水素、低級アルキル、脂環式アルキルまたはベン
ジルを表わす) または式（ii）
【０００９】
【化５】
【００１０】（式中、ｐは２から８の整数を表わす）を
表わし、R2 は水素または低級アルキルを表わす〕で表
わされる1,２−ジチオラン化合物〔以下、化合物（Ｉ）
と称する。他の式番号の化合物についても同様である〕
を提供する。式（Ｉ）の定義中、低級アルキルは炭素数
１−８の直鎖または分岐状アルキル、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル等が、脂環式アルキルと
しては、炭素数３−８の、例えばシクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオ
クチル等を包含する。
表わし、R2 は水素または低級アルキルを表わす〕で表
わされる1,２−ジチオラン化合物〔以下、化合物（Ｉ）
と称する。他の式番号の化合物についても同様である〕
を提供する。式（Ｉ）の定義中、低級アルキルは炭素数
１−８の直鎖または分岐状アルキル、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル等が、脂環式アルキルと
しては、炭素数３−８の、例えばシクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオ
クチル等を包含する。
【００１１】次に、化合物（Ｉ）の製造法について説明
する。 （工程１）
する。 （工程１）
【００１２】
【化６】
【００１３】（式中、 R2 は前記と同義であり、R1aは
R1 の定義中OHを除いた基を表わす)公知の方法〔Helv.
Chim. Acta, 50, 798(1967)〕あるいはそれに準じて合
成される４−オキソ−２−ペンテン酸（IIａ）をエステ
ル化あるいはアミド化することにより化合物（IIｂ）が
得られる。 （工程２）
R1 の定義中OHを除いた基を表わす)公知の方法〔Helv.
Chim. Acta, 50, 798(1967)〕あるいはそれに準じて合
成される４−オキソ−２−ペンテン酸（IIａ）をエステ
ル化あるいはアミド化することにより化合物（IIｂ）が
得られる。 （工程２）
【００１４】
【化７】
【００１５】（式中、 R1 および R2 は前記と同義であ
る)化合物（IIａ）または（IIｂ）を不活性溶媒中、エ
チルビニルエーテルとｔ−ブチルリチウムから調製した
エチルビニルエーテルのリチウム塩と反応することによ
り化合物（III)が得られる。エチルビニルエーテルのリ
チウム塩は化合物（IIａ）または（IIｂ）に対して１〜
５当量用いられる。不活性溶媒はテトラヒドロフラン、
ジオキサン、エーテル等が、単独あるいは混合して用い
られる。反応は通常−８０〜０℃で行い、３０分〜５時
間で終了する。 （工程３）
る)化合物（IIａ）または（IIｂ）を不活性溶媒中、エ
チルビニルエーテルとｔ−ブチルリチウムから調製した
エチルビニルエーテルのリチウム塩と反応することによ
り化合物（III)が得られる。エチルビニルエーテルのリ
チウム塩は化合物（IIａ）または（IIｂ）に対して１〜
５当量用いられる。不活性溶媒はテトラヒドロフラン、
ジオキサン、エーテル等が、単独あるいは混合して用い
られる。反応は通常−８０〜０℃で行い、３０分〜５時
間で終了する。 （工程３）
【００１６】
【化８】
【００１７】（式中、 R1 および R2 は前記と同義であ
る)化合物（III)を不活性溶媒中、水の存在下、Ｎ−ブ
ロモコハク酸イミド(NBS)と反応することにより化合物
（IV）が得られる。NBS は化合物（III)に対して１〜１
０当量用いられる。水は化合物（III)に対して１〜２０
当量用いられるが、溶媒を兼ねて大過剰用いてもよい。
不活性溶媒はアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、水等が、単独あるいは混合して用いられる。
反応は通常−２０〜３０℃で行い、１０分〜３時間で終
了する。 （工程４）
る)化合物（III)を不活性溶媒中、水の存在下、Ｎ−ブ
ロモコハク酸イミド(NBS)と反応することにより化合物
（IV）が得られる。NBS は化合物（III)に対して１〜１
０当量用いられる。水は化合物（III)に対して１〜２０
当量用いられるが、溶媒を兼ねて大過剰用いてもよい。
不活性溶媒はアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、水等が、単独あるいは混合して用いられる。
反応は通常−２０〜３０℃で行い、１０分〜３時間で終
了する。 （工程４）
【００１８】
【化９】 （式中、 R1 および R2 は前記と同義である)化合物（I
V）を不活性溶媒中、塩基の存在下、硫化水素と反応す
ることにより化合物（Ｖ）が得られる。塩基としてはト
リエチルアミン、1,８−ジアザビシクロウンデセン(DB
U) 、炭酸カリウム等が用いられ、通常化合物（IV）に
対して１〜２０当量用いられる。不活性溶媒はアセトニ
トリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン等
が、単独あるいは混合して用いられる。反応は通常０〜
５０℃で行い、１〜２０時間で終了する。 （工程５）
V）を不活性溶媒中、塩基の存在下、硫化水素と反応す
ることにより化合物（Ｖ）が得られる。塩基としてはト
リエチルアミン、1,８−ジアザビシクロウンデセン(DB
U) 、炭酸カリウム等が用いられ、通常化合物（IV）に
対して１〜２０当量用いられる。不活性溶媒はアセトニ
トリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン等
が、単独あるいは混合して用いられる。反応は通常０〜
５０℃で行い、１〜２０時間で終了する。 （工程５）
【００１９】
【化１０】
【００２０】（式中、 R1 および R2 は前記と同義であ
る)化合物（Ｖ）を不活性溶媒中、塩基の存在下、亜硝
酸イソアミルと反応することにより化合物（VI）が得ら
れる。塩基としてはナトリウムメトキシド、水素化ナト
リウム、カリウムｔ−ブトキシド、トリエチルアミン等
が用いられ、通常化合物（Ｖ）に対して１〜２０当量用
いられる。亜硝酸イソアミルは、通常化合物（Ｖ）に対
して１〜２０当量用いられる。不活性溶媒はメタノー
ル、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン
等が、単独あるいは混合して用いられる。反応は通常０
〜５０℃で行い、１〜１０時間で終了する。 （工程６）
る)化合物（Ｖ）を不活性溶媒中、塩基の存在下、亜硝
酸イソアミルと反応することにより化合物（VI）が得ら
れる。塩基としてはナトリウムメトキシド、水素化ナト
リウム、カリウムｔ−ブトキシド、トリエチルアミン等
が用いられ、通常化合物（Ｖ）に対して１〜２０当量用
いられる。亜硝酸イソアミルは、通常化合物（Ｖ）に対
して１〜２０当量用いられる。不活性溶媒はメタノー
ル、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン
等が、単独あるいは混合して用いられる。反応は通常０
〜５０℃で行い、１〜１０時間で終了する。 （工程６）
【００２１】
【化１１】
【００２２】（式中、 R1 および R2 は前記と同義であ
り、X はベンゾイル、2,６−ジメチルベンゾイルまたは
ピバロイルを表わす）化合物（VI）を不活性溶媒中、塩
基の存在下、ベンゾイルクロライド、2,６−ジメチルベ
ンゾイルクロライドまたはピバロイルクロライドと反応
