JPS60152461A - ピロリジン誘導体 - Google Patents
ピロリジン誘導体Info
- Publication number
- JPS60152461A JPS60152461A JP59008245A JP824584A JPS60152461A JP S60152461 A JPS60152461 A JP S60152461A JP 59008245 A JP59008245 A JP 59008245A JP 824584 A JP824584 A JP 824584A JP S60152461 A JPS60152461 A JP S60152461A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- mmol
- water
- formula
- Prior art date
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- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、カルバベナム又はカルバペネムの合成中間体
として有用な新規のピロリノン誘導体に関するものであ
る。
として有用な新規のピロリノン誘導体に関するものであ
る。
カルバペネムはすぐれた抗菌力を持つβ−ラクタム系抗
生物質として注目されているか、従来はバクテリアの増
殖上より生産される不安定な物質であり、蓄積量も低く
その工業上有用な製造法の開発が望まれている。
生物質として注目されているか、従来はバクテリアの増
殖上より生産される不安定な物質であり、蓄積量も低く
その工業上有用な製造法の開発が望まれている。
本発明者等は、上記の点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果
、D−グルコサミンより文献既知の方法(ジャーナル、
ケミカル、ソサイエティ、ケミカル。
、D−グルコサミンより文献既知の方法(ジャーナル、
ケミカル、ソサイエティ、ケミカル。
コミュニケーション8,1354頁 1982年)によ
って合成される下記一般式(II)Co2)I CH。
って合成される下記一般式(II)Co2)I CH。
H−C−N+−12
−C−OH
CH,−0R2
で示されるβ−アミノ酸を環化して形成されるピロリジ
ン誘導体が、カルバペナム又はカルバペネムの合成中間
体として有用であり、しかも高収率で得られることを見
い出し、本発明に至った。
ン誘導体が、カルバペナム又はカルバペネムの合成中間
体として有用であり、しかも高収率で得られることを見
い出し、本発明に至った。
本発明による新規なピロリジン誘導体は、これを更に環
化し、脱水して二重結合を形成することにより、光学活
性(後述する一般式(mおよび(V)において2位およ
び5位の炭素の絶対配置がRであるもの。)なカルバペ
ナム又はカルバペネム(アゼチジノン誘導体)が高収率
で得られる。
化し、脱水して二重結合を形成することにより、光学活
性(後述する一般式(mおよび(V)において2位およ
び5位の炭素の絶対配置がRであるもの。)なカルバペ
ナム又はカルバペネム(アゼチジノン誘導体)が高収率
で得られる。
即ち、本発明のピロリジン誘導体は下記の一一式())
で表わされる。
で表わされる。
タタし、一般式(I)ニオイテ、Xは−COOR’で示
されるアミ7基の保護基又は水素原子を表わし、R1は
t−ブチル基、p−メトキシベンジル基等の酸性条件下
で脱離し得る基を示し、Yは−CI−1。
されるアミ7基の保護基又は水素原子を表わし、R1は
t−ブチル基、p−メトキシベンジル基等の酸性条件下
で脱離し得る基を示し、Yは−CI−1。
OR2、−CH,0COR4又は−COOR5を表わし
、R2,R5は水素原子又はメトキシメチル基、メトキ
シチオメチル基、ベンジロキシメチル基、2−メトキシ
エトキシメチル基、2−()リメチルシリル)エトキシ
メチル基、テトラヒドロピラニル基、ベンジル基、1)
−メトキシペンシル基、1)−二Fロベンノル基、トリ
フェニルメチル基、トリメチルシリル基、し−ブチルジ
メチルシリル基、1−(エトキシカルボキシ)エチル基
、1−(アセトキシ)エチル基、ピバロイルオキシメチ
ル基等の水酸基、カルボキシル基の保護基を示し、R4
はフェニル基等のアリール基を示し、また、R3はメチ
ル基、エチル基等の低級アルキル基又は水素原子を示す
。
、R2,R5は水素原子又はメトキシメチル基、メトキ
シチオメチル基、ベンジロキシメチル基、2−メトキシ
エトキシメチル基、2−()リメチルシリル)エトキシ
メチル基、テトラヒドロピラニル基、ベンジル基、1)
−メトキシペンシル基、1)−二Fロベンノル基、トリ
フェニルメチル基、トリメチルシリル基、し−ブチルジ
メチルシリル基、1−(エトキシカルボキシ)エチル基
、1−(アセトキシ)エチル基、ピバロイルオキシメチ
ル基等の水酸基、カルボキシル基の保護基を示し、R4
はフェニル基等のアリール基を示し、また、R3はメチ
ル基、エチル基等の低級アルキル基又は水素原子を示す
。
本発明のピロリジン誘導体のβ−アミノ酸からの合成経
路およびカルバペナム、カルバペネムの合成経路を図示
すれば、次のとおりである。
路およびカルバペナム、カルバペネムの合成経路を図示
すれば、次のとおりである。
H−C−OR2H−C−OR2
(l I ) (Ill )
(Ia)
(Ib) (Ic)
(Id)
■
(le) (IV)
(V)
次に、各工程について説明する。
第1工程はβ−アミノ酸(II)の7ミノ基およびカル
ボキシル基を保護するものである。例えば、アルカリ条
件下、ノーt−ブチルジカーボネートを用いてアミ7基
を[−ブチルカルボニルオキシ化した後、ノアジメタン
を用いてカルボン酸をメチルエステル化すればよい。R
1は[−ブチル基、1)−メトキシベンジル基等酸性条
件下で・脱離しろる保護基か好ましく、またR3はメチ
ル基、エチル基環低級アルキル基が好ましい。
ボキシル基を保護するものである。例えば、アルカリ条
件下、ノーt−ブチルジカーボネートを用いてアミ7基
を[−ブチルカルボニルオキシ化した後、ノアジメタン
を用いてカルボン酸をメチルエステル化すればよい。R
