JPH06145107A - β−ケトカルボン酸エステルの製造法 - Google Patents
β−ケトカルボン酸エステルの製造法Info
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- JPH06145107A JPH06145107A JP4298518A JP29851892A JPH06145107A JP H06145107 A JPH06145107 A JP H06145107A JP 4298518 A JP4298518 A JP 4298518A JP 29851892 A JP29851892 A JP 29851892A JP H06145107 A JPH06145107 A JP H06145107A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 医薬品、農薬などの合成中間体、とりわけＨ
ＭＧ−ＣoＡ還元酵素阻害剤中間体の製造に有用なβ−
ケトカルボン酸エステルを、経済的、且つ操作性良く製
造する実用的な方法を提供する。 【構成】 一般式Ｉの酸ハロゲン化物と、一般式IIのマ
ロン酸モノエステルまたはマロン酸モノエステルの金属
塩とを、金属ハロゲン化物もしくは金属アルコキシドお
よび／または塩基と、イミダゾールまたはイミダゾール
誘導体との存在下に反応させる、一般式IVのβ−ケトカ
ルボン酸エステルの製造法。 Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (I) 〔Ｒ1は置換されても良いアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基またはアルケニル基、ＸはＣlまたはＢrを表
す。〕 Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ(II) 〔Ｒ2はアルキル基、アリール基、アラルキル基または
アルケニル基を表す。〕 Ｒ1−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ2(IV) 〔Ｒ1、Ｒ2は前記と同じである。〕
ＭＧ−ＣoＡ還元酵素阻害剤中間体の製造に有用なβ−
ケトカルボン酸エステルを、経済的、且つ操作性良く製
造する実用的な方法を提供する。 【構成】 一般式Ｉの酸ハロゲン化物と、一般式IIのマ
ロン酸モノエステルまたはマロン酸モノエステルの金属
塩とを、金属ハロゲン化物もしくは金属アルコキシドお
よび／または塩基と、イミダゾールまたはイミダゾール
誘導体との存在下に反応させる、一般式IVのβ−ケトカ
ルボン酸エステルの製造法。 Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (I) 〔Ｒ1は置換されても良いアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基またはアルケニル基、ＸはＣlまたはＢrを表
す。〕 Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ(II) 〔Ｒ2はアルキル基、アリール基、アラルキル基または
アルケニル基を表す。〕 Ｒ1−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ2(IV) 〔Ｒ1、Ｒ2は前記と同じである。〕
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、β−ケトカルボン酸エ
ステルの新規製造法に関する。本発明の新規方法は、医
薬品、農薬などの合成中間体、とりわけＨＭＧ−ＣoＡ
還元酵素阻害剤中間体の製造に有用である。
ステルの新規製造法に関する。本発明の新規方法は、医
薬品、農薬などの合成中間体、とりわけＨＭＧ−ＣoＡ
還元酵素阻害剤中間体の製造に有用である。
【０００２】
【従来の技術】従来、本発明で目的とするβ−ケトカル
ボン酸エステルの一般的合成法としては、 (１)酸クロリドとマロン酸モノエステルジアニオンを超
低温で反応させる方法[ジャーナル・オブ・オーガニッ
ク・ケミストリー(Ｊ．Ｏrg．Ｃhem．)、４４、３１０
(１９７９)；ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミ
カル・ソサエティ(Ｊ．Ａm．Ｃhem．Ｓoc．)、８１、２
９０７(１９５９)] (２)酸クロリドあるいは酸無水物とメルドラム酸とを反
応させた後、加アルコール分解する方法[ジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリー、４３、２０８７
(１９７８)；シンセシス(Ｓynthesis)、６、４５１(１
９８２)] (３)カルボン酸よりＮ,Ｎ−カルボニルジイミダゾール
を用いてイミダゾリドを調製後、マロン酸モノエステル
のマグネシウム塩と反応させる方法[アンゲヴェンテ・
ヒェミー・インターナショナル・エディション・イン・
イングリッシュ(Ａngew．Ｃhem．Ｉnt．Ｅd．Ｅng
l．)、１８、７２(１９７９)] (４)カルボン酸よりＮ,Ｎ−チオニルジイミダゾールを
用いてイミダゾリドを調製後、マロン酸モノエステルの
マグネシウムエノラートと反応させる方法[ジャーナル
・オブ・ケミカル・ソサエティ・パーキン・トランザク
ションズ(Ｊ．Ｃhem．Ｓoc．Ｐerkin Ｔrans．)Ｉ、４
０４(１９７６)] (５)活性エステルやアミドと酢酸エステルのリチウムエ
ノラートとを反応させる方法[ジャーナル・オブ・オー
ガニック・ケミストリー、５４、４２２９(１９８９)；
テトラヘドロン・レターズ(Ｔetrahedron Ｌett．)、
２９、２６６１(１９８８)]など多数が知られている。
ボン酸エステルの一般的合成法としては、 (１)酸クロリドとマロン酸モノエステルジアニオンを超
低温で反応させる方法[ジャーナル・オブ・オーガニッ
ク・ケミストリー(Ｊ．Ｏrg．Ｃhem．)、４４、３１０
(１９７９)；ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミ
カル・ソサエティ(Ｊ．Ａm．Ｃhem．Ｓoc．)、８１、２
９０７(１９５９)] (２)酸クロリドあるいは酸無水物とメルドラム酸とを反
応させた後、加アルコール分解する方法[ジャーナル・
オブ・オーガニック・ケミストリー、４３、２０８７
(１９７８)；シンセシス(Ｓynthesis)、６、４５１(１
９８２)] (３)カルボン酸よりＮ,Ｎ−カルボニルジイミダゾール
を用いてイミダゾリドを調製後、マロン酸モノエステル
のマグネシウム塩と反応させる方法[アンゲヴェンテ・
ヒェミー・インターナショナル・エディション・イン・
イングリッシュ(Ａngew．Ｃhem．Ｉnt．Ｅd．Ｅng
l．)、１８、７２(１９７９)] (４)カルボン酸よりＮ,Ｎ−チオニルジイミダゾールを
用いてイミダゾリドを調製後、マロン酸モノエステルの
マグネシウムエノラートと反応させる方法[ジャーナル
・オブ・ケミカル・ソサエティ・パーキン・トランザク
ションズ(Ｊ．Ｃhem．Ｓoc．Ｐerkin Ｔrans．)Ｉ、４
０４(１９７６)] (５)活性エステルやアミドと酢酸エステルのリチウムエ
ノラートとを反応させる方法[ジャーナル・オブ・オー
ガニック・ケミストリー、５４、４２２９(１９８９)；
テトラヘドロン・レターズ(Ｔetrahedron Ｌett．)、
２９、２６６１(１９８８)]など多数が知られている。
【０００３】また、ＨＭＧ−ＣoＡ還元酵素阻害剤中間
体として有用な２−ヒドロキシ−４−オキソアジピン酸
誘導体の製造法としては、上記(３)の方法を利用した方
法(特開平４−６９３５５号公報)が、６−シアノ−５−
ヒドロキシ−３−オキソヘキサン酸誘導体の製造法とし
ては、上記(３)の方法の類似法を利用した方法[テトラ
ヘドロン・レターズ、３３、２２７９(１９９２)]が知
られている。
体として有用な２−ヒドロキシ−４−オキソアジピン酸
誘導体の製造法としては、上記(３)の方法を利用した方
法(特開平４−６９３５５号公報)が、６−シアノ−５−