することにより化合物（VII)が得られる。塩基としては
ピリジン、カリウムｔ−ブトキシド、トリエチルアミン
等が用いられ、通常化合物（VI）に対して１〜３０当量
用いられる。ベンゾイルクロライド、2,６−ジメチルベ
ンゾイルクロライドまたはピバロイルクロライドは通常
化合物（VI）に対して１〜３０当量用いられる。不活性
溶媒はクロロホルム、塩化メチレン、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン等が単独あるいは混合して用いられ
る。反応は通常０〜５０℃で行い、１０分〜５時間で終
了する。 （工程７）
り、X はベンゾイル、2,６−ジメチルベンゾイルまたは
ピバロイルを表わす）化合物（VI）を不活性溶媒中、塩
基の存在下、ベンゾイルクロライド、2,６−ジメチルベ
ンゾイルクロライドまたはピバロイルクロライドと反応
することにより化合物（VII)が得られる。塩基としては
ピリジン、カリウムｔ−ブトキシド、トリエチルアミン
等が用いられ、通常化合物（VI）に対して１〜３０当量
用いられる。ベンゾイルクロライド、2,６−ジメチルベ
ンゾイルクロライドまたはピバロイルクロライドは通常
化合物（VI）に対して１〜３０当量用いられる。不活性
溶媒はクロロホルム、塩化メチレン、アセトニトリル、
テトラヒドロフラン等が単独あるいは混合して用いられ
る。反応は通常０〜５０℃で行い、１０分〜５時間で終
了する。 （工程７）
【００２３】
【化１２】
【００２４】（式中、R1、R2 およびX は前記と同義で
ある)化合物（VII)を不活性溶媒中、ナトリウムエチル
スルフィド、カリウムエチルスルフィドまたはリチウム
エチルスルフィドと反応することにより化合物（VIII)
が得られる。ナトウリムエチルスルフィド、カリウムエ
チルスルフィドまたはリチウムエチルスルフィドは、通
常化合物（VII)に対して１〜３０当量用いられる。不活
性溶媒はテトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル等が、単独あるいは混合して用いられる。反応は通
常０〜５０℃で行い、１０分〜５時間で終了する。 （工程８）
ある)化合物（VII)を不活性溶媒中、ナトリウムエチル
スルフィド、カリウムエチルスルフィドまたはリチウム
エチルスルフィドと反応することにより化合物（VIII)
が得られる。ナトウリムエチルスルフィド、カリウムエ
チルスルフィドまたはリチウムエチルスルフィドは、通
常化合物（VII)に対して１〜３０当量用いられる。不活
性溶媒はテトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニト
リル等が、単独あるいは混合して用いられる。反応は通
常０〜５０℃で行い、１０分〜５時間で終了する。 （工程８）
【００２５】
【化１３】
【００２６】（式中、R1 およびR2 は前記と同義であ
る)化合物（VIII) を不活性溶媒中、水硫化ナトリウム
と反応し、引続きヨウ素と反応することにより化合物
（Ｉ）のうちｎが０である化合物（Ｉａ）が得られる。
水硫化ナトリウムおよびヨウ素は、通常化合物（VIII）
に対して１〜３０当量用いられる。不活性溶媒はテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等が、単独
あるいは混合して用いられる。反応は通常０〜５０℃で
行い、１０分〜５時間で終了する。 （工程９）
る)化合物（VIII) を不活性溶媒中、水硫化ナトリウム
と反応し、引続きヨウ素と反応することにより化合物
（Ｉ）のうちｎが０である化合物（Ｉａ）が得られる。
水硫化ナトリウムおよびヨウ素は、通常化合物（VIII）
に対して１〜３０当量用いられる。不活性溶媒はテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等が、単独
あるいは混合して用いられる。反応は通常０〜５０℃で
行い、１０分〜５時間で終了する。 （工程９）
【００２７】
【化１４】
【００２８】（式中、 R1 および R2 は前記と同義であ
り、ｍは１または２を表わす）化合物（Ｉａ）を不活性
溶媒中、メタクロロ過安息香酸と反応することにより化
合物（Ｉ）のうちｎが１および／または２である化合物
（Ｉｂ）が得られる。メタクロロ過安息香酸は、通常化
合物（Ｉａ）に対して１〜１０当量用いられ、１〜２当
量ではｍが１である化合物が、２当量以上過剰に用いた
場合は、ｍが２である化合物がそれぞれ主生成物として
生成してくる。不活性溶媒はクロロホルム、塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が、単独あるい
は混合して用いられる。反応は通常−２０〜５０℃で行
い、１０分〜５時間で終了する。
り、ｍは１または２を表わす）化合物（Ｉａ）を不活性
溶媒中、メタクロロ過安息香酸と反応することにより化
合物（Ｉ）のうちｎが１および／または２である化合物
（Ｉｂ）が得られる。メタクロロ過安息香酸は、通常化
合物（Ｉａ）に対して１〜１０当量用いられ、１〜２当
量ではｍが１である化合物が、２当量以上過剰に用いた
場合は、ｍが２である化合物がそれぞれ主生成物として
生成してくる。不活性溶媒はクロロホルム、塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が、単独あるい
は混合して用いられる。反応は通常−２０〜５０℃で行
い、１０分〜５時間で終了する。
【００２９】各工程の反応終了後、必要に応じて反応液
に水、酸、緩衝液等を加えて、酢酸エチル、クロロホル
ム、エーテル等の非水溶性溶媒で抽出する。抽出液は
水、食塩水等で洗浄後、無水硫酸ナトリウム等で乾燥
し、溶媒留去後得られる残渣は、シリカゲルによるカラ
ムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、高速
液体分取クロマトグラフィー、再結晶等により精製を行
う。
に水、酸、緩衝液等を加えて、酢酸エチル、クロロホル
ム、エーテル等の非水溶性溶媒で抽出する。抽出液は
水、食塩水等で洗浄後、無水硫酸ナトリウム等で乾燥
し、溶媒留去後得られる残渣は、シリカゲルによるカラ
ムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、高速
液体分取クロマトグラフィー、再結晶等により精製を行
う。
【００３０】また各工程の反応終了後、単離、精製を行
わずに次の工程に用いることも可能である。化合物
（Ｉ）に属する代表的化合物の構造および化合物番号を
第１表に示す。また、第１表に示される化合物の合成中
間体の構造式および化合物番号を第２表に示す。
わずに次の工程に用いることも可能である。化合物
（Ｉ）に属する代表的化合物の構造および化合物番号を
第１表に示す。また、第１表に示される化合物の合成中
間体の構造式および化合物番号を第２表に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】
【表３】
【００３４】次に代表的な化合物（Ｉ）の薬理活性を実
験例で説明する。 実験例１ 各種細菌に対する抗菌作用 抗菌作用はバクト・トリプトン(Difco社製) ３ｇ、肉エ
キス３ｇ、酵母エキス１ｇ、グルコース１ｇおよび寒天
１６ｇを１リットルの水に溶解して作成した培地(pH 7)
を用いて寒天希釈法で測定した。代表的化合物の抗菌活
性を最少生育阻止濃度（ＭＩＣ）で第３表に示す。
験例で説明する。 実験例１ 各種細菌に対する抗菌作用 抗菌作用はバクト・トリプトン(Difco社製) ３ｇ、肉エ
