JPH06151272A - 加速度フィードバック付き微動位置決め装置 - Google Patents
加速度フィードバック付き微動位置決め装置Info
- Publication number
- JPH06151272A JPH06151272A JP32148492A JP32148492A JPH06151272A JP H06151272 A JPH06151272 A JP H06151272A JP 32148492 A JP32148492 A JP 32148492A JP 32148492 A JP32148492 A JP 32148492A JP H06151272 A JPH06151272 A JP H06151272A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acceleration
- feedback
- positioning device
- substrate
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 title claims abstract description 91
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 32
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000004044 response Effects 0.000 description 8
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 2
- 230000003534 oscillatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
度や位置決め速度を向上させる。 【構成】 並進1自由度と回転2自由度で位置決めされ
る平板状の基板を、ほぼ同心円上に設けた3個のアクチ
ュエ−タで駆動するとともに、このアクチュエ−タの駆
動は、前記アクチュエ−タ近傍に設けた3個の位置セン
サの各出力を外部からの指令電圧と比較して偏差信号を
得、これに基づき、前置増幅器およびプログラマブルゲ
イン要素を介して電力増幅器を励磁し、その出力電流で
行なうようにした微動位置決め装置において、前記各ア
クチュエ−タの近傍で前記基板の加速度を検出し、これ
に適切な時定数とゲインを付与して前記電力増幅器の入
力に負帰還させる加速度フィ−ドバック回路を備える。
また、さらに適切な時定数を有するローパスフィルタを
介して電力増幅器を励磁するものである場合は、加速度
フィ−ドバック回路は、適切なゲインを有する増幅器を
介して加速度検出器の出力をローパスフィルタの入力側
に負帰還させるように構成する。
Description
歪素子等をアクチュエ−タとしたサブミクロンオ−ダの
位置決め装置であって、位置決め時間の短縮と外乱の影
響を著しく抑制することが可能な加速度フィ−ドバック
付き微動位置決め装置に関する。
における微小位置決めにおいては、サブミクロンオ−ダ
の位置決め精度が要求されている。特に、微細パタ−ン
の露光を目的とした超精密位置決めステ−ジにおいて
は、高い駆動分解能と周波数応答の広帯域化を実現すべ
く、アクチュエ−タとして圧電素子や電歪素子が多用さ
れる。一例として、鉛直方向の並進1自由度と水平面内
の傾きの2自由度を位置決め制御する3自由度の微動位
置決め装置を図3に示す。この装置は、平板上の基板1
を印加電圧に応じて鉛直方向に変位させるアクチュエ−
タ2M,2R,2Lによって位置決め制御するものであ
る。アクチュエ−タ2M,2R,2Lは駆動素子として
のピエゾおよびその変位を拡大する変位拡大機構を含
む。アクチュエ−タ2M,2R,2Lの近傍には基板1
の鉛直z方向の変位を計測する位置センサ3M,3R,
3Lが配置されている。これらの構成要素からなる機構
を微動位置決め機構と呼ぶ。
された基板1の変位信号は、変位増幅器4M,4R,4
Lによって電気信号に変換される。その電気信号は、指
令電圧入力端子5M,5R,5Lに加えられる指令電圧
と比較されて偏差信号eM ,eR ,eL となる。この偏
差信号は所定の感度を得るために前置増幅器6M,6
R,6Lに入力され、その出力は、制御ル−プの特性を
調整するプログラマブルゲイン要素7M,7R,7Lに
入力される。そして、この出力をもって電力増幅器8
M,8R,8Lを励磁し、アクチュエ−タ2M,2R,
2Lを上下動させて基板1を上下方向に並進運動させた