ヒドロキシ−３−オキソヘキサン酸誘導体の製造法とし
ては、上記(３)の方法の類似法を利用した方法[テトラ
ヘドロン・レターズ、３３、２２７９(１９９２)]が知
られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
は、いずれも超低温を必要としたり、多工程を有した
り、用いる試剤が高価であったり、反応濃度が非常に低
いなどの問題点があり、β−ケトカルボン酸エステルの
工業的製法として必ずしも適しているとは言えず、カル
ボン酸誘導体を経済的、且つ操作性良く、β−ケトカル
ボン酸エステルに変換する実用的な方法が望まれてい
た。
は、いずれも超低温を必要としたり、多工程を有した
り、用いる試剤が高価であったり、反応濃度が非常に低
いなどの問題点があり、β−ケトカルボン酸エステルの
工業的製法として必ずしも適しているとは言えず、カル
ボン酸誘導体を経済的、且つ操作性良く、β−ケトカル
ボン酸エステルに変換する実用的な方法が望まれてい
た。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、比較的安
価でかつ入手容易な原料を用いて、各種酸ハロゲン化物
から対応するβ−ケトカルボン酸エステルを、短工程、
好収率かつ生産性良く製造する新規な方法を見出した。
価でかつ入手容易な原料を用いて、各種酸ハロゲン化物
から対応するβ−ケトカルボン酸エステルを、短工程、
好収率かつ生産性良く製造する新規な方法を見出した。
【０００６】すなわち、本発明は、酸ハロゲン化物と、
マロン酸モノエステルまたはマロン酸モノエステルの金
属塩とを、金属ハロゲン化物もしくは金属アルコキシド
および／または塩基と、イミダゾールまたはイミダゾー
ル誘導体との存在下に反応させる事を特徴とするβ−ケ
トカルボン酸エステルの製造法に関する。この方法は、
医薬品、農薬などの合成中間体、とりわけＨＭＧ−Ｃo
Ａ還元酵素阻害剤中間体の製造に有用である。
マロン酸モノエステルまたはマロン酸モノエステルの金
属塩とを、金属ハロゲン化物もしくは金属アルコキシド
および／または塩基と、イミダゾールまたはイミダゾー
ル誘導体との存在下に反応させる事を特徴とするβ−ケ
トカルボン酸エステルの製造法に関する。この方法は、
医薬品、農薬などの合成中間体、とりわけＨＭＧ−Ｃo
Ａ還元酵素阻害剤中間体の製造に有用である。
【０００７】本発明の方法においては、一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1は置換されていても良いアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基またはアルケニル基、ＸはＣlまた
はＢrを表す。]で表される酸ハロゲン化物と、一般式
(ＩＩ) Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ (ＩＩ) [式中、Ｒ2はアルキル基、アリール基、アラルキル基ま
たはアルケニル基を表す。]で表されるマロン酸モノエ
ステルとを、一般式(ＩＩＩ) ＭＹn (ＩＩＩ) [式中、Ｍは金属原子、Ｙはハロゲン原子、nは１〜４の
整数を表す。]で表される金属ハロゲン化物、並びにイ
ミダゾールまたはイミダゾール誘導体、および塩基の存
在下に反応させるか；または一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1、Ｘは前記と同じである。]で表される酸ハ
ロゲン化物と、一般式(Ｖ) (Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯ)nＭ (Ｖ) [式中、Ｒ2、Ｍ、nは前記と同じである。]で表されるマ
ロン酸モノエステルの金属塩とを、イミダゾールまたは
イミダゾール誘導体、および塩基の存在下に反応させる
か；または一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1、Ｘは前記と同じである。]で表される酸ハ
ロゲン化物と、一般式(ＩＩ) Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ (ＩＩ) [式中、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるマロン酸
モノエステル、または一般式(Ｖ) (Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯ)nＭ (Ｖ) [式中、Ｒ2、Ｍ、nは前記と同じである。]で表されるマ
ロン酸モノエステルの金属塩とを、一般式(ＶＩ) Ｍ(ＯＲ3)n (ＶＩ) [式中、Ｒ3は炭素数１〜４の直鎖または分枝のアルキル
基を表し、Ｍ、nは前記と同じである。]で表される金属
アルコキシド、およびイミダゾールまたはイミダゾール
誘導体の存在下に反応させる事によって、一般式(ＩＶ) Ｒ1−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ2 (ＩＶ) [式中、Ｒ1、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるβ−
ケトカルボン酸エステルを得る。
ル基、アラルキル基またはアルケニル基、ＸはＣlまた
はＢrを表す。]で表される酸ハロゲン化物と、一般式
(ＩＩ) Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ (ＩＩ) [式中、Ｒ2はアルキル基、アリール基、アラルキル基ま
たはアルケニル基を表す。]で表されるマロン酸モノエ
ステルとを、一般式(ＩＩＩ) ＭＹn (ＩＩＩ) [式中、Ｍは金属原子、Ｙはハロゲン原子、nは１〜４の
整数を表す。]で表される金属ハロゲン化物、並びにイ
ミダゾールまたはイミダゾール誘導体、および塩基の存
在下に反応させるか；または一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1、Ｘは前記と同じである。]で表される酸ハ
ロゲン化物と、一般式(Ｖ) (Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯ)nＭ (Ｖ) [式中、Ｒ2、Ｍ、nは前記と同じである。]で表されるマ
ロン酸モノエステルの金属塩とを、イミダゾールまたは
イミダゾール誘導体、および塩基の存在下に反応させる
か；または一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1、Ｘは前記と同じである。]で表される酸ハ
ロゲン化物と、一般式(ＩＩ) Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ (ＩＩ) [式中、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるマロン酸
モノエステル、または一般式(Ｖ) (Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯ)nＭ (Ｖ) [式中、Ｒ2、Ｍ、nは前記と同じである。]で表されるマ
ロン酸モノエステルの金属塩とを、一般式(ＶＩ) Ｍ(ＯＲ3)n (ＶＩ) [式中、Ｒ3は炭素数１〜４の直鎖または分枝のアルキル
基を表し、Ｍ、nは前記と同じである。]で表される金属
アルコキシド、およびイミダゾールまたはイミダゾール
誘導体の存在下に反応させる事によって、一般式(ＩＶ) Ｒ1−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ2 (ＩＶ) [式中、Ｒ1、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるβ−
ケトカルボン酸エステルを得る。
【０００８】Ｒ1としては、アルキル基(例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、シクロヘキシル、オクチル
基など)；アリール基(例えば、フェニル基、トリル基な
ど)；アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基
