JPH06157755A

JPH06157755A - 芳香族コポリエステルイミド

Info

Publication number: JPH06157755A
Application number: JP31712392A
Authority: JP
Inventors: Akinori Shiotani; 陽則塩谷; Hiroaki Yamaguchi; 裕章山口; Katsutaka Onzuka; 克孝恩塚
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 1992-11-26
Filing date: 1992-11-26
Publication date: 1994-06-07
Anticipated expiration: 2016-07-09
Also published as: JP3185414B2

Abstract

(57)【要約】【目的】溶融成形性と耐熱性とを良好に併せもちなが
ら、十分に実用性のある機械的物性を有する芳香族コポ
リエステルイミドを提供する。【構成】p-ヒドロキシ安息香酸、3,3'- ジメチルビフェ
ニル-4,4'-ジカルボン酸、3,4'- ジメチルビフェニル-
4,3'-ジカルボン酸、テレフタル酸、芳香族ジオール、
さらに、テトラカルボン酸ジイミドから誘導される反復
単位を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、比較的低い温度で溶融
成形可能な新規なコポリエステルイミドに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術及びその問題点】近年、種々のエンジニア
リングプラスチックスが開発されている。特に溶融時に
光学異方性を示し、成形体は高度に分子配向した構造を
とり、機械的性質が向上すると共に、成形加工性にも優
れたサーモトロピック液晶高分子が注目されている。

【０００３】これらの液晶ポリマーとして、p-ヒドロキ
シ安息香酸及び6-ヒドロキシ -2-ナフトエ酸から得られ
るポリエステル、4,4'- ジヒドロキシビフェニル、テレ
フタル酸及びp-ヒドロキシ安息香酸から得られるポリエ
ステル、ポリエチレンテレフタレート及びp-ヒドロキシ
安息香酸から得られるポリエステルなどが知られてい
る。

【０００４】また、高分子鎖中にイミド基を有する液晶
性ポリエステルイミドも知られている。例えば、Macrom
olecules, 21, 1929(1988)には、N,N'- ビス( ω- カル
ボキシアルキル) ベンゾフェノン-3,3',4,4'- テトラカ
ルボン酸ジイミドと、ハイドロキノン、ビフェノール、
2,6-ナフタレンジオールなどの種々のジオールとのホモ
ポリマーが記載されている。また、Makromol. Chem., 1
84, 1223(1983)には、トリメリット酸無水物とp-アミノ
フェノールのイミド化物の自己縮合物が記載されてい
る。また、J. Polym. Sci.: Part A: Polymer Chemistr
y,27, 431(1989)には、 N-(ω- カルボキシアルキレン)
-トリメリットイミドとビフェノールもしくは N-(ω-
カルボキシアルキレン)-トリメリットイミド、ハイドロ
キノン及びp-ヒドロキシ安息香酸からなるコポリエステ
ルイミドが記載されている。しかしながら、これらのコ
ポリエステルイミドは耐熱性が不十分である。

【０００５】Eur. Polym. J., 28, 261(1992) には、N-
(p- カルボキシフェニル)-トリメリットイミドとビフェ
ノール、2,6-ナフタレンジオール、4,4'- ジヒドロキシ
ビフェニルエーテルなどの種々のジオールとのコポリマ
ーが記載されている。しかし、このコポリエステルイミ
ドは高い融点を有するため、ポリマーの分解を伴わずに
溶融加工することが事実上不可能であった。

【０００６】

【発明の目的】400℃以下の温度で溶融成形可能であ
り、優れた耐熱性を有する成形品を与えることのできる
新規なコポリエステルイミドを提供する。

【０００７】

【問題点解決のための技術的手段】本発明は、下式の反
復単位Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及びＦから構成され、

【化３】（但し、式中のＡｒは、２価の芳香族基を示し、Ｒは、

【化４】から選ばれた基を示す）Ａ／〔Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋
Ｆ〕のモル比が 0より大きく85/100以下、Ｄ／〔Ｂ＋Ｃ
＋Ｄ〕のモル比が 5/100以上 1未満、Ｆ／〔Ｅ＋Ｆ〕の
モル比が 0より大きく40/100未満であり、〔Ｂ＋Ｃ＋
Ｄ〕と〔Ｅ＋Ｆ〕とは実質的に等モルである芳香族コポ
リエステルイミドに関する。