り、あるいは図中のz軸に対して傾かせる駆動が行われ
る。これらの位置に関する閉ル−プはフィ−ドバック装
置と呼び、微動位置決め機構にフィ−ドバック装置が付
加されたものを微動位置決め装置と称することにする。
電圧に対して電流を出力するタイプのものである。この
ような位置制御ル−プ構成によれば、目標位置への定常
偏差零の収束が保証される。何故ならば、アクチュエ−
タ2M,2R,2Lの構成要素であるピエゾは電気的に
みるとコンデンサであり、電流出力タイプの電力増幅器
8M,8R,8Lと、それが駆動する各ピエゾを含めた
伝達関数には積分器が含まれて、いわゆる制御ル−プは
1型となり、制御理論によれば定常偏差零が保証される
からである。上述のような微動位置決め機構及びフィ−
ドバック装置を備えた微動位置決め装置は既知である。
例えば文献『辺見、佐藤、和田、下河辺:6自由微動機
構の研究(第2報)、精密工学会誌58/6/199
2、pp.1035−1040』や、『富田ほか:パラ
レルリンク式微動ステ−ジの6自由度位置決め制御、精
密工学会誌58/4/1992、pp.684−69
0』に機構の構成が開示されており、制御系の構成に工
夫が加えられている。
め装置においては、微動位置決め機構は、上述のように
ピエゾと変位拡大機構から成るアクチュエ−タ2M,2
R,2Lと、それらに対応した位置センサ3M,3R,
3Lとをそれぞれ対とする3個のユニットとして製作さ
れ、そして、各ユニットを平面上に配置して基板1の駆
動がなされる。しかしこのとき、ユニット単体としては
ダンピング特性に優れたものであっても、質量の重い基
板1が各ユニットに支持されたときには、機構全体のダ
ンピング係数が小さくなり、フィ−ドバック装置を付加
して閉ル−プ系と成したときの応答は振動的になってし
まうという問題点がある。すなわち、微動位置決め装置
を安定化することにおいて位置のル−プゲインは低くせ
ねばならず、これは位置決め時間を短縮したいという要
求に対する障害となる。
るためには閉ル−プ系のル−プゲインを大きくせねばな
らないが、機構のダンピングが小さいものに対してはル
−プゲインを上げることにおいて限界がある。例えば、
図4は図3に示す3自由度の微動位置決め装置の根軌跡
を示すグラフである。プログラマブルゲイン要素7M,
7R,7Lを0から5/256毎に増加した場合の閉ル
−プ系の根を×印でプロットしたものである。このグラ
フより3個の複素共役な根の中で最低次のもの(z軸並
進運動)はプログラマブルゲインの増加によって容易に
複素平面の右側に入り込み、不安定になってしまうこと
が分かる。
み、微動位置決め装置において、位置決め動作を安定化
させ、外乱に対する強度や位置決め速度を向上させるこ
とにある。
本発明では、並進1自由度と回転2自由度の位置決めが
なされる平板状の基板と、この位置決めのためにほぼ同
心円上に配置され前記基板を駆動する3個のアクチュエ
−タと、前記アクチュエ−タ近傍において前記基板の変
位を計測する3個の位置センサと、前置増幅器、プログ
ラマブルゲイン要素、および電流出力タイプの電力増幅
器を備え、前記位置センサの各出力を外部からの指令電
圧と比較して偏差信号を取得し、この偏差信号に基づ
き、前記前置増幅器およびプログラマブルゲイン要素を
介して前記電力増幅器を励磁し、その出力電流により前
記アクチュエ−タを駆動するフィ−ドバック装置とを備
えた微動位置決め装置において、前記各アクチュエ−タ
の近傍で前記基板の加速度を検出する加速度センサと、
この加速度センサの出力を電気信号に変換する加速度検
出器と、適切な時定数とゲインを有するロ−パスフィル
タを備え、これを介して前記加速度検出器の出力を前記
電力増幅器の入力側に負帰還させる加速度フィ−ドバッ
ク回路とを具備するようにしている。
幅器、プログラマブルゲイン要素、適切な時定数を有す
るローパスフィルタ、および電流出力タイプの電力増幅
器を備え、前記位置センサの各出力を外部からの指令電
圧と比較して偏差信号を取得し、この偏差信号に基づ
き、前記前置増幅器、プログラマブルゲイン要素、およ
びローパスフィルタを介して前記電力増幅器を励磁し、
その出力電流により前記アクチュエ−タを駆動するもの
である場合は、加速度フィ−ドバック回路は、適切なゲ
インを有する増幅器を備え、これを介して前記加速度検
出器の出力を前記ローパスフィルタの入力側に負帰還さ
せるようにしている。
がない場合、位置決め時間の短縮や外乱抑圧等の目的で
フィードバック装置における位置制御のループゲインを
増加させようとすると、基板位置が容易に振動的にな