など)；アルケニル基(例えば、２−プロペニル基、５−
ヘキセニル基など)が例としてあげられる。また、エス
テル基、エーテル基、ニトロ基、ケト基、シアノ基、ハ
ロゲンなどの官能基で一部を置換されたアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルケニル基[例えば、２−
カーボメトキシエチル基、２−メトキシエチル基、(２,
２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソラン−４
−イル)メチル基、３−シアノ−２−t−ブチルジメチル
シリルオキシプロピル基、３,４−ジメトキシフェニル
基、４−クロロベンジル基など]も上記のＲ1の例として
あげられる。
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、シクロヘキシル、オクチル
基など)；アリール基(例えば、フェニル基、トリル基な
ど)；アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基
など)；アルケニル基(例えば、２−プロペニル基、５−
ヘキセニル基など)が例としてあげられる。また、エス
テル基、エーテル基、ニトロ基、ケト基、シアノ基、ハ
ロゲンなどの官能基で一部を置換されたアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルケニル基[例えば、２−
カーボメトキシエチル基、２−メトキシエチル基、(２,
２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソラン−４
−イル)メチル基、３−シアノ−２−t−ブチルジメチル
シリルオキシプロピル基、３,４−ジメトキシフェニル
基、４−クロロベンジル基など]も上記のＲ1の例として
あげられる。
【０００９】Ｒ2としては、アルキル基(例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、シクロヘキシル、オクチル
基など)；アリール基(例えば、フェニル基、トリル基な
ど)；アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基、p−ニトロベンジル基など)；アルケニル基(例え
ば、２−プロペニル基、２−ブテニル基など)が例とし
てあげられる。
ル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、シクロヘキシル、オクチル
基など)；アリール基(例えば、フェニル基、トリル基な
ど)；アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基、p−ニトロベンジル基など)；アルケニル基(例え
ば、２−プロペニル基、２−ブテニル基など)が例とし
てあげられる。
【００１０】本発明に使用する酸ハロゲン化物(Ｉ)は、
広く一般に知られている方法を用いて対応するカルボン
酸より合成する事ができる。例えば、塩化チオニルある
いは臭化チオニルを用いる方法、トリフェニルホスフィ
ンと四塩化炭素あるいは四臭化炭素を用いる方法などを
あげる事ができる。
広く一般に知られている方法を用いて対応するカルボン
酸より合成する事ができる。例えば、塩化チオニルある
いは臭化チオニルを用いる方法、トリフェニルホスフィ
ンと四塩化炭素あるいは四臭化炭素を用いる方法などを
あげる事ができる。
【００１１】マロン酸モノエステル(ＩＩ)は、特開平４
−１１２８５４号に記載の方法によりマロン酸より容易
に製造できる。また、マロン酸ジエステルの部分的加水
分解[オーガニック・シンセシス・コレクティブ・ボリ
ューム(Ｏrg．Ｓynth．Ｃoll．Ｖoll．)ＩＶ、４１７
(１９６３)]によっても製造できる。また、マロン酸モ
ノエステルの金属塩(Ｖ)における金属Ｍとしては、Ｍ
g、Ｃa、Ａl等が使えるが、調製の容易さ、反応性の面
でＭgが好ましい。調製は例えば、上記の様にして合成
されたマロン酸モノエステル２モル当量と、例えばマグ
ネシウムエトキシドのような金属アルコキシド１モル当
量とを、例えばテトラヒドロフランや酢酸エチルのよう
な有機溶媒中で反応させた後、濃縮乾固あるいは晶析す
る事により製造できる。マグネシウム塩が好ましい。
−１１２８５４号に記載の方法によりマロン酸より容易
に製造できる。また、マロン酸ジエステルの部分的加水
分解[オーガニック・シンセシス・コレクティブ・ボリ
ューム(Ｏrg．Ｓynth．Ｃoll．Ｖoll．)ＩＶ、４１７
(１９６３)]によっても製造できる。また、マロン酸モ
ノエステルの金属塩(Ｖ)における金属Ｍとしては、Ｍ
g、Ｃa、Ａl等が使えるが、調製の容易さ、反応性の面
でＭgが好ましい。調製は例えば、上記の様にして合成
されたマロン酸モノエステル２モル当量と、例えばマグ
ネシウムエトキシドのような金属アルコキシド１モル当
量とを、例えばテトラヒドロフランや酢酸エチルのよう
な有機溶媒中で反応させた後、濃縮乾固あるいは晶析す
る事により製造できる。マグネシウム塩が好ましい。
【００１２】一般式(ＩＩＩ)で表される金属ハロゲン化
物としては、ＭgＣl2、ＣaＣl2、ＦeＣl2、ＡlＣl3等が
あげられるが、ＭgＣl2が反応性、経済性の点から好ま
しい。
物としては、ＭgＣl2、ＣaＣl2、ＦeＣl2、ＡlＣl3等が
あげられるが、ＭgＣl2が反応性、経済性の点から好ま
しい。
【００１３】一般式(ＶＩ)で表される金属アルコキシド
のＲ3は、炭素数１〜４の直鎖または分枝のアルキル基
(すなわち、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル基)で
ある。なかでもエチル基が好ましい。一般式(ＶＩ)中、
ＭはＭg、Ｃa、Ａl、Ｆe等があげられるが、Ｍgが好ま
しく、その場合n＝２であり、(ＶＩ)の最も好ましい例
としてマグネシウムエトキシドがあげられる。
のＲ3は、炭素数１〜４の直鎖または分枝のアルキル基
(すなわち、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル基)で
ある。なかでもエチル基が好ましい。一般式(ＶＩ)中、
ＭはＭg、Ｃa、Ａl、Ｆe等があげられるが、Ｍgが好ま
しく、その場合n＝２であり、(ＶＩ)の最も好ましい例
としてマグネシウムエトキシドがあげられる。
【００１４】イミダゾール誘導体としては、イミダゾー
ル環の炭素原子にアルキル基(例えばメチル、エチル、
プロピル基など)１〜３個が置換したものがあげられる
が、不置換のイミダゾールを使用することが好ましい。
塩基は、例えば３級アミン、好ましくはトリエチルアミ
ンである。
ル環の炭素原子にアルキル基(例えばメチル、エチル、
プロピル基など)１〜３個が置換したものがあげられる
が、不置換のイミダゾールを使用することが好ましい。
塩基は、例えば３級アミン、好ましくはトリエチルアミ
ンである。
【００１５】本発明の金属ハロゲン化物を使用する態様
においては、酸ハロゲン化物に対して、マロン酸モノエ
ステル１〜１.５モル当量、金属ハロゲン化物０.３〜
１.５モル当量、好ましくは０.５〜１モル当量、イミダ
ゾール１〜３モル当量、好ましくは１〜２モル当量、ト
リエチルアミン２〜４モル当量を用いる。この場合、ト
リエチルアミンを酸ハロゲン化物とマロン酸モノエステ
ルの合計モル数以上用いる事が、反応を円滑に進行させ
るうえで好ましい。
においては、酸ハロゲン化物に対して、マロン酸モノエ
ステル１〜１.５モル当量、金属ハロゲン化物０.３〜
１.５モル当量、好ましくは０.５〜１モル当量、イミダ
ゾール１〜３モル当量、好ましくは１〜２モル当量、ト
リエチルアミン２〜４モル当量を用いる。この場合、ト
リエチルアミンを酸ハロゲン化物とマロン酸モノエステ
ルの合計モル数以上用いる事が、反応を円滑に進行させ
るうえで好ましい。
【００１６】マロン酸モノエステルの金属塩を用いる態
様においては、酸ハロゲン化物に対して、マロン酸モノ
エステル金属塩０.５〜１モル当量、イミダゾール１〜
３モル当量、トリエチルアミン１〜１.５モル当量を用