1は[−ブチル基、1)−メトキシベンジル基等酸性条
件下で・脱離しろる保護基か好ましく、またR3はメチ
ル基、エチル基環低級アルキル基が好ましい。
第2工程は、水酸基を活性化した後、ピロリノン環に環
化する段階である。ピリジン中メタンスルホニルクロラ
イド或いは+3 )ルエンスルホニルクロライドを反応
させた後、DMF中90〜100℃でN、N−ジインプ
ロピルエチルアミンで処理することによって高収率でピ
ロリノン誘導体(Ia)を得る。
化する段階である。ピリジン中メタンスルホニルクロラ
イド或いは+3 )ルエンスルホニルクロライドを反応
させた後、DMF中90〜100℃でN、N−ジインプ
ロピルエチルアミンで処理することによって高収率でピ
ロリノン誘導体(Ia)を得る。
第3工程は、R2を脱離する段階であり、−仔lえばR
2がベンジル基、1)−二トロベンシ゛ル基等の場合、
Pd炭素触媒存在下に接触還元することにより定量的に
行うことができる。
2がベンジル基、1)−二トロベンシ゛ル基等の場合、
Pd炭素触媒存在下に接触還元することにより定量的に
行うことができる。
第4工程は、化合物(Ib)の−級水酸基のみを保護す
る段階である。例えば、ピリジン中ベンゾイルクロライ
ド′を作用させればよい。R4はフェニル基等のアリル
基が好ましい。
る段階である。例えば、ピリジン中ベンゾイルクロライ
ド′を作用させればよい。R4はフェニル基等のアリル
基が好ましい。
第5工程は、化合物(Ic)の二級水酸基を保護した後
、第一級アルコールを脱保護次いで酸化してカルボキシ
ル基に変換し、これをエステル化する段階である。例え
ば、2−メトキシエトキシメチルクロライドによって二
級水酸基を保護した後、ナトリウムメトキサイドで一級
水酸基のアシル基を除去し、次いでジ゛ヨーンズ酸化に
よってカルホ゛ン酸に変換する。得られたカルボン酸を
例えばI)MF中NaHC○、の存在下、1〕−二トロ
ベンノルブロマイドを作用させることによってエステル
化し得る。
、第一級アルコールを脱保護次いで酸化してカルボキシ
ル基に変換し、これをエステル化する段階である。例え
ば、2−メトキシエトキシメチルクロライドによって二
級水酸基を保護した後、ナトリウムメトキサイドで一級
水酸基のアシル基を除去し、次いでジ゛ヨーンズ酸化に
よってカルホ゛ン酸に変換する。得られたカルボン酸を
例えばI)MF中NaHC○、の存在下、1〕−二トロ
ベンノルブロマイドを作用させることによってエステル
化し得る。
第6エ程は、化合物(1d)の■マ、’R:、I(3を
脱離する段階である。R3がメチル基等の低級アルキル
基の場合、水−メタノール中水酸化リチウムで処理する
ことによって脱離しうる。次いで、R1゜R2が酸性で
脱離しうる保護基の場合、2N−塩酸で処理することに
よって化合物(Ie)を得る。
脱離する段階である。R3がメチル基等の低級アルキル
基の場合、水−メタノール中水酸化リチウムで処理する
ことによって脱離しうる。次いで、R1゜R2が酸性で
脱離しうる保護基の場合、2N−塩酸で処理することに
よって化合物(Ie)を得る。
第7エ程は、化合物(Ie)をアゼチジノン環に環化し
て化合物(IV)を得る段階である。反応は例えば2,
2′−ノピリノルン゛サルファイドとトリフェニルホス
フィンを作用させることによって行うことかできる。こ
の場合、溶媒はアセトニトリル単独よりもアセトニトリ
ル−水(95:5)の混合物が好ましい。
て化合物(IV)を得る段階である。反応は例えば2,
2′−ノピリノルン゛サルファイドとトリフェニルホス
フィンを作用させることによって行うことかできる。こ
の場合、溶媒はアセトニトリル単独よりもアセトニトリ
ル−水(95:5)の混合物が好ましい。
第8工程は、化合物(IV)を脱水して二重結合を導入
する段階である。反応は化合物(IV)をビリノン中メ
シル化又はトシル化した後、トリエチルアミンで処理す
ることによって行うことができる。
する段階である。反応は化合物(IV)をビリノン中メ
シル化又はトシル化した後、トリエチルアミンで処理す
ることによって行うことができる。
得られた(V)はカラムクロマトグラフィー等によって
精製する。
精製する。
なお、以上の製法により合成した(V)の例えばR5が
p−ニトロベンジル基の化合物は、天然から単離された
SQ 27,860 ρ−ニトロベ、ンジルエステル(
ジャーナル、オブ、アンチバイオティックス0.35巻
653頁、1982年)の融点、NMR,IRとよく
一致した。また、[α]=+99.0°(トルエン)で
あり、報告されている[α1=+104’()ルエン)
とほぼ一致した数値を示した。以上の事実は本発明のピ
ロリジン誘導体から合成された(IV)および(V)か
D−グルコサミンから光学純度を損うことなく合成され
たこと、およびSQ 27.860の5位の炭素の給体
配置かRであることを意味する。
p−ニトロベンジル基の化合物は、天然から単離された
SQ 27,860 ρ−ニトロベ、ンジルエステル(
ジャーナル、オブ、アンチバイオティックス0.35巻
653頁、1982年)の融点、NMR,IRとよく
一致した。また、[α]=+99.0°(トルエン)で
あり、報告されている[α1=+104’()ルエン)
とほぼ一致した数値を示した。以上の事実は本発明のピ
ロリジン誘導体から合成された(IV)および(V)か
D−グルコサミンから光学純度を損うことなく合成され
たこと、およびSQ 27.860の5位の炭素の給体
配置かRであることを意味する。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例1
3R−7ミノー58−ベンジルオキシ−61<−ヒドロ
キシ−7−ベンジルオキシヘプタン酸340mg(0,
91ミリモル)をlN−NaOH水溶液3ifに溶解し
、これにジー[−プチルノカーボネー) (0,421
1+1 1.82ミリモル)を加え、室温で40時間攪
拌した。
キシ−7−ベンジルオキシヘプタン酸340mg(0,
91ミリモル)をlN−NaOH水溶液3ifに溶解し
、これにジー[−プチルノカーボネー) (0,421
1+1 1.82ミリモル)を加え、室温で40時間攪
拌した。