キス３ｇ、酵母エキス１ｇ、グルコース１ｇおよび寒天
１６ｇを１リットルの水に溶解して作成した培地(pH 7)
を用いて寒天希釈法で測定した。代表的化合物の抗菌活
性を最少生育阻止濃度（ＭＩＣ）で第３表に示す。
【００３５】
【表４】
【００３６】実験例２ ＨｅＬａＳ3 細胞生育阻害試
験 ９６穴マイクロタイタープレートの各ウエルに１０％牛
胎児血清および２ｍＭグルタミンを含むＭＥＭ培地で３
×１０4 個／mlに懸濁したHeLaS3細胞を0.1mlずつ分注
した。炭酸ガスインキュベーター内で一晩３７℃で培養
後、培地により適宜希釈した試験化合物を0.05mlずつ各
ウエルに加えた。炭酸ガスインキュベーター内で細胞を
１時間培養後、培養上清を除去し、リン酸緩衝液生理食
塩水(PBS) で一回洗浄後、新鮮な培地を 0.1mlずつ各ウ
エルに加え炭酸ガスインキュベーター内で37℃、72時間
培養した。培養上清を除去後、0.02% ニュートラルレッ
ドを含む培地を0.1mlずつ各ウエルに加え３７℃、１時
間炭酸ガスインキュベーター内で培養し、細胞を染色し
た。培養上清を除去後、生理食塩水で一回洗浄し、0.00
1N 塩酸／30% エタノールで色素を抽出した。マイクロ
プレートリーダーにより抽出液の 550nmの吸収を測定し
た。無処理細胞と既知濃度の薬剤で処理した細胞の吸収
を比較することにより、細胞の増殖を50%阻害する薬物
濃度を算出し、それをＩＣ50とした。
験 ９６穴マイクロタイタープレートの各ウエルに１０％牛
胎児血清および２ｍＭグルタミンを含むＭＥＭ培地で３
×１０4 個／mlに懸濁したHeLaS3細胞を0.1mlずつ分注
した。炭酸ガスインキュベーター内で一晩３７℃で培養
後、培地により適宜希釈した試験化合物を0.05mlずつ各
ウエルに加えた。炭酸ガスインキュベーター内で細胞を
１時間培養後、培養上清を除去し、リン酸緩衝液生理食
塩水(PBS) で一回洗浄後、新鮮な培地を 0.1mlずつ各ウ
エルに加え炭酸ガスインキュベーター内で37℃、72時間
培養した。培養上清を除去後、0.02% ニュートラルレッ
ドを含む培地を0.1mlずつ各ウエルに加え３７℃、１時
間炭酸ガスインキュベーター内で培養し、細胞を染色し
た。培養上清を除去後、生理食塩水で一回洗浄し、0.00
1N 塩酸／30% エタノールで色素を抽出した。マイクロ
プレートリーダーにより抽出液の 550nmの吸収を測定し
た。無処理細胞と既知濃度の薬剤で処理した細胞の吸収
を比較することにより、細胞の増殖を50%阻害する薬物
濃度を算出し、それをＩＣ50とした。
【００３７】代表的化合物のＩＣ50を第４表に示す。
【００３８】
【表５】
【００３９】以下に本発明の実施例および参考例を示
す。
す。
【００４０】
【実施例】以下の実施例および参考例で示される理化学
的性質は次の機器類によって測定した。 またシリカゲルは、和光純薬工業社製のワコーゲルTMC-
200 を用いた。以下の実施例および参考例で通常の後処
理とあるのは下記の反応後処理を表わす。各工程の反応
終了後、必要に応じて反応液に水、酸、緩衝液等を加え
て、酢酸エチル、クロロホルム、エーテル等の非水溶性
溶媒で抽出する。抽出液は水、食塩水等で洗浄後、無水
硫酸ナトリウム等で乾燥し、溶媒留去する。
的性質は次の機器類によって測定した。 またシリカゲルは、和光純薬工業社製のワコーゲルTMC-
200 を用いた。以下の実施例および参考例で通常の後処
理とあるのは下記の反応後処理を表わす。各工程の反応
終了後、必要に応じて反応液に水、酸、緩衝液等を加え
て、酢酸エチル、クロロホルム、エーテル等の非水溶性
溶媒で抽出する。抽出液は水、食塩水等で洗浄後、無水
硫酸ナトリウム等で乾燥し、溶媒留去する。
【００４１】実施例１ 化合物１の合成 参考例５で得られる化合物ｅ(35mg)を1.5ml のテトラヒ
ドロフランに溶解し、水硫化ナトリウム20mgを加え、室
温で１時間攪拌した。ヨウ素のテトラヒドロフラン溶液
を反応混合物に加えた。不溶物を濾過後、薄層クロマト
グラフィーにより精製し、化合物１を24mg（収率75％）
得た。 SI-MS m/z ；334(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 400MHz) δppm ； 5.64(br, 1H), 3.80
(m, 1H), 2.73(d, J=14.3Hz, 1H), 2.57(d, J=14.3Hz,
1H), 1.95-1.10(m, 10H), 1.57(s, 3H), 1.52(s,3H) IR(KBr) cm-1； 3350, 2940, 2860, 1700, 1630, 1570,
1450, 1360, 1190, 1060, 950, 895, 805
ドロフランに溶解し、水硫化ナトリウム20mgを加え、室
温で１時間攪拌した。ヨウ素のテトラヒドロフラン溶液
を反応混合物に加えた。不溶物を濾過後、薄層クロマト
グラフィーにより精製し、化合物１を24mg（収率75％）
得た。 SI-MS m/z ；334(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 400MHz) δppm ； 5.64(br, 1H), 3.80
(m, 1H), 2.73(d, J=14.3Hz, 1H), 2.57(d, J=14.3Hz,
1H), 1.95-1.10(m, 10H), 1.57(s, 3H), 1.52(s,3H) IR(KBr) cm-1； 3350, 2940, 2860, 1700, 1630, 1570,
1450, 1360, 1190, 1060, 950, 895, 805
【００４２】実施例２ 化合物２の合成 化合物１(10mg, 0.033mmol) のクロロホルム溶液１mlに
メタクロロ過安息香酸８mg(70%, 0.033mmol)を０℃で加
え、10分間攪拌した。通常の後処理後、溶媒を減圧下留
去することにより、化合物２を10mg（収率95％）得た。
なお、化合物２は、スルホキシドの立体化学に関する
４：３の混合物であった。 SI-MS m/z ； 320(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ；major isomer 5.9-5.6
(m, 1H), 3.7(m, 1H),3.09(d, J=15.6Hz, 1H), 2.79
(d, J=15.6Hz, 1H), 1.66 (s, 3H), 1.33(s, 3H),2.05-
1.0(m, 10H):minor isomer 5.9-5.6(m, 1H), 3.7(m, 1
H), 2.61(d, J=14.9Hz, 1H)，2.25(d, J=14.9Hz, 1H),
1.81(s, 3H), 1.40(s, 3H), 2.05-1.0(m, 10H) IR(KBr) cm-1； 3350, 2940, 2860, 1720, 1640, 1550,
1450, 1380, 1090, 950, 895, 805
メタクロロ過安息香酸８mg(70%, 0.033mmol)を０℃で加
え、10分間攪拌した。通常の後処理後、溶媒を減圧下留
去することにより、化合物２を10mg（収率95％）得た。
なお、化合物２は、スルホキシドの立体化学に関する
４：３の混合物であった。 SI-MS m/z ； 320(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ；major isomer 5.9-5.6
(m, 1H), 3.7(m, 1H),3.09(d, J=15.6Hz, 1H), 2.79