いる。
様においては、酸ハロゲン化物に対して、マロン酸モノ
エステル金属塩０.５〜１モル当量、イミダゾール１〜
３モル当量、トリエチルアミン１〜１.５モル当量を用
いる。
【００１７】金属アルコキシドを用いる態様において
は、酸ハロゲン化物に対して、マロン酸モノエステル１
〜１.５モル当量、金属アルコキシド１〜１.５モル当
量、イミダゾール２〜３.５モル当量を用いるか、また
はマロン酸モノエステル金属塩０.５〜１モル当量、金
属アルコキシド０.５〜１モル当量、イミダゾール１〜
３モル当量を用いる。マロン酸モノエステルを用いる場
合、金属アルコキシドはマロン酸モノエステルと酸ハロ
ゲン化物のモル数の和の半分よりも過剰に用いる事が、
反応を円滑に進行させるうえで好ましい。
は、酸ハロゲン化物に対して、マロン酸モノエステル１
〜１.５モル当量、金属アルコキシド１〜１.５モル当
量、イミダゾール２〜３.５モル当量を用いるか、また
はマロン酸モノエステル金属塩０.５〜１モル当量、金
属アルコキシド０.５〜１モル当量、イミダゾール１〜
３モル当量を用いる。マロン酸モノエステルを用いる場
合、金属アルコキシドはマロン酸モノエステルと酸ハロ
ゲン化物のモル数の和の半分よりも過剰に用いる事が、
反応を円滑に進行させるうえで好ましい。
【００１８】ＨＭＧ−ＣoＡ還元酵素阻害剤中間体とし
て有用な一般式(ＩＶ)のβ−ケトカルボン酸エステルを
製造するには、Ｒ1が、一般式(ＶＩＩ) Ｒ4Ｏ−Ｚ−ＣＨ(ＯＲ5)−ＣＨ2− (ＶＩＩ) [式中、Ｚは−ＣＨ2−または−ＣＯ−を表し、Ｒ4はア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基ま
たはシリル基もしくは置換シリル基を表し、Ｒ5は水酸
基の保護基を表すか、あるいはＲ4とＲ5は共同で環を形
成している。]で表される基であるか、または一般式(Ｖ
ＩＩＩ) ＮＣ−ＣＨ2−ＣＨ(ＯＲ6)−ＣＨ2− (ＶＩＩＩ) [式中、Ｒ6は水酸基の保護基を表す。]で表される基で
ある一般式(Ｉ)の酸ハロゲン化物を使用する。
て有用な一般式(ＩＶ)のβ−ケトカルボン酸エステルを
製造するには、Ｒ1が、一般式(ＶＩＩ) Ｒ4Ｏ−Ｚ−ＣＨ(ＯＲ5)−ＣＨ2− (ＶＩＩ) [式中、Ｚは−ＣＨ2−または−ＣＯ−を表し、Ｒ4はア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基ま
たはシリル基もしくは置換シリル基を表し、Ｒ5は水酸
基の保護基を表すか、あるいはＲ4とＲ5は共同で環を形
成している。]で表される基であるか、または一般式(Ｖ
ＩＩＩ) ＮＣ−ＣＨ2−ＣＨ(ＯＲ6)−ＣＨ2− (ＶＩＩＩ) [式中、Ｒ6は水酸基の保護基を表す。]で表される基で
ある一般式(Ｉ)の酸ハロゲン化物を使用する。
【００１９】一般式(ＶＩＩ)のＲ4としては、アルキル
基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソ
ブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、シクロヘキ
シル、オクチル基など)；アリール基(例えば、フェニル
基、トリル基など)；アラルキル基(例えば、ベンジル
基、フェネチル基、p−ニトロベンジル基など)；アルケ
ニル基(例えば、２−プロペニル基、２−ブテニル基な
ど)；シリル基または置換シリル基(例えば、トリエチル
シリル、トリイソプロピルシリル、t−ブチルジメチル
シリル、イソブチルジメチルシリル、テキシルジメチル
シリル、t−ブチルジフェニルシリル基など)が例として
あげられる。
基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソ
ブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、シクロヘキ
シル、オクチル基など)；アリール基(例えば、フェニル
基、トリル基など)；アラルキル基(例えば、ベンジル
基、フェネチル基、p−ニトロベンジル基など)；アルケ
ニル基(例えば、２−プロペニル基、２−ブテニル基な
ど)；シリル基または置換シリル基(例えば、トリエチル
シリル、トリイソプロピルシリル、t−ブチルジメチル
シリル、イソブチルジメチルシリル、テキシルジメチル
シリル、t−ブチルジフェニルシリル基など)が例として
あげられる。
【００２０】一般式(ＶＩＩ)および(ＶＩＩＩ)のＲ5お
よびＲ6としては水酸基の保護基、例えばアセチル基や
ベンゾイル基のようなエステル型保護基、ベンジル基や
p−ニトロベンジル基のようなエーテル型保護基、トリ
チル基のような(置換)アルキル基、トリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、t−ブチ
ルジメチルシリル、イソブチルジメチルシリル、テキシ
ルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル基のよ
うなシリル型保護基、t−ブトキシカルボニル基、ベン
ジルオキシカルボニル基のような炭酸エステル型保護基
などがあげられる。
よびＲ6としては水酸基の保護基、例えばアセチル基や
ベンゾイル基のようなエステル型保護基、ベンジル基や
p−ニトロベンジル基のようなエーテル型保護基、トリ
チル基のような(置換)アルキル基、トリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、t−ブチ
ルジメチルシリル、イソブチルジメチルシリル、テキシ
ルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル基のよ
うなシリル型保護基、t−ブトキシカルボニル基、ベン
ジルオキシカルボニル基のような炭酸エステル型保護基
などがあげられる。
【００２１】Ｒ4およびＲ5は共同して環を形成していて
もよく、その例としては、(Ｒ4,Ｒ5)がイソプロピリデ
ン、メチレン、エチリデン、s−ブチリデン、１,３−ジ
メチルブチリデン、ジフェニルメチレン、１−フェニル
エチリデン、シリルヘキシリデン、２,２,２−トリクロ
ロエチリデンのようなアセタール型保護基や、１−メト
キシ−１−エチリデン、α−メトキシベンジリデンのよ
うなオルトエステル型保護基の場合などをあげることが
できる。
もよく、その例としては、(Ｒ4,Ｒ5)がイソプロピリデ
ン、メチレン、エチリデン、s−ブチリデン、１,３−ジ
メチルブチリデン、ジフェニルメチレン、１−フェニル
エチリデン、シリルヘキシリデン、２,２,２−トリクロ
ロエチリデンのようなアセタール型保護基や、１−メト
キシ−１−エチリデン、α−メトキシベンジリデンのよ
うなオルトエステル型保護基の場合などをあげることが
できる。
【００２２】反応は、例えばテトラヒドロフラン(ＴＨ
Ｆ)、塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸メチル、アセト
ン、アセトニトリル等の溶媒中で行う事ができる。溶媒
の使用量には特別の制約はなく適宜に選択でき、酸ハロ
ゲン化物に対し、約５〜約２０重量倍程度の範囲が例示
できる。試剤は、任意の順番で混合する事ができる。
Ｆ)、塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸メチル、アセト
ン、アセトニトリル等の溶媒中で行う事ができる。溶媒
の使用量には特別の制約はなく適宜に選択でき、酸ハロ
ゲン化物に対し、約５〜約２０重量倍程度の範囲が例示
できる。試剤は、任意の順番で混合する事ができる。
【００２３】反応温度は、−３０℃ないし溶媒の沸点ま
での範囲から選択可能であるが、好ましくは−３０℃〜
＋５０℃、さらに好ましくは−２０℃〜＋３０℃の範囲
である。反応時間は、反応温度、用いる試剤の種類等に
より変化するが、通例１〜２４時間を要する。反応生成
物は、有機化学において一般的な方法、例えば抽出、晶
析、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、蒸留などに
より単離および精製する事ができる。