反応液を水で希釈後、lN−HClにて系のptlを約
3とし、食塩を加えて飽和させ、エーテルにて抽出(3
回ルだ。エーテル層を冷水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、エーテルを留去し、粗カルボ
ン酸を得た。この粗カルボン酸をエーテル中0°Cで1
時開ジアゾメタンを反応させてメチルエステル化し、分
収砧層クロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル/ヘ
キサン=171)にて精製し、目的物3R−L−ブトキ
シカルボニルアミノ−58−ベンジルオキシ−6R−ヒ
ドロキシ−7−ベンジルオキシヘプタン酸メチルエステ
ル400mg(収率90%)をシロップ状で得た。
3とし、食塩を加えて飽和させ、エーテルにて抽出(3
回ルだ。エーテル層を冷水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、エーテルを留去し、粗カルボ
ン酸を得た。この粗カルボン酸をエーテル中0°Cで1
時開ジアゾメタンを反応させてメチルエステル化し、分
収砧層クロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸エチル/ヘ
キサン=171)にて精製し、目的物3R−L−ブトキ
シカルボニルアミノ−58−ベンジルオキシ−6R−ヒ
ドロキシ−7−ベンジルオキシヘプタン酸メチルエステ
ル400mg(収率90%)をシロップ状で得た。
比旋光度
[α]%’=+10.0°(c=0.38’l、CHC
l、)核磁気共鳴スペクトル(CDCI3) δ: 1.41 (911,s)、 1.84 (2H
,dd、J=5.4,7.01lz)−2,52(21
1,d、J=5.61’lz)、3.07(ill、b
)、3.44−3.65(3fl、h+)、 3.63
(3H,s)、 3.80−4.30(2H,+o)、
4.51゜4.53 (2Heach、s)、 5.2
8(III、bd、J”7tlz)、 7.29j7.
32(5Heach、s) 赤外線吸収スペクトル(CHCl3) シ;3570,3430.1730.1705.149
5.1455.1438.1390゜1365.124
5,1170,1090,1070.1030 cm−
’ 。
l、)核磁気共鳴スペクトル(CDCI3) δ: 1.41 (911,s)、 1.84 (2H
,dd、J=5.4,7.01lz)−2,52(21
1,d、J=5.61’lz)、3.07(ill、b
)、3.44−3.65(3fl、h+)、 3.63
(3H,s)、 3.80−4.30(2H,+o)、
4.51゜4.53 (2Heach、s)、 5.2
8(III、bd、J”7tlz)、 7.29j7.
32(5Heach、s) 赤外線吸収スペクトル(CHCl3) シ;3570,3430.1730.1705.149
5.1455.1438.1390゜1365.124
5,1170,1090,1070.1030 cm−
’ 。
元素分析
C27H37N○7としての計算値;
C66,51%、87.65%、N2.87%測定値;
C66,33%、H7、8(、’)%、N 2 、9
o%実施例2 実施例1で得た化合物(II)331mB (0,68
ミリモル)をピリノン(4,5m1)に溶j9イし、こ
J′シにメタンスルホニルクロライド265μ+(3,
4ミリモル)を室温で加え、その後アルゴン雰囲気下、
室温で2時間撹拌した。反応液を水冷し水を加え、0℃
で30分撹拌した。反応液を酢酸エチルにて3回抽出し
、有機層を水(2回)、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し粗メジラードを得た
。これをDMF(6ml)に溶解し、これにジイソプロ
ピルエチルアミン(2,4ml、13.6ミリモル)を
加え、アルゴン雰囲気下90〜100℃にて50時間加
熱撹拌した。反応液を放冷硬酢酸エチルで希釈し、水で
洗浄した。
o%実施例2 実施例1で得た化合物(II)331mB (0,68
ミリモル)をピリノン(4,5m1)に溶j9イし、こ
J′シにメタンスルホニルクロライド265μ+(3,
4ミリモル)を室温で加え、その後アルゴン雰囲気下、
室温で2時間撹拌した。反応液を水冷し水を加え、0℃
で30分撹拌した。反応液を酢酸エチルにて3回抽出し
、有機層を水(2回)、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し粗メジラードを得た
。これをDMF(6ml)に溶解し、これにジイソプロ
ピルエチルアミン(2,4ml、13.6ミリモル)を
加え、アルゴン雰囲気下90〜100℃にて50時間加
熱撹拌した。反応液を放冷硬酢酸エチルで希釈し、水で
洗浄した。
この水層を酢酸エチルで抽出し、有機層をあわせ、水(
2回)、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を留去し、更に分取薄層クロマトグラフィ
ー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=173)にて精
製して目的物1−(t−ブトキシカルボニル)−2S−
ベンジルオキシメチル−33−ヘンシルオキシ−5R−
メトキシカルボニルメチルピロリジン280+og(収
率88%)を無色のシロップ状として得た。
2回)、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を留去し、更に分取薄層クロマトグラフィ
ー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=173)にて精
製して目的物1−(t−ブトキシカルボニル)−2S−
ベンジルオキシメチル−33−ヘンシルオキシ−5R−
メトキシカルボニルメチルピロリジン280+og(収
率88%)を無色のシロップ状として得た。
核磁気共鳴スペクトル(CDCI、)
δ: 1.42.1.46(total 9tl、ea
cl+ s)d、s4 2.4S(311,+n)、3
.06(III、m)、 3.50−3.76(III
、+a)、 3.63(311,5)=3.76 4.