り、不安定になってしまうが、本発明においては、加速
度フィ−ドバックにより、ダンピング作用が強化されて
振動が抑制されるため、位置制御のループゲインを増加
しても振動が起こらず、極めて安定した位置決め制御が
行なわれ、したがって、位置制御のループゲインを不都
合なく増加させて外乱の影響を受けずにより短時間の位
置決めが行なわれる。
ドバック付き微動位置決め装置を示すブロック図であ
る。この装置では、微動位置決め機構とフィードバック
装置とから成る図3の微動位置決め装置に対して、新た
に加速度フィードバックループが付加されている。つま
り、位置センサとほぼ同一位置に加速度センサ9M,9
R,9Lを装着し、且つそのセンサ出力は加速度検出器
10M,10R,10Lによって電気信号に変換され、
さらに適切な時定数と増幅機能を有するローパスフィル
タ11M,11R,11Lを通って電流出力タイプの電
力増幅器8M,8R,8Lの前段に負帰還する構成とな
っている。
行うための加速度フィードバックの原理を説明する。図
5は微動位置決め機構の1軸を表現するブロック図であ
る。すなわち、ピエゾアクチュエータの基本伝達関数を
数1式とし、ピエゾ駆動用の電力増幅器が電流出力タイ
プなのでこれをゲインKI の積分器と表現しているの
である。ただし、Mは質量、Kはバネ定数、Dは粘性摩
擦係数である。
対する2種類の加速度フィードバックを考える。まず、
図6(a)を参照して、電力増幅器の入力電圧vから変
位xまでの伝達関数は数2式となる。
んだとき、数3式を得る。
るダンピング付与によって微動位置決め機構の根は複素
平面の左半面奥に設定される。したがって、閉ループを
構成したときにはループゲインが上げられると期待され
る。
の入力電圧vから変位xまでの伝達関数は数4式とな
る。
と選んだとき、数5式を得る。
てダンピングが付与されるので微動位置決め機構の根は
複素平面左奥に設定される。しかも、この場合には零点
が無い伝達関数となる。
バックを施した場合およびそれが無い場合に対して位置
の閉ループ系を構成したとき、ループゲインが従来に比
較して上げられることを示す。図7(a)〜(c)はそ
れぞれ図6(a)、図6(b)および図5の場合におい
て加速度フィードバックを施した場合を示す。図7
(c)、(a)および(b)の場合における安定解析の
結果はそれぞれ数6、7および8式に示す通りである。
ただし、Kloop=Kloop’KI とおく。
制御構成の中でどれがループゲインを余裕をもって上げ
られるのかを確認する。すなわち、基本伝達関数(数1
式)が複素根を持つ場合であり、数6〜8式の大小関係
を確認する。
〜(c)に示す。図8はKloopを0から率10で増
加したときの複素平面上における根の位置(×印)を示
す。図中の矢印はKloopの増加による根の移動方向
である。Kloopの増加によって不安定になる順番は
図8(c)、(b)、(a)の順である。すなわち、図
6(a)あるいは同図(b)のような加速度フィードバ
ックを施して位置の閉ループを構成した場合には、その
フィードバックが無い時と比較して位置のループゲイン
をより大きくできるのである。
度フィードバックの中で、同図(a)の加速度フィード
バックを3自由度の微動位置決め機構に適用したもので
ある。図1に示すように、変位センサ3M,3R,3L
と同じ場所に加速度センサ9M,9R,9Lを配置し、
この出力をそれぞれ電流出力タイプの電力増幅器8M,
8R,8Lの前段に負帰還する構成とする。ただし、加
速度センサ9M,9R,9Lの出力は数1式のDs+K
によって定まる零点をキャンセルするような時定数を持
つ1次のロ−パスフィルタ11M、11R、11Lを通
して適切なゲインを掛ける。また、ここでは表1の物理
パラメ−タではなく、3自由度の微動位置決め機構その
もののパラメ−タを使用して数値実験を行う。
ル−プゲインは同一という条件下で加速度フィ−ドバッ
クの有無によるステップ応答の差異を調べた結果を示す
グラフである。ただし、上段はz軸並進運動、中段はx
軸回りの回転運動、そして下段はy軸回りの回転運動の
場合であり、何れも左側から偏差信号eM ,eR ,eL
の電圧の時間に対する変化を示す。また、図中のFBは
フィ−ドバックを意味する。同図に示すように、加速度
フィ−ドバック有りの場合、ステップ印加直後の応答は
同フィ−ドバック無しに比較して偏差信号が幾分膨張す
る。しかし、時間が経過して偏差が零となるところで
は、加速度フィ−ドバック投入の方が整定は良好になっ
ており位置決め時間の短縮が図られている。
増加したときのステップ応答の変化を加速度フィ−ドバ