【０００８】本発明の芳香族コポリエステルイミドを形
成している反復単位Ａは、p-ヒドロキシ安息香酸、その
カルボン酸エステル、カルボン酸ハロゲン化物、p-アセ
トキシ安息香酸などから誘導されたものである。

【０００９】反復単位Ｂは、3,3'- ジメチルビフェニル
-4,4'-ジカルボン酸、そのジカルボン酸エステル、ジカ
ルボン酸ハロゲン化物などから誘導されたものである。

【００１０】反復単位Ｃは、3,4'- ジメチルビフェニル
-4,3'-ジカルボン酸、そのジカルボン酸エステル、ジカ
ルボン酸ハロゲン化物などから誘導されたものである。
上記の3,3'- ジメチルビフェニル-4,4'-ジカルボン酸及
び3,4'- ジメチルビフェニル-4,3'-ジカルボン酸は、例
えば、オルトトルイル酸アルキルの酸化カップリング反
応によって合成することができる（特願昭63-267202
号、及び特願平1-211334号) 。

【００１１】反復単位Ｄは、テレフタル酸、そのジカル
ボン酸エステル、ジカルボン酸ハロゲン化物などから誘
導されたものである。

【００１２】反復単位Ｅは、4,4'- ジヒドロキシビフェ
ニル、4,4'- ジヒドロキシビフェニルエーテル、ハイド
ロキノン、レゾルシン、1,5-ジヒドロキシナフタレン、
2,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキシナフタ
レン、2,2-ビス(4- ヒドロキシフェニル) プロパン、ビ
ス(4- ヒドロキシフェニル) ケトン、ビス(4- ヒドロキ
シフェニル) スルホン及びこれらのジアセチル体などか
ら誘導されたものである。中でも、4,4'- ジヒドロキシ
ビフェニル、4,4'- ジアセトキシビフェニル、4,4'- ジ
ヒドロキシビフェニルエーテル、4,4'- ジアセトキシビ
フェニルエーテルなどから誘導されたものが好ましい。

【００１３】反復単位Ｆは、N,N'- ビス(p- ヒドロキシ
フェニル) ビフェニル-3,3',4,4'-テトラカルボン酸ジ
イミド、N,N'- ビス(p- アセトキシフェニル) ビフェニ
ル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミド、N,N'- ビス
(2- ヒドロキシエチル) ビフェニル-3,3',4,4'- テトラ
カルボン酸ジイミド、N,N'- ビス(2- アセトキシエチ
ル) ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミド
などから誘導されたものである。

【００１４】上記のジイミド類の製法については、特に
制限はないが、例えば、N,N'- ビス(p- ヒドロキシフェ
ニル) ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミ
ドは以下の方法で製造することができる。

【００１５】ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸
ジ無水物とp-アミノフェノールとをN-メチルピロリド
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の
溶媒中で 100〜 200℃に加熱し、生成する水をトルエン
で共沸させながら系外に取り除きつつ、 1〜 7時間反応
させ、生成したN,N'- ビス(p- ヒドロキシフェニル) ビ
フェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミドを分離
し、洗浄乾燥して得ることができる。このジイミドは無
水酢酸を用いてアセチル化すると対応のアセチル体へ変
換することができる。上記の反応は、連続して行うこと
ができ、ジアセトキシ誘導体を高収率で合成できる。

【００１６】本発明の芳香族コポリエステルイミドにお
いて、Ａ／〔Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ〕のモル比は、 0
より大きく85/100以下である。この比が85/100を越える
と芳香族コポリエステルイミドの溶融温度が高くなり、
成形加工が困難である。

【００１７】Ｄ／〔Ｂ＋Ｃ＋Ｄ〕のモル比は、 5/100以
上 1未満であり、好ましくは10/100以上 1未満である。
このモル比が 5/100より小さいと、融点及び耐熱性が低
下する傾向にある。