での範囲から選択可能であるが、好ましくは−３０℃〜
＋５０℃、さらに好ましくは−２０℃〜＋３０℃の範囲
である。反応時間は、反応温度、用いる試剤の種類等に
より変化するが、通例１〜２４時間を要する。反応生成
物は、有機化学において一般的な方法、例えば抽出、晶
析、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、蒸留などに
より単離および精製する事ができる。
【００２４】
実施例１ ベンゾイル酢酸t−ブチルの製造:アルゴン雰囲気下、マ
グネシウムエトキシド１.３７g(１２mmol)、イミダゾー
ル１.６３g(２４mmol)の混合物にＴＨＦ９mlを攪拌しな
がら加え、氷浴中で１０分間攪拌した。この懸濁液にマ
ロン酸モノt−ブチルエステル(純度８９％)２.１６g(１
２mmol)をＴＨＦ２mlと共に添加し、３０分間攪拌し
た。次いで塩化ベンゾイル１.４１g(１０mmol)をＴＨＦ
３mlと共に５分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を
取り除き、室温でさらに２時間攪拌した。再び氷冷した
後に酢酸０.７ml(１２mmol)を加え、３０分間攪拌し
た。シリカゲル４０gを詰めたカラムに反応液全量をの
せ、酢酸エチルを用いて溶出し、不溶物、高極性物を除
いた。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝２０:１)で精製す
る事により、ほぼ純粋なヘンゾイル酢酸t−ブチル１.７
８g(８.１mmol)を得た。収率８１％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ１.４３(s,９
Ｈ)、δ３.９０(s,２Ｈ)、δ７.４８−７.９４(m,５Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５７０−３９００、２９８０、
１７３４(Ｃ＝Ｏ)、１６８６(Ｃ＝Ｏ)１３７０、１１５
３
グネシウムエトキシド１.３７g(１２mmol)、イミダゾー
ル１.６３g(２４mmol)の混合物にＴＨＦ９mlを攪拌しな
がら加え、氷浴中で１０分間攪拌した。この懸濁液にマ
ロン酸モノt−ブチルエステル(純度８９％)２.１６g(１
２mmol)をＴＨＦ２mlと共に添加し、３０分間攪拌し
た。次いで塩化ベンゾイル１.４１g(１０mmol)をＴＨＦ
３mlと共に５分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を
取り除き、室温でさらに２時間攪拌した。再び氷冷した
後に酢酸０.７ml(１２mmol)を加え、３０分間攪拌し
た。シリカゲル４０gを詰めたカラムに反応液全量をの
せ、酢酸エチルを用いて溶出し、不溶物、高極性物を除
いた。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝２０:１)で精製す
る事により、ほぼ純粋なヘンゾイル酢酸t−ブチル１.７
８g(８.１mmol)を得た。収率８１％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ１.４３(s,９
Ｈ)、δ３.９０(s,２Ｈ)、δ７.４８−７.９４(m,５Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５７０−３９００、２９８０、
１７３４(Ｃ＝Ｏ)、１６８６(Ｃ＝Ｏ)１３７０、１１５
３
【００２５】実施例２ ベンゾイル酢酸t−ブチルの製造:ＴＨＦに代えてアセト
ンを用いた他は、実施例１と同様の方法で、ほぼ純粋な
ヘンゾイル酢酸t−ブチル１.４３g(６.４８mmol)を得
た。収率６５％得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値および
ＩＲ値は、実施例１のものと一致した。
ンを用いた他は、実施例１と同様の方法で、ほぼ純粋な
ヘンゾイル酢酸t−ブチル１.４３g(６.４８mmol)を得
た。収率６５％得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値および
ＩＲ値は、実施例１のものと一致した。
【００２６】実施例３ ベンゾイル酢酸t−ブチルの製造：アルゴン雰囲気下、
塩化ベンゾイル１．４１g(１０mmol)をＴＨＦ１０mlに
溶解し、氷冷した。この溶液にイミダゾール１.６３g
(２４mmol)をＴＨＦ３mlと共に加え、氷冷下３０分間攪
拌し、イミダゾリドの懸濁液を調製した。これとは別
に、アルゴン雰囲気下、マグネシウムエトキシド１.３
７g(１２mmol)をＴＨＦ９mlに懸濁したものに、氷冷下
マロン酸モノt−ブチルエステル(純度８９％)２.１６g
(１２mmol)をＴＨＦ３mlと共に添加し、３０分間攪拌し
た。この懸濁液に、イミダゾリド懸濁液をＴＨＦ１０ml
と共に一度に加えた。氷冷下３０分間攪拌した後に氷浴
を取り除き、室温でさらに２時間攪拌した。再び氷冷し
た後に酢酸０.７ml(１２mmol)を加え、３０分間攪拌し
た。シリカゲル５０gを詰めたカラムに反応液全量をの
せ、酢酸エチルを用いて溶出し、不溶物、高極性物を除
いた。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝２０:１)で精製す
る事により、ほぼ純粋なヘンゾイル酢酸t−ブチル１.８
６g(８.４５mmol)を得た。収率８５％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例１のものと一致した。
塩化ベンゾイル１．４１g(１０mmol)をＴＨＦ１０mlに
溶解し、氷冷した。この溶液にイミダゾール１.６３g
(２４mmol)をＴＨＦ３mlと共に加え、氷冷下３０分間攪
拌し、イミダゾリドの懸濁液を調製した。これとは別
に、アルゴン雰囲気下、マグネシウムエトキシド１.３
７g(１２mmol)をＴＨＦ９mlに懸濁したものに、氷冷下
マロン酸モノt−ブチルエステル(純度８９％)２.１６g
(１２mmol)をＴＨＦ３mlと共に添加し、３０分間攪拌し
た。この懸濁液に、イミダゾリド懸濁液をＴＨＦ１０ml
と共に一度に加えた。氷冷下３０分間攪拌した後に氷浴
を取り除き、室温でさらに２時間攪拌した。再び氷冷し
た後に酢酸０.７ml(１２mmol)を加え、３０分間攪拌し
た。シリカゲル５０gを詰めたカラムに反応液全量をの
せ、酢酸エチルを用いて溶出し、不溶物、高極性物を除
いた。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝２０:１)で精製す
る事により、ほぼ純粋なヘンゾイル酢酸t−ブチル１.８
６g(８.４５mmol)を得た。収率８５％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例１のものと一致した。
【００２７】実施例４ ３−オキソアジピン酸ジメチルの製造:アルゴン雰囲気
下、マグネシウムエトキシド１.３７g(１２mmol)、イミ
ダゾール１.６３g(２４mmol)の混合物にＴＨＦ８.５ml
とジメチルスルホキシド１.５mlとを攪拌しながら加
え、氷浴中で１０分間攪拌した。この懸濁液に、マロン
酸モノメチルエステル(純度９２％)１.５４g(１２mmol)
をＴＨＦ２mlと共に添加し、３０分間攪拌した。次いで
塩化３−カーボメトキシプロピオニル１.５１g(１０mmo
l)をＴＨＦ３mlと共に５分間で添加し、３０分間攪拌し
た。氷浴を取り除き、室温でさらに２時間攪拌した。再
び氷冷した後に酢酸０.７ml(１２mmol)を加え、３０分
間攪拌した。シリカゲル４０gを詰めたカラムに反応液
全量をのせ、酢酸エチルを用いて溶出し不溶物、高極性
物を除いた。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝６:１)で精
製する事により、ほぼ純粋な３−オキソアジピン酸ジメ
チル１.２８g(６.７８mmol)を得た。収率６８％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ２.６３(t,２