36(4!I、111)、4.51(211,s)、4
.49(Ill。
cl+ s)d、s4 2.4S(311,+n)、3
.06(III、m)、 3.50−3.76(III
、+a)、 3.63(311,5)=3.76 4.
36(4!I、111)、4.51(211,s)、4
.49(Ill。
d、J=11Jflz)、 4.62(III、d、J
=11.311z)、 7.27,7゜29(5Hea
ch、s) 赤外吸収スペクトル(CHCl3’) シ:1730,1685,1493.1475,145
3,1438,1395,1368゜1310.125
8,1470,1120,1090.l0JO,c+n
−’高分解能マススペクトル(分子量) C2,H8,、No6としての計算値:lI 69.2
4 G 3 ’、ノ 測定値: 469 、245 ’、ノ8実施例3 実施例2で得た化合物(Ia)257mg (0,54
7ミリモル)をエフフール31出こ溶解し、これに20
%Pct(OH)2炭素40+oHを加え、水素雰囲気
下で室温にて12時間撹拌した。反応液を短いシリカゲ
ルカラムにより濾過し、酢酸エチルで洗い、濾液を留去
し、1−([−ブトキシカルボニル)−28−ヒドロキ
シメチル−38−ヒドロキシ−5R−メトキシカルボニ
ルメチルピロリノン158II1gを定量的に無色のシ
ロップ状として得た。
=11.311z)、 7.27,7゜29(5Hea
ch、s) 赤外吸収スペクトル(CHCl3’) シ:1730,1685,1493.1475,145
3,1438,1395,1368゜1310.125
8,1470,1120,1090.l0JO,c+n
−’高分解能マススペクトル(分子量) C2,H8,、No6としての計算値:lI 69.2
4 G 3 ’、ノ 測定値: 469 、245 ’、ノ8実施例3 実施例2で得た化合物(Ia)257mg (0,54
7ミリモル)をエフフール31出こ溶解し、これに20
%Pct(OH)2炭素40+oHを加え、水素雰囲気
下で室温にて12時間撹拌した。反応液を短いシリカゲ
ルカラムにより濾過し、酢酸エチルで洗い、濾液を留去
し、1−([−ブトキシカルボニル)−28−ヒドロキ
シメチル−38−ヒドロキシ−5R−メトキシカルボニ
ルメチルピロリノン158II1gを定量的に無色のシ
ロップ状として得た。
lt旋光度
[α]23=+49.9°(c=0.32.CHCl、
)核磁気共鳴スペクトル(CDCl2) δ: 1.48(911,3)、1,95(1)1,1
)>、 2.00 2.52(3110m)。
)核磁気共鳴スペクトル(CDCl2) δ: 1.48(911,3)、1,95(1)1,1
)>、 2.00 2.52(3110m)。
2.73−3.19(Illom)、 3.30(il
l、b)、 3.69(3tLs)3.76−4.01
(3)Lm)、4.06−4.70(211,+n)赤
外吸収スペクトル(CHCl3) ν; 3400,1735.1690,1440,13
95,1370.]315,1260゜1170.11
35,1090.cra −’高分解能マススペクトル
(分子量) C、、l−123N O6としての計算値:289.1
5251) 測定値: 289.15193 実施例4 トキシカルボニルメチルピロリジン(lc)の合成実施
例3で得た化合物(IbN 58+ng(0,546ミ
リモル)をピリジン(2+nl)に溶解し、−アノb、
ゴン下O′Cでベンゾイルクロリド76μ+(0,66
ミリモル)を加えた。反応液は0℃で2時間更に室温で
15時間撹袢した。再び反応液を水冷し、水を加えO′
Cで30分撹拌した。これを酢酸エチルで3回抽出し、
有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後溶媒を留去し分取薄層クロマトグラフィー(
展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン−171)にて精製し
て目的物1−(L−ブトキシカルボニル)−28−ベン
ゾイルオキシメチル−38−ヒドロキシ−5R−メトキ
シカルボニルメチルピロリジン181 mg(収率84
%)を無色のシロップ状として得た。
l、b)、 3.69(3tLs)3.76−4.01
(3)Lm)、4.06−4.70(211,+n)赤
外吸収スペクトル(CHCl3) ν; 3400,1735.1690,1440,13
95,1370.]315,1260゜1170.11
35,1090.cra −’高分解能マススペクトル
(分子量) C、、l−123N O6としての計算値:289.1
5251) 測定値: 289.15193 実施例4 トキシカルボニルメチルピロリジン(lc)の合成実施
例3で得た化合物(IbN 58+ng(0,546ミ
リモル)をピリジン(2+nl)に溶解し、−アノb、
ゴン下O′Cでベンゾイルクロリド76μ+(0,66
ミリモル)を加えた。反応液は0℃で2時間更に室温で
15時間撹袢した。再び反応液を水冷し、水を加えO′
Cで30分撹拌した。これを酢酸エチルで3回抽出し、
有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後溶媒を留去し分取薄層クロマトグラフィー(
展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン−171)にて精製し
て目的物1−(L−ブトキシカルボニル)−28−ベン
ゾイルオキシメチル−38−ヒドロキシ−5R−メトキ
シカルボニルメチルピロリジン181 mg(収率84
%)を無色のシロップ状として得た。
比旋光度
[α]+5=+63,1°(C=0.606.(、HC
l3 )核磁気共鳴スペクトル(CDCl2) δ; 1.47(9tl、s)、2.04 2.22(
211,to)、2.34(Ill、ddJ=15.0
.10.0llz)、2.70−3.26(211,h
+)、3.66(311,s)、 3.92−4.98
(511,m)、 7.33−7.68゜7.95 8
.07(511,b+) 赤外吸収スペクトル(C)−IC+3 )ν; 345
0.’ 1728.1695.1605,1585,1
455,1438゜1395、1370.1315.1
275,1175,1120,1105゜1075.1
030,865.cm−’高分解能マススペクトル(分
子量) C2,H,NO,としての計算値: 393.17871 測定値: 393,17862 実施例5 ルビロリジン(Id)の合成 実施例4で製造した化合物(Ic)168+旺(()。