【００１８】Ｆ／〔Ｅ＋Ｆ〕のモル比は、 0より大きく
40/100未満であり、好ましくは 0より大きく30/100未満
である。このモル比が40/100より大きいと溶融粘度が上
昇し、成形加工性に難点を生じる。〔Ｂ＋Ｃ＋Ｄ〕と
〔Ｅ＋Ｆ〕とは実質的に等モルである。

【００１９】前記の反復単位Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及びＦ
以外に、他のエステル結合及びイミド結合を形成できる
僅かな量のモノマーから誘導される反復単位によって
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及びＦが置換されてもよい。

【００２０】他のエステル結合を形成できる反復単位の
具体例としては、イソフタル酸、1,5-ナフタレンジカル
ボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、2,7-ナフタレン
ジカルボン酸、 4,4'-ジフェニルジカルボン酸、ジフェ
ニルエーテル-4,4'-ジカルボン酸、ジフェニルケトン-
4,4'-ジカルボン酸、2,2-ジフェニルプロパン-4,4'-ジ
カルボン酸などから誘導されるようなジカルボキシ単
位、及びm-ヒドロキシ安息香酸、4-ヒドロキシ-4'-カル
ボキシジフェニルエーテル、1-ヒドロキシ-4- ナフトエ
酸、6-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸、4-ヒドロキシビフェ
ニル-4'-カルボン酸などから誘導されるオキシカルボキ
シ単位を挙げることができる。

【００２１】他のイミド結合を構成する反復単位の具体
例としては、N,N'- ビス(m- ヒドロキシフェニル) ビフ
ェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミド、N,N'-
ビス(4- ヒドロキシブチル) ビフェニル-3,3',4,4'- テ
トラカルボン酸ジイミド、N,N'- ビス(6- ヒドロキシヘ
キシル) ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイ
ミドなどを挙げることができる。

【００２２】これらの置換反復単位の置換割合は、芳香
族コポリエステルイミドの溶融点を比較的に低くするた
めに、反復単位〔Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋Ｆ〕に対して 1
0mol％以下であることが好ましい。置換割合が 10mol％
を越えると、置換反復単位の種類によるが、一般に芳香
族コポリエステルイミドの溶融温度が高くなり、成形加
工が困難であったり、溶融温度は比較的低温に保たれる
ものの、液晶性が低下し、そのため溶融粘度が上昇する
等の欠点が生じる。

【００２３】本発明の芳香族コポリエステルイミドの製
法については特に制限はなく、公知のエステル重縮合反
応によって製造することができる。製造法の具体例とし
ては、(1) ジカルボン酸ジクロライドとジオールを第３
級アミンの存在下に重縮合する方法、(2) ジカルボン酸
のジフェニルエステルとジオールから脱フェノール法に
て重縮合する方法、(3) ジカルボン酸とジオールのジア
セチル誘導体から脱酢酸法で重縮合する方法が挙げられ
る。特に好ましい方法は脱酢酸重合法である。

【００２４】脱酢酸重合法の場合、全コモノマー成分を
反応槽に加えてから、反応を開始しても良いし、コモノ
マーを段階的に分けて添加しても良い。

【００２５】この重縮合反応に際して、Ａ、Ｅ及びＦ成
分のモノマーをアセチル化及び／又は予備縮合させた
後、ジカルボン酸成分を添加して重縮合させる方法を用
いると、均質なポリマーを製造することができる。この
方法においては、重縮合は 230〜 350℃で行い、段階的
に昇温して酢酸を留去した後、減圧( 約 0.1Torr) にし
て反応を完結させる。反応時間は 1〜10時間が好まし
い。

【００２６】重縮合反応は、触媒の存在下又は不存在下
に行うことができる。触媒の具体例としては、酢酸第一
スズ、酢酸第一鉄、酢酸ナトリウム、三酸化アンチモ
ン、マグネシウム、アセチルアセトン鉄(III) 、チタン
テトラブトキシド、次亜リン酸ナトリウム、リン酸カリ
ウムなどの金属あるいは金属化合物を挙げることができ
るが、これらに限定されるものではない。添加量は、生
成ポリマー重量に対し、 0.001〜0.5%である。添加時期
は、予備縮合開始時でも、重縮合反応開始時でもよい。