Ｈ)、δ２.８８(t,２Ｈ)、δ３.５２(s,２Ｈ)、δ３.６
８(s,３Ｈ)、δ３.７５(s,３Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５７０−３９００、２９５７、
１７１７−１７５５(Ｃ＝Ｏ)、１４３７、１０１３
下、マグネシウムエトキシド１.３７g(１２mmol)、イミ
ダゾール１.６３g(２４mmol)の混合物にＴＨＦ８.５ml
とジメチルスルホキシド１.５mlとを攪拌しながら加
え、氷浴中で１０分間攪拌した。この懸濁液に、マロン
酸モノメチルエステル(純度９２％)１.５４g(１２mmol)
をＴＨＦ２mlと共に添加し、３０分間攪拌した。次いで
塩化３−カーボメトキシプロピオニル１.５１g(１０mmo
l)をＴＨＦ３mlと共に５分間で添加し、３０分間攪拌し
た。氷浴を取り除き、室温でさらに２時間攪拌した。再
び氷冷した後に酢酸０.７ml(１２mmol)を加え、３０分
間攪拌した。シリカゲル４０gを詰めたカラムに反応液
全量をのせ、酢酸エチルを用いて溶出し不溶物、高極性
物を除いた。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝６:１)で精
製する事により、ほぼ純粋な３−オキソアジピン酸ジメ
チル１.２８g(６.７８mmol)を得た。収率６８％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ２.６３(t,２
Ｈ)、δ２.８８(t,２Ｈ)、δ３.５２(s,２Ｈ)、δ３.６
８(s,３Ｈ)、δ３.７５(s,３Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５７０−３９００、２９５７、
１７１７−１７５５(Ｃ＝Ｏ)、１４３７、１０１３
【００２８】実施例５ ３−オキソオクタン酸t−ブチルの製造:塩化ベンゾイル
に代えて塩化ヘキサノイル１.３５g(１０mmol)を用い、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセト
ン＝３０:１)で精製した他は、実施例１と同様の方法
で、ほぼ純粋な３−オキソオクタン酸t−ブチル１.８９
g(７.７７mmol)を得た。収率７８％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ０.８９(t,３
Ｈ)、δ１.２４〜１.３４(m,４Ｈ)、δ１.４７(s,９
Ｈ)、δ１.５６〜１.６３(m,２Ｈ)、δ２.５２(t,２
Ｈ)、δ３.３４(s,２Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５２４−３９０４、２９６１、
２９３４、１７４０(Ｃ＝Ｏ)、１７１７(Ｃ＝Ｏ)、１３
７０、１１５０
に代えて塩化ヘキサノイル１.３５g(１０mmol)を用い、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセト
ン＝３０:１)で精製した他は、実施例１と同様の方法
で、ほぼ純粋な３−オキソオクタン酸t−ブチル１.８９
g(７.７７mmol)を得た。収率７８％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ０.８９(t,３
Ｈ)、δ１.２４〜１.３４(m,４Ｈ)、δ１.４７(s,９
Ｈ)、δ１.５６〜１.６３(m,２Ｈ)、δ２.５２(t,２
Ｈ)、δ３.３４(s,２Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５２４−３９０４、２９６１、
２９３４、１７４０(Ｃ＝Ｏ)、１７１７(Ｃ＝Ｏ)、１３
７０、１１５０
【００２９】実施例６ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:塩化ベンゾイルに代えて塩化２−(２,２−ジメチル
−５−オキソ−１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセ
チル(純度９６.５％)２.０g(１０mmol)を用い、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝
６:１)で精製した他は、実施例１と同様の方法で、ほぼ
純粋な目的物２.１９g(８.０６mmol)を得た。収率８１
％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ１.４７(s,９
Ｈ)、δ１.５６(s,３Ｈ)、δ１.６１(s,３Ｈ)、δ３.０
１(dd,１Ｈ)、δ３.１９(dd,１Ｈ)、δ３.４１(s,２
Ｈ)、δ４.７５(dd,１Ｈ) FT-IR(ニート)：３５７０−３９０６、２９８４、２９
４０、１７９８(Ｃ＝Ｏ)、１７４０(Ｃ＝Ｏ)、１７２１
(Ｃ＝Ｏ)、１３８８、１３７２、１１５２
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:塩化ベンゾイルに代えて塩化２−(２,２−ジメチル
−５−オキソ−１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセ
チル(純度９６.５％)２.０g(１０mmol)を用い、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝
６:１)で精製した他は、実施例１と同様の方法で、ほぼ
純粋な目的物２.１９g(８.０６mmol)を得た。収率８１
％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ１.４７(s,９
Ｈ)、δ１.５６(s,３Ｈ)、δ１.６１(s,３Ｈ)、δ３.０
１(dd,１Ｈ)、δ３.１９(dd,１Ｈ)、δ３.４１(s,２
Ｈ)、δ４.７５(dd,１Ｈ) FT-IR(ニート)：３５７０−３９０６、２９８４、２９
４０、１７９８(Ｃ＝Ｏ)、１７４０(Ｃ＝Ｏ)、１７２１
(Ｃ＝Ｏ)、１３８８、１３７２、１１５２
【００３０】実施例７ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:アルゴン雰囲気下、マロン酸モノt−ブチルエステル
マグネシウム塩２.０６g(６mmol)、イミダゾール１.６
３g(２４mmol)の混合物にＴＨＦ１５mlを攪拌しながら
加え、室温で１０分間攪拌した。この溶液にトリエチル
アミン１.６７ml(１２mmol)を添加し、攪拌、氷冷し
た。次いで塩化２−(２,２−ジメチル−５−オキソ−
１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純度９６.
５％)２.０g(１０mmol)をＴＨＦ５mlと共に５分間で添
加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、室温でさら
に３時間攪拌した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧濃縮し
た後に、シリカゲル３０gを詰めたカラムに濃縮物全量
をのせ、酢酸エチルを用いて溶出し、高極性物を除い
た。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１０:１)で精製する
事により、ほぼ純粋な目的物１.９１g(７.００mmol)を
得た。収率７０％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例６のものと一致した。
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:アルゴン雰囲気下、マロン酸モノt−ブチルエステル
マグネシウム塩２.０６g(６mmol)、イミダゾール１.６
３g(２４mmol)の混合物にＴＨＦ１５mlを攪拌しながら
加え、室温で１０分間攪拌した。この溶液にトリエチル
アミン１.６７ml(１２mmol)を添加し、攪拌、氷冷し
た。次いで塩化２−(２,２−ジメチル−５−オキソ−
１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純度９６.