(d, J=15.6Hz, 1H), 1.66 (s, 3H), 1.33(s, 3H),2.05-
1.0(m, 10H):minor isomer 5.9-5.6(m, 1H), 3.7(m, 1
H), 2.61(d, J=14.9Hz, 1H)，2.25(d, J=14.9Hz, 1H),
1.81(s, 3H), 1.40(s, 3H), 2.05-1.0(m, 10H) IR(KBr) cm-1； 3350, 2940, 2860, 1720, 1640, 1550,
1450, 1380, 1090, 950, 895, 805
【００４３】実施例３ 化合物３の合成 実施例１と同様な方法により、化合物ｊ(20mg)、水硫化
ナトリウム10mgおよびヨウ素から、化合物３を13.5mg
（収率75％）得た。 SI-MS m/z ； 290(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.70-3.35(m, 4H),
3.06(d, J=15Hz, 1H),2.71(d, J=15Hz, 1H), 1.75-1.40
(m, 4H), 1.58(s, 3H), 1.53(s, 3H)
ナトリウム10mgおよびヨウ素から、化合物３を13.5mg
（収率75％）得た。 SI-MS m/z ； 290(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.70-3.35(m, 4H),
3.06(d, J=15Hz, 1H),2.71(d, J=15Hz, 1H), 1.75-1.40
(m, 4H), 1.58(s, 3H), 1.53(s, 3H)
【００４４】実施例４ 化合物４の合成 実施例２と同様な方法により、化合物３(9.5mg, 0.03mm
ol) およびメタクロロ過安息香酸8.1mg から化合物４を
６mg（収率60％）得た。 SI-MS m/z ；307(M+2)+ , 306(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.7-3.3(m, 4H), 3.1
2(s, 2H), 1.8-1.4(m, 6H), 1.68(s, 3H), 1.37(s, 3H)
ol) およびメタクロロ過安息香酸8.1mg から化合物４を
６mg（収率60％）得た。 SI-MS m/z ；307(M+2)+ , 306(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.7-3.3(m, 4H), 3.1
2(s, 2H), 1.8-1.4(m, 6H), 1.68(s, 3H), 1.37(s, 3H)
【００４５】実施例５ 化合物５の合成 実施例１と同様な方法により、化合物ｐ（22mg) 、水硫
化ナトリウム10mgおよびヨウ素から、化合物５を12.7mg
（収率64％）得た。 SI-MS m/z ；276(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 4.01(dd, J=8.5, 5.6
Hz, 1H), 3.7-3.3(m, 4H), 2.97(dd, J=16, 5.6Hz, 1
H), 2.63(dd, J=16, 8.5Hz, 1H), 1.75-1.40(m, 6H),
1.39(s, 3H)
化ナトリウム10mgおよびヨウ素から、化合物５を12.7mg
（収率64％）得た。 SI-MS m/z ；276(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 4.01(dd, J=8.5, 5.6
Hz, 1H), 3.7-3.3(m, 4H), 2.97(dd, J=16, 5.6Hz, 1
H), 2.63(dd, J=16, 8.5Hz, 1H), 1.75-1.40(m, 6H),
1.39(s, 3H)
【００４６】実施例６ 化合物６の合成 実施例２と同様な方法により、化合物５（12mg）および
メタクロロ過安息香酸15mgから化合物６を３mg（収率23
％）得た。なお、化合物６はスルホキシドの立体化学に
関する約３：２の混合物であった。 SI-MS m/z ；292(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； major isomer 4.22(d
d, J=9.5, 4.6Hz, 1H),3.7-3.2(m, 4H), 2.54(dd, J=1
7, 4.6Hz, 1H), 2.24(dd, J=17, 9.5Hz, 1H), 1.47(s,
3H), 1.75-1.4(m, 6H) :minor isomer 3.9-3.0(m, 6H),
1.75-1.4(m, 6H), 1.61(s, 3H)
メタクロロ過安息香酸15mgから化合物６を３mg（収率23
％）得た。なお、化合物６はスルホキシドの立体化学に
関する約３：２の混合物であった。 SI-MS m/z ；292(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； major isomer 4.22(d
d, J=9.5, 4.6Hz, 1H),3.7-3.2(m, 4H), 2.54(dd, J=1
7, 4.6Hz, 1H), 2.24(dd, J=17, 9.5Hz, 1H), 1.47(s,
3H), 1.75-1.4(m, 6H) :minor isomer 3.9-3.0(m, 6H),
1.75-1.4(m, 6H), 1.61(s, 3H)
【００４７】実施例７ 化合物７の合成 実施例１と同様な方法により、化合物ｕ（15mg) 、水硫
化ナトリウム10mgおよびヨウ素から、化合物７を 7.0mg
(収率51％) 得た。 FAB-MS m/z ; 304(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ; 6.30(brs, 1H), 3.65-
3.40(m, 4H), 2.85(brs,2H), 2.30-1.75(m, 2H), 1.70-
1.50(m, 6H), 1.58(s, 3H), 1.02(t, J=7.3Hz,3H)
化ナトリウム10mgおよびヨウ素から、化合物７を 7.0mg
(収率51％) 得た。 FAB-MS m/z ; 304(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ; 6.30(brs, 1H), 3.65-
3.40(m, 4H), 2.85(brs,2H), 2.30-1.75(m, 2H), 1.70-
1.50(m, 6H), 1.58(s, 3H), 1.02(t, J=7.3Hz,3H)
【００４８】実施例８ 化合物８の合成 実施例２と同様な方法により、化合物７（8.0mg)および
メタクロロ過安息香酸60mgから化合物８を6.4mg(収率76
％) 得た。 FAB-MS m/z ; 320(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ; 3.70-3.30(m, 4H), 3.
16(brs, 2H), 2.00-1.40(m, 8H), 1.65(s, 3H), 1.01
(t, J=7.4Hz, 3H)
メタクロロ過安息香酸60mgから化合物８を6.4mg(収率76
％) 得た。 FAB-MS m/z ; 320(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ; 3.70-3.30(m, 4H), 3.