【００２７】重合中の熱劣化による着色防止及び生成ポ
リマーの熱安定性向上の目的で、得られる重合体の物性
に大きな影響を与えない範囲で、安定剤の存在下で重縮
合反応を行うことができる。安定剤の具体例として、リ
ン酸、亜リン酸、次亜リン酸ナトリウム、リン酸トリフ
ェニル、亜リン酸トリフェニルなどのリン系化合物、あ
るいはヒンダードフェノール類を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。添加量は、生成
ポリマー重量に対し、 0.001〜0.5%である。添加時期
は、予備縮合開始時でも、重縮合反応開始時でもよい。

【００２８】本発明の芳香族コポリエステルイミドは、
60℃にてペンタフルオロフェノール中、 0.2g/dlの濃度
で、対数粘度（η_inh）1.0 以上を有し、また、偏光顕
微鏡観察において、溶融状態で光学異方性（液晶性）を
示す。

【００２９】

【発明の効果】本発明の芳香族コポリエステルイミド
は、比較的低い温度、例えば400 ℃以下の温度で溶融状
態を形成し、通常知られた各種の成形加工法によって、
バルク成形品、フィルム、繊維などにすることができ
る。また、ペンタフルオロフェノール、p-クロロフェノ
ールなどの有機極性溶媒に溶解するので、溶解加工法に
よって成形品を得ることが可能である。これらの成形品
は、電気、電子、自動車材料などに幅広く使用できる。
顕著な特性として、溶融状態において液晶性を有するた
め、高度に分子配向した成形品にすることができる。従
って、機械的強度に優れた高分子材料を製造することが
できる。

【００３０】

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。（測定方法）本発明における実施例で示されている各物
性値は、以下の方法で測定した。 (1) 光学異方性; 偏光顕微鏡に試料をのせ、リンカム社
製TH600RMS型加熱装置を用いて、窒素気流下に10℃/ 分
で昇温して肉眼観察した（液晶開始温度）。 (2) 熱分解開始温度; セイコー電子工業社製SSC/5200 T
GA装置を用い、試料を窒素中、20℃/ 分で昇温し、重量
の経時変化を観測した。 (3) 融点; セイコー電子工業社製SSC/5200 DSC装置を用
い、試料を窒素中、10℃/ 分で昇温し、吸熱ピークを観
測した。 (4) 対数粘度; 60℃にてペンタフルオロフェノール中、
0.2g/dl の濃度で試料を溶解し、ウベローデ型粘度計を
用いて測定した。η_inhは、次式に従って計算した。η
_inh= ln(t/t₀)/c ただし、t₀はペンタフルオロフェノ
ールの落下時間、tは試料溶液の落下時間、c は試料の
濃度。

【００３１】合成例１（N,N'- ビス(p- アセトキシフェ
ニル) ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミ
ド（BPTD-Ac)の合成）真空脱気、窒素置換した後 500mlのフラスコにp-アミノ
フェノール10.91g(0.1mol)及びN-メチルピロリドン 100
mlを仕込み、40℃にて均一溶液にした後、ビフェニル-
3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジ無水物14.71g(0.05mol)
を添加した。加熱により均一溶液になった後、トルエ
ン30mlを加え、生成する水を留去しながら 160℃で 2時
間加熱した。その後、無水酢酸 20.4g(0.2mol)を滴下し
た。数分後、黄色の沈澱が析出した。さらに、 4時間 1
60℃で加熱した。冷却後、濾過、メタノールで洗浄し、
27.48g(98%収率) のN,N'- ビス(p- アセトキシフェニ
ル) ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミド
を得た。得られたジイミド化合物の元素分析、 FD-MSス
ペクトルは以下の通りであった。 (元素分析) (理論値) C:68.57, H:3.60, N:5.00 (実測値) C:68.67, H:3.54, N:5.04 (FD-MS スペクトル) M/Z 560 (M⁺)