ックの有無で比較したものである。ただし、上段は加速
度フィ−ドバック無し、下段は同フィ−ドバック有りの
場合であり、何れもz軸方向にステップ状の並進運動を
与えた場合を示す。図9と同様に左側から順番に偏差信
号eM ,eR ,eL の電圧の時間に対する変化を示す。
また、図中に示した数値はプログラマブルゲイン要素7
M,7R,7Lの設定値であり、このゲインを操作する
ことによってル−プゲインを変更した。同図から明白な
ように、加速度フィ−ドバック無しの場合は、位置のル
−プゲインを上げていくと容易に振動的になってしま
う。一方、加速度フィ−ドバック有りの場合には、同じ
位置ル−プのゲイン増加に対しても不安定に至らない。
従って、加速度フィ−ドバック投入時の方が、位置ル−
プのル−プゲインを高められるので、位置決めの整定時
間が短くなるのみならず、外乱に対して強い制御系とす
ることが可能である。
によって整定時間の短縮および一巡ル−プゲインの増加
を図ることができることが分かった。しかし、幾つかの
実現上の問題を考えてみよう。まず、加速度フィ−ドバ
ックル−プのロ−パスフィルタの時定数について考察す
る。数3式の導出においては、T=2ζ0 T0 となるよ
うに時定数を設定したが、これは、Ds+Kによって定
まるピエゾ駆動機構の零点と同位置であり、実際には同
定誤差に原因した設定の曖昧さは避けられない。そこ
で、ロ−パスフィルタの時定数Tがずれたときの影響を
把握しておく。図11のグラフは左から順にそれぞれロ
−パスフィルタ11M,11R,11Lの時定数の中心
値T=7.4405×10-4[sec]に対して増減一
桁の変化を与えた場合におけるz軸並進運動時の偏差信
号eM ,eR ,eL の電圧である。時定数Tの一桁増の
設定に対しても、加速度フィ−ドバック無しの場合に比
較して振動の整定性は良好である。従って、フィルタ時
定数の設定が性能に及ぼす影響は深刻でないことが分か
る。当然のことであるが、時定数を高域に設定すると制
御系の安定性および性能にとっては安全サイドになる。
力制限の問題を考察する。加速度フィ−ドバックル−プ
は、加速度が生じたときのみ動作するので、定常特性に
は無関係である。つまり、数3式から明らかなように直
流項に変化はないので、加速度フィ−ドバックの新たな
付加によって飽和などの入力制限に引っかかることはな
いと考えられる。確認のための数値実験を図12に示
す。同図は加速度フィ−ドバックのゲインを増加したと
きの電力増幅器8M,8R,8Lの入力電圧変化を示す
グラフである。ただし、z軸方向に5[μm]相当のス
テップ状並進運動を与えた場合について、左側から順番
に電力増幅器8M,8R,8Lへの入力電圧の時間的変
化を示している。同図から明らかなように、加速度フィ
−ドバックの投入により電力増幅器8M,8R,8Lに
対して過大な駆動入力を招くという事態は発生しない。
すなわち、入力制限の問題は生じない。
の現実性について考察する。数値実験で示したように、
本制御系では微小加速度のコントロ−ルを行うため高感
度のセンサを必要とする。また、そのセンサは微動位置
決め機構として基板1に装着するので小型であらねばな
らない。もし、そのようなセンサが世の中になければ微
動位置決め装置に対する加速度フィ−ドバックの付加は
実現性を欠いた単なる数値実験の範囲に留まる。しか
し、シリコンマイクロマシニング技術によるピエゾ抵抗
タイプやセラミック系のバイモルフビ−ムを使用した加
速度センサなどは小型かつ高感度である。例えば、後者
の加速度センサの仕様は感度1000[mV/g]、分
解能0.0005[gpK]、周波数応答1〜2000
[Hz]、直径16[mm]×高さ13[mm]であ
り、微動位置決め機構に対する加速度フィ−ドバックの
実現において十分な性能を有する。
速度フィ−ドバック付加による入力制限問題、および加
速度センサの仕様について考察したが、いずれも本発明
の加速度フィ−ドバックの実現を妨げないことが判明し
た。
エ−タを備えて並進1自由度と回転2自由度の合計3自
由度を制御する微動位置決め機構に対する加速度フィ−
ドバックの効果を示した。しかし、本発明はこのような
3自由度の微動位置決め機構に限定されるものではな
く、例えばより自由度の多い6自由度の微動位置決め機
構に適用されても構わない。
M,9R,9Lを位置センサ3M,3R,3Lと同一位
置に配置している。しかし、アクチュエ−タ駆動点と同
位置にセンサを配置した状態はいわゆるコロケ−ション
と称され制御性が良いことは周知である。従って、もち
ろん加速度センサ9M,9R,9Lをアクチュエ−タ2