l3 )核磁気共鳴スペクトル(CDCl2) δ; 1.47(9tl、s)、2.04 2.22(
211,to)、2.34(Ill、ddJ=15.0
.10.0llz)、2.70−3.26(211,h
+)、3.66(311,s)、 3.92−4.98
(511,m)、 7.33−7.68゜7.95 8
.07(511,b+) 赤外吸収スペクトル(C)−IC+3 )ν; 345
0.’ 1728.1695.1605,1585,1
455,1438゜1395、1370.1315.1
275,1175,1120,1105゜1075.1
030,865.cm−’高分解能マススペクトル(分
子量) C2,H,NO,としての計算値: 393.17871 測定値: 393,17862 実施例5 ルビロリジン(Id)の合成 実施例4で製造した化合物(Ic)168+旺(()。
427ミリモル)を塩化メチレン中β−メトキシエトキ
シメチルクロライド366μl (3,2ミリモル)及
びジイソプロピルエチルアミン1.12m1(6,4ミ
リモル)とともに20時間加熱還流した。
シメチルクロライド366μl (3,2ミリモル)及
びジイソプロピルエチルアミン1.12m1(6,4ミ
リモル)とともに20時間加熱還流した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、水次いで飽和食塩水で洗
浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、分収用薄層クロ
マトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1
/1)にて精製し、目的物1−(t−ブトキシカルボニ
ル)−28−ベンゾイルオキシメチル−33−(β−メ
トキシエトキシメチルオキシ)−5R−メトキシカルボ
ニルメチルピロリジン203+ng(収率99%)を無
色シロップ状として得た。
浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、分収用薄層クロ
マトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=1
/1)にて精製し、目的物1−(t−ブトキシカルボニ
ル)−28−ベンゾイルオキシメチル−33−(β−メ
トキシエトキシメチルオキシ)−5R−メトキシカルボ
ニルメチルピロリジン203+ng(収率99%)を無
色シロップ状として得た。
核磁気共鳴スペクトル(CDCl2)
δ: 1.45(911,s)、2.06 2.52(
311,+n)、3.04(Ill、m)。
311,+n)、3.04(Ill、m)。
3.37(31Ls)+3.40 3.65(41L+
u+J、68(311,s)4.03−4.68(51
1,+11)、4.75(2tl、s)、7J2−7.
67゜7.94−8.06(51Lm) 赤外吸収スペクトル(CHCh) ν; 1723.1690.1605.1585,14
50,1438,1390゜1365.1315.12
75.1170.1120.1050.1025,85
0゜c+n= 高分解能マススペクトル(分子量) C,H,、No9としての計算値: 481.23113 測定値: 481.23015 実施例6 l−(t−ブトキシカルボニル)−2R−(北−巳トロ
ベンジルオキシカルボニル−33−(4二4トキシエト
キシメチルオキシ)−5R−メトキシ力ルポニルメチル
ピロリシ゛ン(Ie)の合成実施例5で製造した化合物
(ld)191+ng (0゜397ミリモル)をメタ
ノール2.3+nlに溶解し、これlこ0.5N−ナト
リ1ンムメトキサイドーメタノール溶液4.7+n1(
2,38ミリモル)を加え、アルゴン雰囲気下45°C
にて3時間加熱撹拌した。
u+J、68(311,s)4.03−4.68(51
1,+11)、4.75(2tl、s)、7J2−7.
67゜7.94−8.06(51Lm) 赤外吸収スペクトル(CHCh) ν; 1723.1690.1605.1585,14
50,1438,1390゜1365.1315.12
75.1170.1120.1050.1025,85
0゜c+n= 高分解能マススペクトル(分子量) C,H,、No9としての計算値: 481.23113 測定値: 481.23015 実施例6 l−(t−ブトキシカルボニル)−2R−(北−巳トロ
ベンジルオキシカルボニル−33−(4二4トキシエト
キシメチルオキシ)−5R−メトキシ力ルポニルメチル
ピロリシ゛ン(Ie)の合成実施例5で製造した化合物
(ld)191+ng (0゜397ミリモル)をメタ
ノール2.3+nlに溶解し、これlこ0.5N−ナト
リ1ンムメトキサイドーメタノール溶液4.7+n1(
2,38ミリモル)を加え、アルゴン雰囲気下45°C
にて3時間加熱撹拌した。
得られた残さを酢酸エチル−水で処理し、水層は更に酢
酸エチルにて抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水
で洗浄し無水硫酸す) 17ウムで乾燥後、溶媒を留去
し粗アルコール体を得た。得られた化合物をア七トン(
3,5ml)に溶解し、O’Cにて過剰のジョーンズ試
薬と1時間反応させた。反応液を大量の水で希釈し、塩
化メチレンにて3回抽出した。有機層を飽和食塩水にで
洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し粗カル
ボン酸を得た。
酸エチルにて抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水
で洗浄し無水硫酸す) 17ウムで乾燥後、溶媒を留去
し粗アルコール体を得た。得られた化合物をア七トン(
3,5ml)に溶解し、O’Cにて過剰のジョーンズ試
薬と1時間反応させた。反応液を大量の水で希釈し、塩
化メチレンにて3回抽出した。有機層を飽和食塩水にで
洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し粗カル
ボン酸を得た。
この粗カルボン酸をDMF6.5+nlに溶解し7これ
に重曹74mg(0,87ミリモル)、l)−ニトロベ
ンジルブロマイド429mg(1,99ミリモル)を加
え、アルゴン雰囲気下室温で13時間撹拌した;反応液
を酢酸エチルで希釈し、水で洗浄した。水層を酢酸エチ
ルで抽出し有機層を合せて水、飽和食塩水にて洗浄した
。