【００３２】合成例２（N,N'- ビス(2- アセトキシエチ
ル) ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミド
(EBTD-Ac) の合成）真空脱気、窒素置換した後 500mlのフラスコに2-アミノ
エタノール 6.15g(0.1mol)及びN-メチルピロリドン 100
mlを仕込み、ビフェニル-3,3',4,4'- テトラカルボン酸
ジ無水物14.71g(0.05mol) を添加した。加熱により均一
溶液になった後、トルエン30mlを加え、生成する水を留
去しながら 160℃で 2時間加熱した。その後、無水酢酸
20.4g(0.2mol)を滴下し、さらに、 4時間 160℃で加熱
した。冷却後、濾過、メタノールで洗浄し、20.59g(89%
収率) のN,N'- ビス(2- アセトキシエチル) ビフェニル
-3,3',4,4'- テトラカルボン酸ジイミドを得た。得られ
たジイミド化合物の元素分析、 FD-MSスペクトルは以下
の通りであった。 (元素分析) (理論値) C:62.07, H:4.34, N:6.03 (実測値) C:62.30, H:4.32, N:6.05 (FD-MS スペクトル) M/Z 464 (M⁺)

【００３３】実施例１ステンレス製容器(100ml) にガラス製のセパラブル三つ
口フラスコの上部を用い、攪拌機、窒素導入管及びクラ
イゼンを取りつけた。この容器内に、4,4'- ジアセトキ
シビフェニル(BP-Ac) 7.85g (29.07mmol) 、N,N'- ビス
(p- アセトキシフェニル) ビフェニル-3,3',4,4'- テト
ラカルボン酸ジイミド（BPTD-Ac) 0.84g(1.5mmol)、p-
アセトキシ安息香酸(PHBA-Ac)16.21g(90mmol) 及びリン
酸トリフェニル 30mg を仕込んだ。真空脱気し、窒素置
換を 3回繰り返した後、錫を溶かした金属浴中で 250℃
で 5分間加熱した後、放冷し、減圧にした後、窒素で常
圧に戻した。

【００３４】この予備縮合混合物に、3,3'- ジメチルビ
フェニル-4,4'-ジカルボン酸(PA) 2.02g(7.5mmol) 、3,
4'- ジメチルビフェニル-4,3'-ジカルボン酸(QA) 2.02g
(7.5mmol) 、テレフタル酸(TPA) 2.49g (15mmol)を添加
した。真空脱気し、窒素置換を3 回繰り返した後、錫浴
中で 260℃で 1時間加熱した。 1時間かけて 315℃に昇
温して、 315℃で 1時間保ち、生成する酢酸を流通窒素
とともに留出させた。 315℃に保ったまま、徐々に減圧
度を上昇させた。減圧度が 0.3Torr以下に達してから、
さらに60分間反応を続けた。

【００３５】反応終了後、窒素を導入しながら常温常圧
に戻した。得られたポリマーを粉砕して容器から取り出
した。得られたポリマーは、淡黄色不透明であり、流動
性は良好であった。得られたポリマーの収率、対数粘
度、融点、光学異方性を示す温度（液晶開始温度）及び
熱分解開始温度の結果を表１に示した。

【００３６】実施例２実施例１と同様の容器内に、BP-Ac 7.85g(29.07mmol)、
BPTD-Ac 0.84g(1.5mmol) 、PHBA-Ac 16.21g(90mmol)及
びリン酸トリフェニル 30mg を仕込み実施例１と同様に
予備重合し、さらに、PA 1.62g(6mmol) 、QA 1.62g(6mm
ol) 及びTPA 2.99g(18mmol) を添加して実施例１と同様
に反応を行った。ただし、最終温度は 320℃で、減圧時
間60分で反応を停止した。得られたポリマーは、淡黄色
不透明であり、流動性は良好であった。得られたポリマ
ーの収率、対数粘度、融点、光学異方性を示す温度（液
晶開始温度）及び熱分解開始温度の結果を表１に示し
た。