M,2R,2Lの駆動点と同一位置に配置することも可
能である。有限な物理寸法を持ち、且つ非接触での位置
計測をする場合、位置センサ3M,3R,3Lをアクチ
ュエ−タ2M,2R,2Lと同一位置に配置することは
困難である。しかし、加速度センサ9M,9R,9Lに
ついては、駆動点の位置に貼り付けておけばよいので、
コロケ−ションの条件を実現することは容易である。
め機構には、図6(a)の加速度フィ−ドバックを各軸
に適用しているが、もちろん、図2に示すように図6
(b)の加速度フィ−ドバックを3自由度の微動位置決
め機構に適用することも本発明の範囲に属する。図2で
は、電流出力タイプの電力増幅器8M,8R,8Lの前
段に適切な時定数を有する1次のロ−パスフィルタ12
M,12R,12Lが挿入されている。そして、加速度
センサ9M,9R,9Lの出力は、まず加速度検出器1
0M,10R,10Lによって電気信号に変換され、次
に適切な増幅度を有する増幅器13M,13R,13L
を通ってロ−パスフィルタ12M,12R,12Lの前
段に負帰還されている。
エゾ等を使った微動位置決め機構におけるダンピング不
足を加速度フィ−ドバックによって補うことができる。
したがって、位置決め動作を安定に成し得るという効果
がある。また、加速度フィ−ドバックによって、機構が
安定化されるので、位置の閉ル−プにおいて、そのル−
プゲインを加速度フィ−ドバック無しの場合と比較して
大きくすることできる、という効果がある。すなわち、
加速度フィ−ドバック無しの場合に比較して、外乱に強
く、位置決めの早い位置決め装置を提供することができ
る。
ク付き微動位置決め装置の構成を示すブロック図であ
る。
ック付き微動位置決め装置の構成を示すブロック図であ
る。
構成を示すブロック図である。
る。
を表現するブロック図である。
−ドバックを示すブロック図である。
置の閉ル−プ系を構成した場合を示すブロック図であ
る。
グラフである。
有無によるステップ応答の差異を示すグラフである。
順次増加したときのステップ応答の変化を示すグラフで
ある。
定数を変化させた場合におけるz軸並進運動時の偏差信
号の変化を示すグラフである。
のゲインを増加したときの電力増幅器への入力電圧変化
を示すグラフである。
エ−タ、3M,3R,3L:位置センサ、4M,4R,
4L:変位増幅器、5M,5R,5L:指令電圧入力端
子、eM ,eR ,eL :偏差信号、6M,6R,6L:
前置増幅器、7M,7R,7L:プログラマブルゲイン
要素、8M,8R,8L:電力増幅器、9M,9R,9
L:加速度センサ、10M,10R,10L:加速度検
出器、11M,11R,11L:ロ−パスフィルタ、1
2M,12R,12L:ロ−パスフィルタ、13M,1
3R,13L:増幅器。
Claims (2)
- 【請求項1】 並進1自由度と回転2自由度の位置決め
がなされる平板状の基板と、 この位置決めのためにほぼ同心円上に配置され前記基板
を駆動する3個のアクチュエ−タと、 前記アクチュエ−タ近傍において前記基板の変位を計測
する3個の位置センサと、 前置増幅器、プログラマブルゲイン要素、および電流出
力タイプの電力増幅器を備え、前記位置センサの各出力
を外部からの指令電圧と比較して偏差信号を取得し、こ
の偏差信号に基づき、前記前置増幅器およびプログラマ
ブルゲイン要素を介して前記電力増幅器を励磁し、その
出力電流により前記アクチュエ−タを駆動するフィ−ド
バック装置とを備えた微動位置決め装置において、 前記各アクチュエ−タの近傍で前記基板の加速度を検出
する加速度センサと、 この加速度センサの出力を電気信号に変換する加速度検
出器と、 適切な時定数とゲインを有するロ−パスフィルタを備
え、これを介して前記加速度検出器の出力を前記電力増
幅器の入力側に負帰還させる加速度フィ−ドバック回路
とを具備することを特徴とする加速度フィ−ドバック付
き微動位置決め装置。 - 【請求項2】 並進1自由度と回転2自由度の位置決め
がなされる平板状の基板と、 この位置決めのためにほぼ同心円上に配置され前記基板
を駆動する3個のアクチュエ−タと、 前記アクチュエ−タ近傍において前記基板の変位を計測
する3個の位置センサと、 前置増幅器、プログラマブルゲイン要素、適切な時定数
を有するローパスフィルタ、および電流出力タイプの電
力増幅器を備え、前記位置センサの各出力を外部からの
指令電圧と比較して偏差信号を取得し、この偏差信号に
基づき、前記前置増幅器、プログラマブルゲイン要素、
およびローパスフィルタを介して前記電力増幅器を励磁
し、その出力電流により前記アクチュエ−タを駆動する