５％)２.０g(１０mmol)をＴＨＦ５mlと共に５分間で添
加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、室温でさら
に３時間攪拌した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧濃縮し
た後に、シリカゲル３０gを詰めたカラムに濃縮物全量
をのせ、酢酸エチルを用いて溶出し、高極性物を除い
た。溶出液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１０:１)で精製する
事により、ほぼ純粋な目的物１.９１g(７.００mmol)を
得た。収率７０％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例６のものと一致した。
【００３１】実施例８ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:ＴＨＦに代えてアセトンを用いた他は、実施例７と
同様の方法で、ほぼ純粋な目的物１.８６g(６.８４mmo
l)を得た。収率６８％。得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ
値およびＩＲ値は、実施例６のものと一致した。
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:ＴＨＦに代えてアセトンを用いた他は、実施例７と
同様の方法で、ほぼ純粋な目的物１.８６g(６.８４mmo
l)を得た。収率６８％。得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ
値およびＩＲ値は、実施例６のものと一致した。
【００３２】実施例９ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:ＴＨＦに代えて酢酸エチルを用いた他は、実施例７
と同様の方法で、ほぼ純粋な目的物１.７８g(６.５２mm
ol)を得た。収率６５％。得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ
値およびＩＲ値は、実施例６のものと一致した。
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸t−ブチルの製
造:ＴＨＦに代えて酢酸エチルを用いた他は、実施例７
と同様の方法で、ほぼ純粋な目的物１.７８g(６.５２mm
ol)を得た。収率６５％。得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ
値およびＩＲ値は、実施例６のものと一致した。
【００３３】実施例１０ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、塩化マグネシウム１.１４g(１２mmol)
のＴＨＦ(６５ml)懸濁液に、マロン酸モノエチルエステ
ル(純度９３％)３.４１g(２４mmol)をＴＨＦ５mlと共に
加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液にトリエチルアミン
６.６９ml(４８mmol)をＴＨＦ５mlと共にゆっくり加
え、１時間攪拌した。次いでイミダゾール３.２７g(４
８mmol)を攪拌しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌し
た。この懸濁液に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オ
キソ−１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純
度９６.５％)４.０g(２０mmol)をＴＨＦ５mlと共に１０
分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、室
温でさらに３時間攪拌した。不溶物を濾別し、溶媒を減
圧濃縮した後に、酢酸エチル５０mlで希釈した。３Ｎ塩
酸１２mlで２回洗浄し、次いで５％重曹水２０mlで１回
洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１０:１)で精製する
事により、ほぼ純粋な目的物３.７７g(１５.４４mmol)
を得た。収率７７％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ１.２９(t,３
Ｈ)、δ１.５６(s,３Ｈ)、δ１.６２(s,３Ｈ)、δ３.０
２(dd,１Ｈ)、δ３.２０(dd,１Ｈ)、δ３.４９(s,２
Ｈ)、δ４.２１(q,２Ｈ)、δ４.７６(dd,１Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５６９−３９０６、２９９２、
２９４１、１７９８(C=O)、１７４８(Ｃ＝Ｏ)、１７２
３(Ｃ＝Ｏ)、１３８９、１３７９、１１５６
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、塩化マグネシウム１.１４g(１２mmol)
のＴＨＦ(６５ml)懸濁液に、マロン酸モノエチルエステ
ル(純度９３％)３.４１g(２４mmol)をＴＨＦ５mlと共に
加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液にトリエチルアミン
６.６９ml(４８mmol)をＴＨＦ５mlと共にゆっくり加
え、１時間攪拌した。次いでイミダゾール３.２７g(４
８mmol)を攪拌しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌し
た。この懸濁液に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オ
キソ−１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純
度９６.５％)４.０g(２０mmol)をＴＨＦ５mlと共に１０
分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、室
温でさらに３時間攪拌した。不溶物を濾別し、溶媒を減
圧濃縮した後に、酢酸エチル５０mlで希釈した。３Ｎ塩
酸１２mlで２回洗浄し、次いで５％重曹水２０mlで１回
洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１０:１)で精製する
事により、ほぼ純粋な目的物３.７７g(１５.４４mmol)
を得た。収率７７％1 Ｈ−ＮＭＲ(４００ＭＨz、ＣＤＣl3)：δ１.２９(t,３
Ｈ)、δ１.５６(s,３Ｈ)、δ１.６２(s,３Ｈ)、δ３.０
２(dd,１Ｈ)、δ３.２０(dd,１Ｈ)、δ３.４９(s,２
Ｈ)、δ４.２１(q,２Ｈ)、δ４.７６(dd,１Ｈ) ＦＴ−ＩＲ(ニート)：３５６９−３９０６、２９９２、
２９４１、１７９８(C=O)、１７４８(Ｃ＝Ｏ)、１７２
３(Ｃ＝Ｏ)、１３８９、１３７９、１１５６
【００３４】実施例１１ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、塩化マグネシウム２８６mg(３mmol)の
塩化メチレン(９.６ml)懸濁液に、マロン酸モノエチル
エステル(純度９３％)７７５mg(５.６mmol)を塩化メチ
レン１mlと共に加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液にト
リエチルアミン１.６７ml(１２mmol)をゆっくり加え、
１時間攪拌した。次いでイミダゾール８１７mg(６mmol)
を攪拌しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌した。この
懸濁液に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オキソ−
１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純度９６.
５％)９６３mg(４.８mmol)を塩化メチレン２mlと共に１
０分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、
室温でさらに３時間攪拌した。反応液に水３０mlを加
え、３Ｎ塩酸でpＨを６.５に調整した後、分液し、水層
を塩化メチレン５０mlで更に抽出した。次いで５％重曹
水２０mlで１回洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１
０:１)で精製する事により、ほぼ純粋な目的物８５２mg
(３.４６mmol)を得た。収率７２％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例１０のものと一致した。
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、塩化マグネシウム２８６mg(３mmol)の
塩化メチレン(９.６ml)懸濁液に、マロン酸モノエチル
エステル(純度９３％)７７５mg(５.６mmol)を塩化メチ
レン１mlと共に加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液にト
リエチルアミン１.６７ml(１２mmol)をゆっくり加え、
１時間攪拌した。次いでイミダゾール８１７mg(６mmol)
を攪拌しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌した。この
懸濁液に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オキソ−
１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純度９６.
５％)９６３mg(４.８mmol)を塩化メチレン２mlと共に１
０分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、
室温でさらに３時間攪拌した。反応液に水３０mlを加
え、３Ｎ塩酸でpＨを６.５に調整した後、分液し、水層
を塩化メチレン５０mlで更に抽出した。次いで５％重曹
水２０mlで１回洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１
０:１)で精製する事により、ほぼ純粋な目的物８５２mg
(３.４６mmol)を得た。収率７２％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例１０のものと一致した。
【００３５】実施例１２ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、塩化カルシウム６６６mg(６mmol)のア
セトニトリル(９.６ml)懸濁液に、マロン酸モノエチル
エステル(純度９３％)７７５mg(５.６mmol)をアセトニ
トリル１mlと共に加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液
に、トリエチルアミン１.６７ml(１２mmol)をゆっくり
加え、１時間攪拌した。次いでイミダゾール８１７mg
(６mmol)を攪拌しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌し
た。この懸濁液に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オ
キソ−１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純
度９６.５％)９６３mg(４.８mmol)をアセトニトリル２m
lと共に１０分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を
取り除き、室温でさらに２４時間攪拌した。溶媒を減圧
濃縮した後に、酢酸エチル５０mlで希釈した。水を３０
ml加え、３Ｎ塩酸でpＨを６.５に調整した後、５％重曹
水２０mlで１回洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１
０:１)で精製する事により、ほぼ純粋な目的物３９０.
１mg(１.５８mmol)を得た。収率３３％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例１０のものと一致した。
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、塩化カルシウム６６６mg(６mmol)のア
セトニトリル(９.６ml)懸濁液に、マロン酸モノエチル
エステル(純度９３％)７７５mg(５.６mmol)をアセトニ
トリル１mlと共に加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液
に、トリエチルアミン１.６７ml(１２mmol)をゆっくり
加え、１時間攪拌した。次いでイミダゾール８１７mg
(６mmol)を攪拌しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌し
た。この懸濁液に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オ
キソ−１,３−ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純
度９６.５％)９６３mg(４.８mmol)をアセトニトリル２m
lと共に１０分間で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を
取り除き、室温でさらに２４時間攪拌した。溶媒を減圧
濃縮した後に、酢酸エチル５０mlで希釈した。水を３０
ml加え、３Ｎ塩酸でpＨを６.５に調整した後、５％重曹
水２０mlで１回洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１
０:１)で精製する事により、ほぼ純粋な目的物３９０.