16(brs, 2H), 2.00-1.40(m, 8H), 1.65(s, 3H), 1.01
(t, J=7.4Hz, 3H)
【００４９】参考例１ 化合物ａの合成 公知の方法〔Helv. Chim. Acta, 50, 798(1967)〕によ
り合成した４−オキソ−３−メチルペンテノン酸2.5g(1
9.5mmol)とクロロギ酸イソブチル 2.8ml(21.5mmol)の塩
化メチレン溶液40mlにトリエチルアミン3.0ml(21.5mmo
l) を０℃で加えた。１０分間攪拌した後、シクロヘキ
シルアミン2.23ml(19.5mmol)を加え、さらに１５分間攪
拌した。通常の後処理後、クロロホルム／エーテル／ヘ
キサンから結晶化し、化合物ａを2.2g（収率54％）得
た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.56(q, J=1.2Hz, 1
H), 5.55(brs, 1H), 3.80(m, 1H), 2.34(s, 3H), 2.15
(d, J=1.2Hz, 3H), 2.05-1.0 (m, 10H)
り合成した４−オキソ−３−メチルペンテノン酸2.5g(1
9.5mmol)とクロロギ酸イソブチル 2.8ml(21.5mmol)の塩
化メチレン溶液40mlにトリエチルアミン3.0ml(21.5mmo
l) を０℃で加えた。１０分間攪拌した後、シクロヘキ
シルアミン2.23ml(19.5mmol)を加え、さらに１５分間攪
拌した。通常の後処理後、クロロホルム／エーテル／ヘ
キサンから結晶化し、化合物ａを2.2g（収率54％）得
た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.56(q, J=1.2Hz, 1
H), 5.55(brs, 1H), 3.80(m, 1H), 2.34(s, 3H), 2.15
(d, J=1.2Hz, 3H), 2.05-1.0 (m, 10H)
【００５０】参考例２ 化合物ｂの合成 エチルビニルエーテル 1.82ml(19mmol) のテトラヒドロ
フラン溶液40mlにｔ−ブチルリチウム12ml(1.58Mペンタ
ン溶液, 19mmol) を−78℃で加え、０℃まで昇温した。
再び -78℃に冷却後、化合物ａ1.0g(4.8mmol) を加え
た。通常の後処理後、溶媒を減圧下留去した。残渣をア
セトニトリル20mlに溶解し、水２mlを加えたのち、Ｎ−
ブロモコハク酸イミド850mg を０℃で加えた。10分間攪
拌後、通常の後処理を行い、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）により精
製し、化合物ｂを920mg （収率58％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.08(q, J=1.2Hz, 1
H), 5.50(brs, 1H), 4.34(d, J=14Hz, 1H), 4.16(d, J=
14Hz, 1H), 3.78(m, 1H), 2.01(d, J=1.2Hz，1H),1.56
(s, 3H), 2.0-1.0(m, 10H) SI-MS m/z ；334, 332(M+1)+
フラン溶液40mlにｔ−ブチルリチウム12ml(1.58Mペンタ
ン溶液, 19mmol) を−78℃で加え、０℃まで昇温した。
再び -78℃に冷却後、化合物ａ1.0g(4.8mmol) を加え
た。通常の後処理後、溶媒を減圧下留去した。残渣をア
セトニトリル20mlに溶解し、水２mlを加えたのち、Ｎ−
ブロモコハク酸イミド850mg を０℃で加えた。10分間攪
拌後、通常の後処理を行い、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）により精
製し、化合物ｂを920mg （収率58％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.08(q, J=1.2Hz, 1
H), 5.50(brs, 1H), 4.34(d, J=14Hz, 1H), 4.16(d, J=
14Hz, 1H), 3.78(m, 1H), 2.01(d, J=1.2Hz，1H),1.56
(s, 3H), 2.0-1.0(m, 10H) SI-MS m/z ；334, 332(M+1)+
【００５１】参考例３ 化合物ｃの合成 化合物ｂ 670mg(2.02mmol)のテトラヒドロフラン溶液20
mlに硫化水素ガスを５分間吹き込んだ。1.5ml のトリエ
チルアミンを加え、室温で８時間攪拌した。通常の後処
理後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）により精製し、化合物ｃを440m
g（収率77％）得た。なお、化合物ｃは約４：１のジア
ステレオマー混合物であった。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ；major isomer 5.0(br,
1H), 3.7 (m, 1H), 3.46(d, J=17Hz, 1H), 3.30(d, J=
17Hz, 1H), 2.88(d, J=15Hz, 1H), 2.38(d, J=15Hz, 1
H), 1.95-1.0(m, 10H), 1.55(s, 3H), 1.37(s, 3H)
mlに硫化水素ガスを５分間吹き込んだ。1.5ml のトリエ
チルアミンを加え、室温で８時間攪拌した。通常の後処
理後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）により精製し、化合物ｃを440m
g（収率77％）得た。なお、化合物ｃは約４：１のジア
ステレオマー混合物であった。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ；major isomer 5.0(br,
1H), 3.7 (m, 1H), 3.46(d, J=17Hz, 1H), 3.30(d, J=
17Hz, 1H), 2.88(d, J=15Hz, 1H), 2.38(d, J=15Hz, 1
H), 1.95-1.0(m, 10H), 1.55(s, 3H), 1.37(s, 3H)
【００５２】参考例４ 化合物ｄの合成 化合物ｃ 440mg(1.54mmol)、亜硝酸イソアミル 0.4mlお
よびナトリウムメトキシド 240mgのメタノール溶液10ml
を室温で 1.5時間攪拌した。アンバーリストTM15を加
え、さらに20分間攪拌した。固形物を濾過し、濾液を濃
縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホ
ルム／メタノール＝９／１）により精製し、化合物ｄを
356mg （収率74％）得た。 SI-MS m/z ；315(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3＋CD3OD , 100MHz) δppm ； 3.6(m, 1H),
2.84(d, J=15Hz, 1H), 2.52(d, J=15Hz, 1H), 1.93-0.9
0(m, 10H), 1.47(s, 3H), 1.40(s, 3H)
よびナトリウムメトキシド 240mgのメタノール溶液10ml
を室温で 1.5時間攪拌した。アンバーリストTM15を加
え、さらに20分間攪拌した。固形物を濾過し、濾液を濃
縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホ
ルム／メタノール＝９／１）により精製し、化合物ｄを
356mg （収率74％）得た。 SI-MS m/z ；315(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3＋CD3OD , 100MHz) δppm ； 3.6(m, 1H),
2.84(d, J=15Hz, 1H), 2.52(d, J=15Hz, 1H), 1.93-0.9
0(m, 10H), 1.47(s, 3H), 1.40(s, 3H)
【００５３】参考例５ 化合物ｅの合成 化合物ｄ 63mg(0.2mmol)をクロロホルム１mlおよびピリ
ジン 0.2mlに溶解し、2,6-ジメチルベンゾイルクロリド
0.05ml を室温で加えた。10分後、通常の後処理をおこ
ない溶媒を留去した。残渣をテトラヒドロフラン１mlに
溶解し、0.6mlのエタンチオールおよび80mgの水素化ナ
トリウムより調製したナトリウムエチルスルフィドのテ
トラヒドロフラン溶液に室温で加えた。20分間攪拌後、
通常の後処理を行い薄層クロマトグラフィー（エーテル
／ヘキサン＝１／４）により精製し、化合物ｅ 38mg
（収率57％）を得た。 SI-MS m/z ；334(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 7.25(br, 1H), 5.60
(br, 1H), 3.80(m, 1H),2.92(d, J=15Hz, 1H), 2.77
(q, J=7.5Hz, 2H), 2.36(d, J=15Hz, 1H), 1.56(s,3H),
1.49(s, 3H), 1.23(t, J=7.5Hz, 3H), 2.05-1.05(m,
10H)
ジン 0.2mlに溶解し、2,6-ジメチルベンゾイルクロリド
0.05ml を室温で加えた。10分後、通常の後処理をおこ
ない溶媒を留去した。残渣をテトラヒドロフラン１mlに
溶解し、0.6mlのエタンチオールおよび80mgの水素化ナ
トリウムより調製したナトリウムエチルスルフィドのテ
トラヒドロフラン溶液に室温で加えた。20分間攪拌後、
通常の後処理を行い薄層クロマトグラフィー（エーテル