フィ−ドバック装置とを備えた微動位置決め装置におい
て、 前記各アクチュエ−タの近傍で前記基板の加速度を検出
する加速度センサと、 この加速度センサの出力を電気信号に変換する加速度検
出器と、 適切なゲインを有する増幅器を備え、これを介して前記
加速度検出器の出力を前記ローパスフィルタの入力側に
負帰還させる加速度フィ−ドバック回路とを具備するこ
とを特徴とする加速度フィ−ドバック付き微動位置決め
装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32148492A JP2821837B2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 加速度フィードバック付き微動位置決め装置 |
US08/312,932 US5545962A (en) | 1992-08-18 | 1994-09-30 | Positioning system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32148492A JP2821837B2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 加速度フィードバック付き微動位置決め装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06151272A true JPH06151272A (ja) | 1994-05-31 |
JP2821837B2 JP2821837B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=18133083
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32148492A Expired - Fee Related JP2821837B2 (ja) | 1992-08-18 | 1992-11-06 | 加速度フィードバック付き微動位置決め装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2821837B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006339263A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Z軸調整機構及び微動ステージ装置 |
KR100699241B1 (ko) * | 1999-09-20 | 2007-03-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 패럴렐 링크기구, 노광장치 및 그의 제조방법, 그리고디바이스 제조방법 |
JP2009217329A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 作動装置 |
JP2016173044A (ja) * | 2015-03-17 | 2016-09-29 | 三菱重工業株式会社 | 風力発電設備及び風力発電設備の制御方法 |
JP2020012755A (ja) * | 2018-07-19 | 2020-01-23 | 日本製鉄株式会社 | 鋳片撮影装置、鋳片撮影方法及びプログラム |
-
1992
- 1992-11-06 JP JP32148492A patent/JP2821837B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100699241B1 (ko) * | 1999-09-20 | 2007-03-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 패럴렐 링크기구, 노광장치 및 그의 제조방법, 그리고디바이스 제조방법 |
JP2006339263A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Z軸調整機構及び微動ステージ装置 |
JP4489639B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2010-06-23 | 住友重機械工業株式会社 | Z軸調整機構及び微動ステージ装置 |
JP2009217329A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 作動装置 |