に重曹74mg(0,87ミリモル)、l)−ニトロベ
ンジルブロマイド429mg(1,99ミリモル)を加
え、アルゴン雰囲気下室温で13時間撹拌した;反応液
を酢酸エチルで希釈し、水で洗浄した。水層を酢酸エチ
ルで抽出し有機層を合せて水、飽和食塩水にて洗浄した
。
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し分取薄層ク
ロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル7′ヘキサン
−171)にて精製し、1−(L−ブ)キシカルボニル
)2R(p−ニトロベンノルオキシカルボニル)−38
−(β−メトキシエトキシメチルオキシ)−’SRSノ
ーキシカルボニルメチルピロリジン169mH(収率8
1%)を無色透明のシロップ状として得た。
ロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル7′ヘキサン
−171)にて精製し、1−(L−ブ)キシカルボニル
)2R(p−ニトロベンノルオキシカルボニル)−38
−(β−メトキシエトキシメチルオキシ)−’SRSノ
ーキシカルボニルメチルピロリジン169mH(収率8
1%)を無色透明のシロップ状として得た。
比旋光度
[al”=−14,8° (c−0,5コ 6+C](
C1z )核磁気共鳴スペクトル(CDCL ) δ: 1,35.1.45(total 9H,s e
ach)+2.10−2.52(311,n+)、 2
.70−3.07(III、m)、 3.38<311
.s)。
C1z )核磁気共鳴スペクトル(CDCL ) δ: 1,35.1.45(total 9H,s e
ach)+2.10−2.52(311,n+)、 2
.70−3.07(III、m)、 3.38<311
.s)。
3.45−3.64(411,+n)、3.67.3.
69(total 3tl、5each)、4.28−
4.80(5H,m)、5.27,5.31(tot、
a1211、s each )17.54(2H,d、
J=8.811z)、 S、22(2H,cl、J =
8.811z) 赤外吸収スペクトル(CHCI3) ν; 1735.1695.1610.1525,14
65,1440,1390゜1365、1345.12
55.1175,1142,1,120,1055゜1
005.858 can−’ 高分解能マススペクトル(分子量) C24834N2011 としての計算(m :526
.21621 測定値 : 526.21553 実施例7 の合成 実施例6で製造した化合物(Ie)33+og(0,0
63ミリモル)をメタノール(1,2m1)、水(0,
13m1)および0.5N−水酸化リチウム水溶液(0
,25+++l、0.126 ミ’)モル)の混合物に
溶解し、室温で20時間撹拌した。反応後に酢酸数滴を
力[Vえ、系のpHを約4にした後、反応液を減圧濃縮
してメタノールの大部分を留去した。残った水層を水希
釈し、IN−塩酸でIIHを約2とした後、エーテルに
て3回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗カルボン酸を
得た。
69(total 3tl、5each)、4.28−
4.80(5H,m)、5.27,5.31(tot、
a1211、s each )17.54(2H,d、
J=8.811z)、 S、22(2H,cl、J =
8.811z) 赤外吸収スペクトル(CHCI3) ν; 1735.1695.1610.1525,14
65,1440,1390゜1365、1345.12
55.1175,1142,1,120,1055゜1
005.858 can−’ 高分解能マススペクトル(分子量) C24834N2011 としての計算(m :526
.21621 測定値 : 526.21553 実施例7 の合成 実施例6で製造した化合物(Ie)33+og(0,0
63ミリモル)をメタノール(1,2m1)、水(0,
13m1)および0.5N−水酸化リチウム水溶液(0
,25+++l、0.126 ミ’)モル)の混合物に
溶解し、室温で20時間撹拌した。反応後に酢酸数滴を
力[Vえ、系のpHを約4にした後、反応液を減圧濃縮
してメタノールの大部分を留去した。残った水層を水希
釈し、IN−塩酸でIIHを約2とした後、エーテルに
て3回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗カルボン酸を
得た。
これをTHF]、2+nlおよび2 N −1−I C
I水溶液0、6 mlに溶解し45・〜5U’Cにて1
1.5時間加熱撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエ
ン、エタノールと数回ずつ共沸することにより、残存す
る塩酸および水を留去した。残された残さを真空「で乾
燥し、β−アミノ酸p−ニトロヘンシルエステル塩酸塩
を無色の結晶状残さとして得た。
I水溶液0、6 mlに溶解し45・〜5U’Cにて1
1.5時間加熱撹拌した。反応液を減圧濃縮し、トルエ
ン、エタノールと数回ずつ共沸することにより、残存す
る塩酸および水を留去した。残された残さを真空「で乾
燥し、β−アミノ酸p−ニトロヘンシルエステル塩酸塩
を無色の結晶状残さとして得た。
これを塩化メチレン2 Ill l Iこ懸濁さ−0、
これにトリエチルアミン44μl(0,315ミリモル
)を加え室温にて1.5時間撹拌した。反応液を減圧濃
縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけた。7
0%エタノール−水で溶出してトリエチルアミン塩酸塩
を除き、2R(p−ニトロベンノルオキシカルボニル)
−33−ヒドロキシ−5R−カルボキシメチルピロリジ
ンを結晶状残さとして得た。
これにトリエチルアミン44μl(0,315ミリモル
)を加え室温にて1.5時間撹拌した。反応液を減圧濃
縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけた。7
0%エタノール−水で溶出してトリエチルアミン塩酸塩
を除き、2R(p−ニトロベンノルオキシカルボニル)
−33−ヒドロキシ−5R−カルボキシメチルピロリジ
ンを結晶状残さとして得た。
核磁気共鳴スペクトル(D20)
δ; 1,65−2.37(2H,口+)、2.49(
211,d、J=6.511z)、4゜10(ill、
m) 、 4.46(ltl 、 d、 J =4.