／ヘキサン＝１／４）により精製し、化合物ｅ 38mg
（収率57％）を得た。 SI-MS m/z ；334(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 7.25(br, 1H), 5.60
(br, 1H), 3.80(m, 1H),2.92(d, J=15Hz, 1H), 2.77
(q, J=7.5Hz, 2H), 2.36(d, J=15Hz, 1H), 1.56(s,3H),
1.49(s, 3H), 1.23(t, J=7.5Hz, 3H), 2.05-1.05(m,
10H)
【００５４】参考例６ 化合物ｆの合成 参考例１と同様な方法により、４−オキソ−３−メチル
ペンテノン酸 2.5g(19.5mmol) 、クロロギ酸イソブチル
2.8ml(21.5mmol)、トリエチルアミン３mlおよびピペリ
ジン1.95ml(19.5mmol)を用いて、４ｇの化合物ｆを粗精
製物として得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.82(q, J=1.2Hz, 1
H), 3.7-3.3(m, 4H), 2.35(s, 3H), 1.87(d, J=1.2Hz,
3H), 1.7-1.4(m, 6H)
ペンテノン酸 2.5g(19.5mmol) 、クロロギ酸イソブチル
2.8ml(21.5mmol)、トリエチルアミン３mlおよびピペリ
ジン1.95ml(19.5mmol)を用いて、４ｇの化合物ｆを粗精
製物として得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.82(q, J=1.2Hz, 1
H), 3.7-3.3(m, 4H), 2.35(s, 3H), 1.87(d, J=1.2Hz,
3H), 1.7-1.4(m, 6H)
【００５５】参考例７ 化合物ｇの合成 参考例２と同様な方法により、化合物ｆ 3.0g 、エチル
ビニルエーテル４ml、ｔ−ブチルリチウム 25ml(1.58M
ペンタン溶液）、さらにＮ−ブロモコハク酸イミド1.75
ｇおよび水2.5ml を用いて、化合物ｇを3.32ｇ（収率70
％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.28(q, J=1.2Hz, 1
H), 4.33(s, 2H), 3.7-3.3(m, 4H), 1.71(d, J=1.2Hz,
3H), 1.7-1.45(m, 6H), 1.54(s, 3H)
ビニルエーテル４ml、ｔ−ブチルリチウム 25ml(1.58M
ペンタン溶液）、さらにＮ−ブロモコハク酸イミド1.75
ｇおよび水2.5ml を用いて、化合物ｇを3.32ｇ（収率70
％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.28(q, J=1.2Hz, 1
H), 4.33(s, 2H), 3.7-3.3(m, 4H), 1.71(d, J=1.2Hz,
3H), 1.7-1.45(m, 6H), 1.54(s, 3H)
【００５６】参考例８ 化合物ｈの合成 参考例３と同様な方法により、化合物ｇ 3.3ｇ、トリエ
チルアミン３mlおよび硫化水素ガスを用いて、化合物ｈ
を2.2g（収率78％）得た。なお、化合物ｈは 1HNMRによ
り約3.3 ：１のジアステレオマー混合物であった。 SI-MS m/z ；272(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； major isomer 3.7-3.
3(m, 4H), 3.48(d, J=18Hz, 1H), 3.35(d, J=18Hz, 1
H), 2.81(s, 2H), 1.7-1.4(m, 6H), 1.49(s, 3H),1.44
(s, 3H) : minor isomer 3.7-3.3(m, 4H),3.31(s, 2H),
2.81(s, 3H), 1.7-1.4(m, 6H), 1.45(s, 3H), 1.37(s,
3H)
チルアミン３mlおよび硫化水素ガスを用いて、化合物ｈ
を2.2g（収率78％）得た。なお、化合物ｈは 1HNMRによ
り約3.3 ：１のジアステレオマー混合物であった。 SI-MS m/z ；272(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； major isomer 3.7-3.
3(m, 4H), 3.48(d, J=18Hz, 1H), 3.35(d, J=18Hz, 1
H), 2.81(s, 2H), 1.7-1.4(m, 6H), 1.49(s, 3H),1.44
(s, 3H) : minor isomer 3.7-3.3(m, 4H),3.31(s, 2H),
2.81(s, 3H), 1.7-1.4(m, 6H), 1.45(s, 3H), 1.37(s,
3H)
【００５７】参考例９ 化合物ｉの合成 参考例４と同様な方法により、化合物ｈ 1.6g、亜硝酸
イソアミル 1.0mlおよびナトリウムメトキシド 600mgか
ら、化合物ｉを0.9g（収率51％）得た。 SI-MS m/z ；300(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3＋CD3OD , 100MHz) δppm ； 3.7-3.2(m, 4
H), 2.89 (d, J=17Hz, 1H), 2.72(d, J=17Hz, 1H), 1.7
-1.3(m, 6H), 1.41(s, 3H), 1.37(s, 3H)
イソアミル 1.0mlおよびナトリウムメトキシド 600mgか
ら、化合物ｉを0.9g（収率51％）得た。 SI-MS m/z ；300(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3＋CD3OD , 100MHz) δppm ； 3.7-3.2(m, 4
H), 2.89 (d, J=17Hz, 1H), 2.72(d, J=17Hz, 1H), 1.7
-1.3(m, 6H), 1.41(s, 3H), 1.37(s, 3H)
【００５８】参考例10 化合物ｊの合成 参考例５と同様な方法により、化合物ｉ 62mg(0.21mmo
l) 、2,6-ジメチルベンゾイルクロリド0.05ml、ピリジ
ン 0.2ml、さらに、エタンチオール 0.4mlおよび水素化
ナトリウム90mgから、化合物ｊを34mg（収率51％）得
た。 SI-MS m/z ；320(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.7-3.3(m, 4H), 2.8
4(s, 2H), 2.75(q, J=7.3Hz, 2H), 1.7-1.4(m, 4H), 1.
57(s, 3H), 1.47(s, 3H), 1.21(t, J=7.3Hz, 3H)
l) 、2,6-ジメチルベンゾイルクロリド0.05ml、ピリジ
ン 0.2ml、さらに、エタンチオール 0.4mlおよび水素化
ナトリウム90mgから、化合物ｊを34mg（収率51％）得
た。 SI-MS m/z ；320(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.7-3.3(m, 4H), 2.8
4(s, 2H), 2.75(q, J=7.3Hz, 2H), 1.7-1.4(m, 4H), 1.
57(s, 3H), 1.47(s, 3H), 1.21(t, J=7.3Hz, 3H)
【００５９】参考例11 化合物ｋの合成 参考例１と同様な方法により、４−オキソ−２−ペンテ
ノン酸 1.53g(13.4mmol)、クロロギ酸イソブチル 1.9ml
（14.8mmol) 、トリエチルアミン2.06ml（14.8mmol) お
よびピペリジン 1.46ml(14.8mmol) から、化合物ｋ 1.1
ｇ（収率45％）を得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 7.24(d, J=15Hz, 1
H), 6.95(d, J=15Hz, 1H),3.7-3.4(m, 4H), 2.34(s, 3
H), 1.75-1.50(m, 6H)
ノン酸 1.53g(13.4mmol)、クロロギ酸イソブチル 1.9ml
（14.8mmol) 、トリエチルアミン2.06ml（14.8mmol) お
よびピペリジン 1.46ml(14.8mmol) から、化合物ｋ 1.1
ｇ（収率45％）を得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 7.24(d, J=15Hz, 1
H), 6.95(d, J=15Hz, 1H),3.7-3.4(m, 4H), 2.34(s, 3
H), 1.75-1.50(m, 6H)
【００６０】参考例12 化合物ｌの合成 化合物ｋ 1.01g(5.6mmol) のテトラヒドロフラン溶液15
mlに、エチルビニルエーテル 2.7ml(28mmol)とｔ−ブチ
ルリチウム20ml（1.4Mペンタン溶液、28mmol)から調製
したエトキシビニルリチウム溶液を、−78℃で加えた。
０℃まで昇温後、通常の後処理を行い、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（エーテル／ヘキサン＝４／１）
により精製し、化合物ｌを841mg(収率59％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.56(d, J=15Hz, 1
H), 4.26(d, J=2.9Hz, 1H), 3.98(d, J=2.9Hz, 1H), 3.