１mg(１.５８mmol)を得た。収率３３％ 得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ値およびＩＲ値は、実施
例１０のものと一致した。
【００３６】実施例１３ ４−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−ジオキソ
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、ＦeＣl2３８０.３mg(３mmol)の塩化メ
チレン(９.６ml)懸濁液に、マロン酸モノエチルエステ
ル(純度９３％)７７５mg(５.６mmol)を塩化メチレン１m
lと共に加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液にトリエチ
ルアミン１.６７ml(１２mmol)をゆっくり加え、１時間
攪拌した。次いでイミダゾール８１７mg(６mmol)を攪拌
しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌した。この懸濁液
に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−
ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純度９６.５％)９
６３mg(４.８mmol)を塩化メチレン２mlと共に１０分間
で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、室温で
さらに５時間攪拌した。反応液に水３０ml加え、３Ｎ塩
酸でpＨを６.５に調整した後、分液し、水層を塩化メチ
レン５０mlで更に抽出した。次いで５％重曹水２０mlで
１回洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１０:１)で精製
する事により、ほぼ純粋な目的物５４４mg(２.２１mmo
l)を得た。収率４６％。得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ
値およびＩＲ値は、実施例１０のものと一致した。
ラン−４−イル)−３−オキソブタン酸エチルの製造:ア
ルゴン雰囲気下、ＦeＣl2３８０.３mg(３mmol)の塩化メ
チレン(９.６ml)懸濁液に、マロン酸モノエチルエステ
ル(純度９３％)７７５mg(５.６mmol)を塩化メチレン１m
lと共に加え、攪拌、氷冷した。この懸濁液にトリエチ
ルアミン１.６７ml(１２mmol)をゆっくり加え、１時間
攪拌した。次いでイミダゾール８１７mg(６mmol)を攪拌
しながら加え、氷浴中で３０分間攪拌した。この懸濁液
に、塩化２−(２,２−ジメチル−５−オキソ−１,３−
ジオキソラン−４−イル)−アセチル(純度９６.５％)９
６３mg(４.８mmol)を塩化メチレン２mlと共に１０分間
で添加し、３０分間攪拌した。氷浴を取り除き、室温で
さらに５時間攪拌した。反応液に水３０ml加え、３Ｎ塩
酸でpＨを６.５に調整した後、分液し、水層を塩化メチ
レン５０mlで更に抽出した。次いで５％重曹水２０mlで
１回洗浄した。溶媒を減圧濃縮後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン＝１０:１)で精製
する事により、ほぼ純粋な目的物５４４mg(２.２１mmo
l)を得た。収率４６％。得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲ
値およびＩＲ値は、実施例１０のものと一致した。
【００３７】
【発明の効果】本発明の方法により、比較的安価で入手
容易な原料を用いて、各種酸ハロゲン化物より対応する
β−ケトカルボン酸エステルを工業的に有利に製造でき
る。
容易な原料を用いて、各種酸ハロゲン化物より対応する
β−ケトカルボン酸エステルを工業的に有利に製造でき
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/738 Ｚ 9279−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 317/34 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (14)
- 【請求項１】 一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1は置換されていても良いアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基またはアルケニル基、ＸはＣlまた
はＢrを表す。]で表される酸ハロゲン化物と、一般式
(ＩＩ) Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ (ＩＩ) [式中、Ｒ2はアルキル基、アリール基、アラルキル基ま
たはアルケニル基を表す。]で表されるマロン酸モノエ
ステルとを、一般式(ＩＩＩ) ＭＹn (ＩＩＩ) [式中、Ｍは金属原子、Ｙはハロゲン原子、nは１〜４の
整数を表す。]で表される金属ハロゲン化物、並びにイ
ミダゾールまたはイミダゾール誘導体、および塩基の存
在下に反応させる事を特徴とする一般式(ＩＶ) Ｒ1−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ2 (ＩＶ) [式中、Ｒ1、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるβ−
ケトカルボン酸エステルの製造法。 - 【請求項２】 一般式(ＩＩＩ)の金属ハロゲン化物がＭ
gＣl2である請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1、Ｘは前記と同じである。]で表される酸ハ
ロゲン化物と、一般式(Ｖ) (Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯ)nＭ (Ｖ) [式中、Ｒ2、Ｍ、nは前記と同じである。]で表されるマ
ロン酸モノエステルの金属塩とを、イミダゾールまたは
イミダゾール誘導体、および塩基の存在下に反応させる
事を特徴とする一般式(ＩＶ) R1−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ2 (ＩＶ) [式中、Ｒ1、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるβ−
ケトカルボン酸エステルの製造法。 - 【請求項４】 一般式(Ｖ)において、ＭはＭg、nは２で
ある請求項３記載の製造法。 - 【請求項５】 塩基が３級アミンである請求項１〜４の
いずれかに記載の製造法。 - 【請求項６】 塩基がトリエチルアミンである請求項５
記載の製造法。 - 【請求項７】 一般式(Ｉ) Ｒ1−ＣＯ−Ｘ (Ｉ) [式中、Ｒ1、Ｘは前記と同じである。]で表される酸ハ
ロゲン化物と、一般式(ＩＩ) Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯＨ (ＩＩ) [式中、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるマロン酸
モノエステル、または一般式(Ｖ) (Ｒ2ＯＯＣＣＨ2ＣＯＯ)nＭ (Ｖ) [式中、Ｒ2、Ｍ、nは前記と同じである。]で表されるマ
ロン酸モノエステルの金属塩とを、一般式(ＶＩ) Ｍ(ＯＲ3)n (ＶＩ) [式中、Ｒ3は炭素数１〜４の直鎖または分枝のアルキル
基を表し、Ｍ、nは前記と同じである。]で表される金属
アルコキシド、およびイミダゾールまたはイミダゾール
誘導体の存在下に反応させる事を特徴とする一般式(Ｉ
Ｖ) Ｒ1−ＣＯ−ＣＨ2−ＣＯＯＲ2 (ＩＶ) [式中、Ｒ1、Ｒ2は前記と同じである。]で表されるβ−
ケトカルボン酸エステルの製造法。 - 【請求項８】 一般式(ＶＩ)において、Ｒ3がメチルま
たはエチル基である請求項７記載の製造法。 - 【請求項９】 Ｒ2がt−ブチル基である請求項１〜８の
いずれかに記載の製造法。 - 【請求項１０】 Ｒ2がメチルまたはエチル基である請
求項１〜８のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項１１】 Ｒ1が、一般式(ＶＩＩ) Ｒ4Ｏ−Ｚ−ＣＨ(ＯＲ5)−ＣＨ2− (ＶＩＩ) [式中、Ｚは−ＣＨ2−または−ＣＯ−を表し、Ｒ4はア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基ま
たはシリル基もしくは置換シリル基を表し、Ｒ5は水酸
基の保護基を表すか、あるいはＲ4とＲ5は共同で環を形
成している。]で表される基である請求項１〜１０のい
ずれかに記載の製造法。 - 【請求項１２】 一般式(ＶＩＩ)において、Ｚが−ＣＯ
−であり、Ｒ4とＲ5が共同して環を形成している請求項
１１記載の製造法。 - 【請求項１３】 Ｒ4とＲ5が共同してイソプロピリデン
基を形成している請求項１２記載の製造法。 - 【請求項１４】 Ｒ1が、一般式(ＶＩＩＩ) ＮＣ−ＣＨ2−ＣＨ(ＯＲ6)−ＣＨ2− (ＶＩＩＩ) [式中、Ｒ6は水酸基の保護基を表す。]で表される基で
ある請求項１〜１０のいずれかに記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4298518A JPH06145107A (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | β−ケトカルボン酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4298518A JPH06145107A (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | β−ケトカルボン酸エステルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145107A true JPH06145107A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17860765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4298518A Pending JPH06145107A (ja) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | β−ケトカルボン酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06145107A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1209141A1 (de) * | 2000-11-23 | 2002-05-29 | Chemetall GmbH | Verfahren zur Herstellung von Magnesiumalkoholaten |
| JP2002332259A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Konica Corp | α位に電子吸引性基を有するβ−ケトカルボン酸エステル誘導体の製造方法 |
-
1992
- 1992-11-09 JP JP4298518A patent/JPH06145107A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1209141A1 (de) * | 2000-11-23 | 2002-05-29 | Chemetall GmbH | Verfahren zur Herstellung von Magnesiumalkoholaten |
| JP2002332259A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Konica Corp | α位に電子吸引性基を有するβ−ケトカルボン酸エステル誘導体の製造方法 |
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