511z )、5.31(211,s)、7.48(2
11,d、J=8.4Hz)、S、10(2H,d、J
=8,411z)得られた残さな5%含水アセトニトリ
ル5.7+nlに懸濁させ、これにジピリシ゛ルノスル
フイド15B(0,069ミリモル)を加え、アルゴン
気流下70’Cにて加熱撹拌した。これにトリフェニル
ホスフィン18+ng(0,069ミリモル)のアセト
ニトリル溶液botを約20分かけて滴下した。反応後
は更に70゛Cで5時間加熱撹拌した。反応液を減圧濃
縮し黄色のシロップを得た。これを分取薄層クロマトグ
ラフィー(展開溶媒:エーテル)にて精製し、2−ヒド
ロキシカルバペナム−3−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステル(2S、3R。
211,d、J=6.511z)、4゜10(ill、
m) 、 4.46(ltl 、 d、 J =4.
511z )、5.31(211,s)、7.48(2
11,d、J=8.4Hz)、S、10(2H,d、J
=8,411z)得られた残さな5%含水アセトニトリ
ル5.7+nlに懸濁させ、これにジピリシ゛ルノスル
フイド15B(0,069ミリモル)を加え、アルゴン
気流下70’Cにて加熱撹拌した。これにトリフェニル
ホスフィン18+ng(0,069ミリモル)のアセト
ニトリル溶液botを約20分かけて滴下した。反応後
は更に70゛Cで5時間加熱撹拌した。反応液を減圧濃
縮し黄色のシロップを得た。これを分取薄層クロマトグ
ラフィー(展開溶媒:エーテル)にて精製し、2−ヒド
ロキシカルバペナム−3−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステル(2S、3R。
5R)11..2mg(58,3%)を無色の固体状残
さとして得た。
さとして得た。
比旋光度
[α]”=+ 163.0°(c=0.246.CHC
l3)核磁気共鳴スペクトル(CDCI、) δ: 1.65(ill、ddd、Jgem=13,8
tlz、 、L+s=9.11IzlJ1,2=5.O
H2,+1 1.)。
l3)核磁気共鳴スペクトル(CDCI、) δ: 1.65(ill、ddd、Jgem=13,8
tlz、 、L+s=9.11IzlJ1,2=5.O
H2,+1 1.)。
2.39(IIL ddd、JHe+n=13,811
z、 、L′、=5.411z。
z、 、L′、=5.411z。
J、’、2=]、、411z+1l−1’ )。
2.39−2.60(111,b、011)2.67(
Ill、 dd、 Jgen+=15,811z、 J
s、6=2.]fiz。
Ill、 dd、 Jgen+=15,811z、 J
s、6=2.]fiz。
H−6)。
3.38(IIL dd+ Jgem=15.5IIz
+ J、+6′=4.811z。
+ J、+6′=4.811z。
+1−6’ )。
4.19(11I、dddd、JS、l、=2.111
2.JS、6′=4.8117.。
2.JS、6′=4.8117.。
J1’、5=5.4tlz、Jl、s=9.1tlz、
ll−5)。
ll−5)。
4.60(111,cl、+2,3=5.0112.1
l−3)15.04(111,Ld、J++2=Jz、
i=5,0llz1.I211′=1.411z、H−
2)、 5.31(2H,s+benzyl)+ 7.
54+ 8.23(each 211.each d、
J=8,911z、1+henyl)赤外吸収スペクト
ル(CHCI、) ν; 3500,1765.1740(sl+)、16
10,1525.1350,1290゜1185+ 1
15(L 1090.106(L 1015.845c
+n−’高分解能マススペクトル(分子量) C,,8,4N20.とじての計算値:306.058
16 測定値 : 306.08493 実施例8 カルバー2−ペネム−3−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステル(5R)mの合成 実施例7で得た化合物(Iv)13n+i;(0,04
2ミリモル)をピリジンO1S+alLこ溶解し、アル
ゴン雰囲気下0℃にて撹拌しつつメタンスルホニルクロ
リド23μ+(0,294ミリモル)を加えた。反応液
は0°Cで更に1.5時間撹拌した。0°Cで反応液に
水を注加し5分間撹拌した。反応液は酢酸エチルで3回
抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸
すFクラムで乾燥後、溶媒を留去し、粗メジラードを黄
色のシロップとして得た。
l−3)15.04(111,Ld、J++2=Jz、
i=5,0llz1.I211′=1.411z、H−
2)、 5.31(2H,s+benzyl)+ 7.
54+ 8.23(each 211.each d、
J=8,911z、1+henyl)赤外吸収スペクト
ル(CHCI、) ν; 3500,1765.1740(sl+)、16
10,1525.1350,1290゜1185+ 1
15(L 1090.106(L 1015.845c
+n−’高分解能マススペクトル(分子量) C,,8,4N20.とじての計算値:306.058
16 測定値 : 306.08493 実施例8 カルバー2−ペネム−3−カルボン酸p−ニトロベンジ
ルエステル(5R)mの合成 実施例7で得た化合物(Iv)13n+i;(0,04
2ミリモル)をピリジンO1S+alLこ溶解し、アル
ゴン雰囲気下0℃にて撹拌しつつメタンスルホニルクロ
リド23μ+(0,294ミリモル)を加えた。反応液
は0°Cで更に1.5時間撹拌した。0°Cで反応液に
水を注加し5分間撹拌した。反応液は酢酸エチルで3回
抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸
すFクラムで乾燥後、溶媒を留去し、粗メジラードを黄
色のシロップとして得た。
この粗メジラードを塩化メチレン1.5mlに溶解し、
アルゴン雰囲気下0’CにてFリエチルアミン30μm
を加え0℃で3.5時間撹拌した。途中1゜58)rJ
]、2時間、3時間にトリエチルアミンをそれぞれ15
μm、8μm、5μmずっ追加した(計68μ+、0.