75(q, J=6.8Hz, 2H), 3.7-3.5 (m, 4H), 2.76(brs,1H),
1.7-1.4(m, 6H), 1.30(t, J=6.8Hz, 3H)
mlに、エチルビニルエーテル 2.7ml(28mmol)とｔ−ブチ
ルリチウム20ml（1.4Mペンタン溶液、28mmol)から調製
したエトキシビニルリチウム溶液を、−78℃で加えた。
０℃まで昇温後、通常の後処理を行い、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（エーテル／ヘキサン＝４／１）
により精製し、化合物ｌを841mg(収率59％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.56(d, J=15Hz, 1
H), 4.26(d, J=2.9Hz, 1H), 3.98(d, J=2.9Hz, 1H), 3.
75(q, J=6.8Hz, 2H), 3.7-3.5 (m, 4H), 2.76(brs,1H),
1.7-1.4(m, 6H), 1.30(t, J=6.8Hz, 3H)
【００６１】参考例13 化合物ｍの合成 化合物ｌ 220mg(0.87mmol)をアセトニトリル10mlに溶解
し、水２mlを加えた後、Ｎ−ブロモコハク酸イミド 154
mgを０℃で加えた。通常の後処理後、薄層クロマトグラ
フィー（エーテル／ヘキサン＝１／１) により精製し、
化合物ｍを230mg(収率92％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.90(d, J=15Hz, 1
H), 6.65(d, J=15Hz, 1H),4.38(s, 2H), 3.7-3.4(m, 4
H), 1.58(s, 3H), 1.7-1.5(m, 6H)
し、水２mlを加えた後、Ｎ−ブロモコハク酸イミド 154
mgを０℃で加えた。通常の後処理後、薄層クロマトグラ
フィー（エーテル／ヘキサン＝１／１) により精製し、
化合物ｍを230mg(収率92％）得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.90(d, J=15Hz, 1
H), 6.65(d, J=15Hz, 1H),4.38(s, 2H), 3.7-3.4(m, 4
H), 1.58(s, 3H), 1.7-1.5(m, 6H)
【００６２】参考例14 化合物ｎの合成 参考例３と同様な方法により、化合物ｍ 230mg、トリエ
チルアミン１mlおよび硫化水素ガスを用いて、化合物ｎ
の立体異性体である化合物ｎ1 59mg（収率29％）および
化合物ｎ2 103mg(収率50％）を得た。1 HNMR(CDCl3 , 400MHz) δppm ； n1:3.76(dd, J=8.4,
5.9Hz, 1H), 3.6-3.4(m,4H), 3.42(s, 2H), 2.80(dd, J
=16.7, 8.4Hz, 1H), 2.72(dd, J=16.7, 5.9Hz,1H), 1.7
0-1.54(m, 6H), 1.34(s, 3H)；ｎ2 : 3.56(t, J=5.4Hz,
1H), 3.5-3.4(m, 4H), 3.39(d, J=17Hz, 1H), 3.33(d,
J=17Hz, 1H), 2.88(dd, J=16, 5.4Hz, 1H), 2.66(dd, J
=16, 5.4Hz, 1H), 1.7-1.5(m, 6H), 1.55(s, 3H)
チルアミン１mlおよび硫化水素ガスを用いて、化合物ｎ
の立体異性体である化合物ｎ1 59mg（収率29％）および
化合物ｎ2 103mg(収率50％）を得た。1 HNMR(CDCl3 , 400MHz) δppm ； n1:3.76(dd, J=8.4,
5.9Hz, 1H), 3.6-3.4(m,4H), 3.42(s, 2H), 2.80(dd, J
=16.7, 8.4Hz, 1H), 2.72(dd, J=16.7, 5.9Hz,1H), 1.7
0-1.54(m, 6H), 1.34(s, 3H)；ｎ2 : 3.56(t, J=5.4Hz,
1H), 3.5-3.4(m, 4H), 3.39(d, J=17Hz, 1H), 3.33(d,
J=17Hz, 1H), 2.88(dd, J=16, 5.4Hz, 1H), 2.66(dd, J
=16, 5.4Hz, 1H), 1.7-1.5(m, 6H), 1.55(s, 3H)
【００６３】参考例15 化合物ｏの合成 参考例４と同様な方法により、化合物ｎ2 51mg(0.2mmo
l) 、亜硝酸イソアミル0.1ml およびナトリウムメトキ
シド30mgから、化合物ｏを43mg（収率75％）得た。 SI-MS m/z ；287(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 4.00(t, J=7.2Hz, 1
H), 3.65-3.55(m, 4H), 2.97(dd, J=16, 7.2Hz, 1H),
2.87(dd, J=16, 7.2Hz, 1H),1.75-1.45(m, 6H), 1.37
(s, 3H)
l) 、亜硝酸イソアミル0.1ml およびナトリウムメトキ
シド30mgから、化合物ｏを43mg（収率75％）得た。 SI-MS m/z ；287(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 4.00(t, J=7.2Hz, 1
H), 3.65-3.55(m, 4H), 2.97(dd, J=16, 7.2Hz, 1H),
2.87(dd, J=16, 7.2Hz, 1H),1.75-1.45(m, 6H), 1.37
(s, 3H)
【００６４】参考例16 化合物ｐの合成 参考例５と同様な方法により、化合物ｏ 30mg 、ピバロ
イルクロライド0.05ml、ピリジン 0.1ml、さらに、エタ
ンチオール 0.2mlおよびｎ−ブチルリチウム 0.2ml(1.6
M ヘキサン溶液）から、化合物ｐを19mg（収率62％）得
た。 SI-MS m/z ；306(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.7-3.5(m, 5H), 2.9
6(dd, J=16, 5.2Hz, 1H), 2.82(q, J=7.5Hz, 2H), 2.70
(dd, J=16, 4.3Hz, 1H), 2.15(d, J=11Hz, 1H),1.7-1.4
5(m, 6H), 1.53(s, 3H), 1.24(t, J= 7.5Hz, 3H)
イルクロライド0.05ml、ピリジン 0.1ml、さらに、エタ
ンチオール 0.2mlおよびｎ−ブチルリチウム 0.2ml(1.6
M ヘキサン溶液）から、化合物ｐを19mg（収率62％）得
た。 SI-MS m/z ；306(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.7-3.5(m, 5H), 2.9
6(dd, J=16, 5.2Hz, 1H), 2.82(q, J=7.5Hz, 2H), 2.70
(dd, J=16, 4.3Hz, 1H), 2.15(d, J=11Hz, 1H),1.7-1.4
5(m, 6H), 1.53(s, 3H), 1.24(t, J= 7.5Hz, 3H)
【００６５】参考例17 化合物ｑの合成 参考例１と同様な方法により、４−オキソ−３−エチル
ペンテノン酸3.37ｇ（23.8mmol) 、クロロギ酸イソブチ
ル3.11ml(24.0mmol)、トリエチルアミン 3.5ml、および
ピペリジン 2.38ml(23.8mmol)を用いて、化合物ｑを3.3
6ｇ (収率67%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.80(s, 1H), 3.72-
3.3(m, 4H), 2.36(s, 3H), 2.36(q, J=7.3Hz, 2H), 1.7
6-1.45(m, 6H), 1.02(t, J=7.3Hz, 3H)
ペンテノン酸3.37ｇ（23.8mmol) 、クロロギ酸イソブチ
ル3.11ml(24.0mmol)、トリエチルアミン 3.5ml、および
ピペリジン 2.38ml(23.8mmol)を用いて、化合物ｑを3.3
6ｇ (収率67%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.80(s, 1H), 3.72-
3.3(m, 4H), 2.36(s, 3H), 2.36(q, J=7.3Hz, 2H), 1.7
6-1.45(m, 6H), 1.02(t, J=7.3Hz, 3H)
【００６６】参考例18 化合物ｒの合成 参考例２と同様な方法により、化合物ｑ 1.3ｇ、エチル
ビニルエーテル1.8 ml、ｔ−ブチルリチウム11.8ml(1.5
8Mペンタン溶液) 、さらにＮ−ブロモコハク酸イミド1.