【００３７】実施例３実施例１と同様の容器内に、BP-Ac 6.61g(24.48mmol)、
BPTD-Ac 3.36g(6mmol)、PHBA-Ac 16.21g(90mmol)及びリ
ン酸トリフェニル 30mg を仕込み実施例１と同様に予備
重合し、さらに、PA 2.02g(7.5mmol) 、QA 2.02g(7.5mm
ol) 及びTPA 2.49g(15mmol) を添加して実施例１と同様
に反応を行った。ただし、最終温度は 320℃で、減圧時
間50分で反応を停止した。得られたポリマーは、淡黄色
不透明であり、流動性は良好であった。得られたポリマ
ーの収率、対数粘度、融点、光学異方性を示す温度（液
晶開始温度）及び熱分解開始温度の結果を表１に示し
た。

【００３８】実施例４実施例１と同様の容器内に、BP-Ac 5.78g(21.42mmol)、
BPTD-Ac 0.84g(1.5mmol)、PHBA-Ac 18.91g(105mmol) 及
びリン酸トリフェニル 30mg を仕込み実施例１と同様に
予備重合し、さらに、PA 2.02g(7.5mmol) 、QA 2.02g
(7.5mmol) 及びTPA 1.24g(7.5mmol)を添加して実施例１
と同様に反応を行った。ただし、最終温度は 320℃で、
減圧時間40分で反応を停止した。得られたポリマーは、
淡黄色不透明であり、流動性は良好であった。得られた
ポリマーの収率、対数粘度、融点、光学異方性を示す温
度（液晶開始温度）及び熱分解開始温度の結果を表１に
示した。

【００３９】実施例５実施例１と同様の容器内に、BP-Ac 7.85g(29.07mmol)、
N,N'- ビス(2- アセトキシエチル) ビフェニル-3,3',4,
4'- テトラカルボン酸ジイミド(EBTD-Ac) 0.69g(1.5mmo
l)、PHBA-Ac 16.21g(90mmol)及びリン酸トリフェニル 3
0mg を仕込み実施例１と同様に予備重合し、さらに、PA
1.62g(6mmol) 、QA 1.62g(6mmol) 及びTPA 2.99g(18mm
ol) を添加して実施例１と同様に反応を行った。ただ
し、最終温度は 315℃で、減圧時間75分で反応を停止し
た。得られたポリマーは、淡黄色不透明であり、流動性
は良好であった。得られたポリマーの収率、対数粘度、
融点、光学異方性を示す温度（液晶開始温度）及び熱分
解開始温度の結果を表１に示した。

【００４０】実施例６実施例１と同様の容器内に、4,4'- ジアセトキシビフェ
ニルエーテル(DHDE-Ac) 7.44g(26.01mmol)、BPTD-Ac 0.
84g(1.5mmol)、PHBA-Ac 17.29g(96mmol)及びリン酸トリ
フェニル 30mg を仕込み実施例１と同様に予備重合し、
さらに、PA 0.60g(2.25mmol)、QA 0.60g(2.25mmol)及び
TPA 3.73g(22.5mmol) を添加して実施例１と同様に反応
を行った。ただし、最終温度は 320℃で、減圧時間45分
で反応を停止した。得られたポリマーは、淡黄色不透明
であり、流動性は良好であった。得られたポリマーの収
率、対数粘度、融点、光学異方性を示す温度（液晶開始
温度）及び熱分解開始温度の結果を表１に示した。

【００４１】

【表１】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下式の反復単位Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及び
Ｆから構成され、【化１】（但し、式中のＡｒは、２価の芳香族基を示し、Ｒは、【化２】から選ばれた基を示す）Ａ／〔Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅ＋
Ｆ〕のモル比が 0より大きく85/100以下、Ｄ／〔Ｂ＋Ｃ
＋Ｄ〕のモル比が 5/100以上 1未満、Ｆ／〔Ｅ＋Ｆ〕の
モル比が 0より大きく40/100未満であり、〔Ｂ＋Ｃ＋
Ｄ〕と〔Ｅ＋Ｆ〕とは実質的に等モルである芳香族コポ
リエステルイミド。