42ミリモル)。
アルゴン雰囲気下0’CにてFリエチルアミン30μm
を加え0℃で3.5時間撹拌した。途中1゜58)rJ
]、2時間、3時間にトリエチルアミンをそれぞれ15
μm、8μm、5μmずっ追加した(計68μ+、0.
42ミリモル)。
反応液を減圧濃縮し、初、られたシロ・ンプを70リシ
ールカラムクロマトグラフイー(88)で精製した(展
開溶媒:最初エーテルのみ、次0でエーテル−塩化メチ
レン=1/1)。目的物を含むフラクションを集め溶媒
を留去し、目的物カルノ(“−2−ペネム−3−カルボ
ン酸1〕−二トロベンノルエステル(S R)9.7
+ng(収率80%)を結晶として得 ゛た。
ールカラムクロマトグラフイー(88)で精製した(展
開溶媒:最初エーテルのみ、次0でエーテル−塩化メチ
レン=1/1)。目的物を含むフラクションを集め溶媒
を留去し、目的物カルノ(“−2−ペネム−3−カルボ
ン酸1〕−二トロベンノルエステル(S R)9.7
+ng(収率80%)を結晶として得 ゛た。
融点119−121.5°C(エーテルから再結晶)比
旋光度 [(2116=+99.0’ (c=f)、10L)ル
xン)核磁気共鳴スペクトル(CDCI3) δ; 2.58(211山)1−1.1’ )、 3.
00(ltl、dd、jBem”16.6112.+5
,6=3.山、It−6)、 3.54(ill、dd
Jgem=16.6)1z、Js+6’=5,411z
、1l−6’ )。
旋光度 [(2116=+99.0’ (c=f)、10L)ル
xン)核磁気共鳴スペクトル(CDCI3) δ; 2.58(211山)1−1.1’ )、 3.
00(ltl、dd、jBem”16.6112.+5
,6=3.山、It−6)、 3.54(ill、dd
Jgem=16.6)1z、Js+6’=5,411z
、1l−6’ )。
4.32(Ldd+J++、=、l+s=9,111z
+ 、l、+6′=5.4H2,JS、6=3.1)+
2.H5)、 5.26(]If、d、Jgem=13
.5Hz)+5.4s(11(+dJ=13.511z
+benzyl)+6.60(IHtLJu2=2.7
11z+112)+7.60(2111d+J=8.8
11z)、8.23(211,dJ=8.811z、1
+l+enyl)赤外吸収スペクトル(CHCI3) ν; 1785.1730.1610,1525,13
50,1322,1278゜1258、1165.11
05.1015.cm−’特許出願人 味の素株式会社
+ 、l、+6′=5.4H2,JS、6=3.1)+
2.H5)、 5.26(]If、d、Jgem=13
.5Hz)+5.4s(11(+dJ=13.511z
+benzyl)+6.60(IHtLJu2=2.7
11z+112)+7.60(2111d+J=8.8
11z)、8.23(211,dJ=8.811z、1
+l+enyl)赤外吸収スペクトル(CHCI3) ν; 1785.1730.1610,1525,13
50,1322,1278゜1258、1165.11
05.1015.cm−’特許出願人 味の素株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記の一般式(I) (ただし、Xは−COOR+で示されるアミ7基の保護
基又は水素原子を表わし、R1はt−ブチル基、p−メ
トキシベンジル基等の酸性条件下で脱離し得る基を示し
、Yは−CH20R2、−CH20COR4又は−C0
0R5を表わし、R2,R5は水素原子又はメトキシメ
チル基、メトキシチオメチル基、ベンジaキシメチル基
、2−メトキシエトキシメチル基、2−()リメチルシ
リル)エトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、ベ
ンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトロベンジ
ル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、t
−ブチルジメチルシリル基、1−(エトキシカルボキシ
)エチル基、1−(アセトキシ)エチル基、ピバロイル
オキシメチル基等の水酸基、カルボキシル基の保護基を
示し、R4はフェニル基等のアリール基を示し、また、
R3はメチル基、エチル基等の低級アルキル基又は水素
原子を示す。)で表わされるピロリジン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59008245A JPS60152461A (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | ピロリジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59008245A JPS60152461A (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | ピロリジン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60152461A true JPS60152461A (ja) | 1985-08-10 |
Family
ID=11687755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59008245A Pending JPS60152461A (ja) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | ピロリジン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60152461A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992009605A1 (en) * | 1990-11-27 | 1992-06-11 | Ajinomoto Co., Inc. | Intermediate for synthesis of carbapenem and production of said intermediate |
US5232978A (en) * | 1988-12-23 | 1993-08-03 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | 1-(2-arylethyl)-pyrrolidines |
JP5099343B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2012-12-19 | 独立行政法人理化学研究所 | 環状構造を有する化合物及びその用途 |
-
1984
- 1984-01-20 JP JP59008245A patent/JPS60152461A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5232978A (en) * | 1988-12-23 | 1993-08-03 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | 1-(2-arylethyl)-pyrrolidines |
WO1992009605A1 (en) * | 1990-11-27 | 1992-06-11 | Ajinomoto Co., Inc. | Intermediate for synthesis of carbapenem and production of said intermediate |
US5342963A (en) * | 1990-11-27 | 1994-08-30 | Ajinomoto Co., Inc. | Optically active pyrrolidine derivative |
JP5099343B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2012-12-19 | 独立行政法人理化学研究所 | 環状構造を有する化合物及びその用途 |
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