04ｇおよび水 2.0mlを用いて、化合物ｒを 1.2ｇ (収率
58%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.25(s, 1H), 4.34(b
rs, 2H), 3.66-3.30(m,4H), 2.40-1.95(m, 2H), 1.70-
1.45(m, 6H), 1.59(s, 3H), 1.00(t, J=7.5Hz, 3H)
ビニルエーテル1.8 ml、ｔ−ブチルリチウム11.8ml(1.5
8Mペンタン溶液) 、さらにＮ−ブロモコハク酸イミド1.
04ｇおよび水 2.0mlを用いて、化合物ｒを 1.2ｇ (収率
58%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.25(s, 1H), 4.34(b
rs, 2H), 3.66-3.30(m,4H), 2.40-1.95(m, 2H), 1.70-
1.45(m, 6H), 1.59(s, 3H), 1.00(t, J=7.5Hz, 3H)
【００６７】参考例19 化合物ｓの合成 参考例３と同様な方法により、化合物ｒ 1.2ｇ、トリエ
チルアミン2.5 mlおよび硫化水素ガスを用いて、化合物
ｓを 480mg（収率47%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.29(brs, 1H), 3.64
-3.34(m, 4H), 3.40(d,J=17Hz, 1H), 3.30(d, J=17Hz,
1H), 2.85(d, J=16Hz, 1H), 2.74(d, J=16Hz, 1H), 2.2
2-1.80(m, 2H), 1.70-1.46(m, 6H), 1.53(s, 3H), 0.97
(t, J=7.3Hz, 3H)
チルアミン2.5 mlおよび硫化水素ガスを用いて、化合物
ｓを 480mg（収率47%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 6.29(brs, 1H), 3.64
-3.34(m, 4H), 3.40(d,J=17Hz, 1H), 3.30(d, J=17Hz,
1H), 2.85(d, J=16Hz, 1H), 2.74(d, J=16Hz, 1H), 2.2
2-1.80(m, 2H), 1.70-1.46(m, 6H), 1.53(s, 3H), 0.97
(t, J=7.3Hz, 3H)
【００６８】参考例20 化合物ｔの合成 参考例４と同様な方法により、化合物ｓ 280mg、亜硝酸
イソアミル 0.8ml、およびナトリウムメトキシド 390mg
から、化合物ｔを 289mg（収率93%)得た。 FAB-MS m/z ; 315(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 10.3(brs, 1H), 6.34
(s, 1H), 3.67-3.35(m,4H), 2.98(d, J=16Hz, 1H), 2.8
7(d, J=16Hz, 1H), 2.25-1.90(m, 2H), 1.70-1.40(m, 6
H), 1.48(s, 3H), 0.93(t, J=7.3Hz, 3H)
イソアミル 0.8ml、およびナトリウムメトキシド 390mg
から、化合物ｔを 289mg（収率93%)得た。 FAB-MS m/z ; 315(M+1)+ 1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 10.3(brs, 1H), 6.34
(s, 1H), 3.67-3.35(m,4H), 2.98(d, J=16Hz, 1H), 2.8
7(d, J=16Hz, 1H), 2.25-1.90(m, 2H), 1.70-1.40(m, 6
H), 1.48(s, 3H), 0.93(t, J=7.3Hz, 3H)
【００６９】参考例21 化合物ｕの合成 参考例５と同様な方法により、化合物ｔ 100mg(0.32mmo
l)、2,6-ジメチルベンゾイクロリド0.05ml、ピリジン0.
1ml、さらに、エタンチオール0.3mlおよび水素化カリウ
ム 160mgから、化合物ｕを85mg（収率80%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.72-3.32(m, 4H),
3.08(d, J=17Hz, 1H), 2.74(q, J=7.5Hz, 2H), 2.52(d,
J=17Hz, 1H), 2.50-2.10(m, 2H), 1.75-1.40(m,6H),
1.46(s, 3H), 1.21(t, J=7.5Hz, 3H), 1.04(t, J=7.3H
z, 3H)
l)、2,6-ジメチルベンゾイクロリド0.05ml、ピリジン0.
1ml、さらに、エタンチオール0.3mlおよび水素化カリウ
ム 160mgから、化合物ｕを85mg（収率80%)得た。1 HNMR(CDCl3 , 100MHz) δppm ； 3.72-3.32(m, 4H),
3.08(d, J=17Hz, 1H), 2.74(q, J=7.5Hz, 2H), 2.52(d,
J=17Hz, 1H), 2.50-2.10(m, 2H), 1.75-1.40(m,6H),
1.46(s, 3H), 1.21(t, J=7.5Hz, 3H), 1.04(t, J=7.3H
z, 3H)
【００７０】
【発明の効果】本発明により、抗菌活性および細胞生育
阻害活性を有する1,２−ジチオラン化合物が提供され
る。
阻害活性を有する1,２−ジチオラン化合物が提供され
る。
Claims (1)
- 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 〔式中、ｎは０から２の整数を表わし、R1 はOR3（式
中、R3 は水素または低級アルキルを表わす）、NR4R
5（式中、R4 およびR5 は同一もしくは異なって、水
素、低級アルキル、脂環式アルキルまたはベンジルを表
わす) または式 (ii） 【化２】 （式中、ｐは２から８の整数を表わす）を表わし、R2
は水素または低級アルキルを表わす〕で表わされる1,２
−ジチオラン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18011592A JPH0616658A (ja) | 1991-07-18 | 1992-07-07 | １，２−ジチオラン化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51301891 | 1991-07-18 | ||
| JP3-513018 | 1991-07-18 | ||
| JP18011592A JPH0616658A (ja) | 1991-07-18 | 1992-07-07 | １，２−ジチオラン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0616658A true JPH0616658A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=26499752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18011592A Withdrawn JPH0616658A (ja) | 1991-07-18 | 1992-07-07 | １，２−ジチオラン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0616658A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009026837A1 (fr) * | 2007-08-24 | 2009-03-05 | Shenyang Pharmaceutical University | Dérivés de phényl-3h-1,2-dithiole-3-thione, -one, -cétoxime 4,5-disubstituée et leur utilisation |
-
1992
- 1992-07-07 JP JP18011592A patent/JPH0616658A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009026837A1 (fr) * | 2007-08-24 | 2009-03-05 | Shenyang Pharmaceutical University | Dérivés de phényl-3h-1,2-dithiole-3-thione, -one, -cétoxime 4,5-disubstituée et leur utilisation |
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