US8154226B2 (en) | 2008-03-07 | 2012-04-10 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Operating apparatus |
JP2016173044A (ja) * | 2015-03-17 | 2016-09-29 | 三菱重工業株式会社 | 風力発電設備及び風力発電設備の制御方法 |
JP2020012755A (ja) * | 2018-07-19 | 2020-01-23 | 日本製鉄株式会社 | 鋳片撮影装置、鋳片撮影方法及びプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2821837B2 (ja) | 1998-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3184044B2 (ja) | 微動位置決め制御装置 | |
JP3491204B2 (ja) | 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置 | |
US4843293A (en) | Apparatus for controlling servo system employing piezo-electric actuator | |
JP2000274482A (ja) | 能動的除振装置、露光装置及び方法並びにデバイス製造方法 | |
KR20110086031A (ko) | 포지셔닝 시스템 및 방법 | |
US5545962A (en) | Positioning system | |
JP2821837B2 (ja) | 加速度フィードバック付き微動位置決め装置 | |
JPH0335055B2 (ja) | ||
JP2687242B2 (ja) | サーボ加速度計 | |
JPH0627137A (ja) | 加速度センサ | |
JPH02186284A (ja) | 磁束密度を検出するために磁界中で使用する磁束センサ | |
JP4370113B2 (ja) | 可動ミラー装置および光ファイバ装置 | |
JP4488471B2 (ja) | サーボ型振動検出器 | |
JPH08241848A (ja) | ステージ位置決め制御装置 | |
JP3276533B2 (ja) | 力フィードバック付き微動位置決め装置 | |
JPH07319548A (ja) | 微動位置決め制御装置 | |
JP2821835B2 (ja) | 微動位置決め装置 | |
JP2878777B2 (ja) | 空気ばね式除振台のレベル維持並びに微小振動の除振方法とその回路 | |
JPH11148815A (ja) | サーボ型変位センサ | |
JPH04244628A (ja) | 空気ばねの制御装置 | |
JP3279880B2 (ja) | 微動位置決め制御装置 | |
JP3281227B2 (ja) | 微動位置決め制御装置 | |
JP4325006B2 (ja) | レンズ駆動装置 | |
JPH1144337A (ja) | 空気ばね式能動的除振装置 | |
JPH08201402A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡の位置制御システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080904 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090904 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090904 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100904 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100904 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110904 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110904 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120904 Year of fee payment: 14 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |