JPH06143092A - ダイシングスピンドル装置 - Google Patents
ダイシングスピンドル装置Info
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- JPH06143092A JPH06143092A JP29727392A JP29727392A JPH06143092A JP H06143092 A JPH06143092 A JP H06143092A JP 29727392 A JP29727392 A JP 29727392A JP 29727392 A JP29727392 A JP 29727392A JP H06143092 A JPH06143092 A JP H06143092A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 回転軸の伸縮変形を吸収補正するのに用いら
れる冷却水の温度管理用水温コントローラを省略する。 【構成】 ディスク５の表裏面側にアキシャル電磁石
７，８を、回転軸２の端面側でその回転軸のアキシャル
方向の位置を検出する回転軸用センサ部９を設ける。ア
キシャル電磁石７，８とセンサ部９は磁気軸受制御部１
０に接続する。磁気軸受制御部１０はセンサ部９での検
出値ｈが予め設定された目標値ｈ1 と等しくなるように
アキシャル電磁石７，８を励磁する。これにより、回転
軸２がその軸方向に伸縮変形したときは、回転軸２のア
キシャル方向の位置が目標値ｈ1 になるまで、回転軸２
が前進又は後退し、回転軸２の伸縮変形を吸収補正する
ので、冷却水の温度管理用水温コントローラは不要とな
る。
れる冷却水の温度管理用水温コントローラを省略する。 【構成】 ディスク５の表裏面側にアキシャル電磁石
７，８を、回転軸２の端面側でその回転軸のアキシャル
方向の位置を検出する回転軸用センサ部９を設ける。ア
キシャル電磁石７，８とセンサ部９は磁気軸受制御部１
０に接続する。磁気軸受制御部１０はセンサ部９での検
出値ｈが予め設定された目標値ｈ1 と等しくなるように
アキシャル電磁石７，８を励磁する。これにより、回転
軸２がその軸方向に伸縮変形したときは、回転軸２のア
キシャル方向の位置が目標値ｈ1 になるまで、回転軸２
が前進又は後退し、回転軸２の伸縮変形を吸収補正する
ので、冷却水の温度管理用水温コントローラは不要とな
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は半導体製造工程等でシ
リコンウエハ等を切断するダイシングスピンドル装置に
関する。
リコンウエハ等を切断するダイシングスピンドル装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のダイシングスピンドル装
置は、図２に示す如く回転軸２をその径方向に支持する
ラジアル軸受２０と、回転軸２をその軸方向に支持する
スラスト軸受２１とを有し、これらのラジアル軸受２０
及びスラスト軸受２１は空気軸受で構成されている。
置は、図２に示す如く回転軸２をその径方向に支持する
ラジアル軸受２０と、回転軸２をその軸方向に支持する
スラスト軸受２１とを有し、これらのラジアル軸受２０
及びスラスト軸受２１は空気軸受で構成されている。
【０００３】また、回転軸２の先端に取り付けられたブ
レード３でシリコンウエハ等を切断するのに当たり、回
転軸２を回転させるときには、ラジアル軸受２０及びス
ラスト軸受２１の両空気軸受ハウジング部に冷却水を供
給し、この両空気軸受からの発熱を抑え、回転軸２の温
度平衡を保つようにしている。
レード３でシリコンウエハ等を切断するのに当たり、回
転軸２を回転させるときには、ラジアル軸受２０及びス
ラスト軸受２１の両空気軸受ハウジング部に冷却水を供
給し、この両空気軸受からの発熱を抑え、回転軸２の温
度平衡を保つようにしている。
【０００４】ところが、上記の如く単に両空気軸受ハウ
ジング部へと冷却水を供給するのみでは、自動運転中に
回転軸２の温度平衡を保つことは非常に難しく、しか
も、回転軸２は微少な冷却水の水温変化や流量変化で伸
縮変形するため、このような伸縮変形によりブレード３
の切断開始位置が変化し、加工精度が悪くなる。
ジング部へと冷却水を供給するのみでは、自動運転中に
回転軸２の温度平衡を保つことは非常に難しく、しか
も、回転軸２は微少な冷却水の水温変化や流量変化で伸
縮変形するため、このような伸縮変形によりブレード３
の切断開始位置が変化し、加工精度が悪くなる。
【０００５】そこで、このようなダイシング装置では、
水温コントローラ等で温度管理された冷却水を空気軸受
に供給したり、又は水温変化に伴う流量変動のデータを
蓄積し、その蓄積したデータを基に水温変化に応じて冷
却水の流量設定値を変化させる等の対策を講じて、回転
軸２の温度平衡を保ち、回転軸２の伸縮によりブレード
３の切断開始位置が変化するのを防止している。
水温コントローラ等で温度管理された冷却水を空気軸受
に供給したり、又は水温変化に伴う流量変動のデータを
蓄積し、その蓄積したデータを基に水温変化に応じて冷
却水の流量設定値を変化させる等の対策を講じて、回転
軸２の温度平衡を保ち、回転軸２の伸縮によりブレード
３の切断開始位置が変化するのを防止している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、上記の如く回転軸２の伸縮によりブレード３の切断
開始位置が変化するのを防止するのに当たり、温度管理
された冷却水を空気軸受へと供給するため、このような
冷却水の温度管理には水温コントローラ等が別途必要に
なるので、その分、装置のコスト高を招く。
は、上記の如く回転軸２の伸縮によりブレード３の切断
開始位置が変化するのを防止するのに当たり、温度管理
された冷却水を空気軸受へと供給するため、このような
冷却水の温度管理には水温コントローラ等が別途必要に
なるので、その分、装置のコスト高を招く。
【０００７】また、従来のように、水温変化に応じて冷
却水の流量設定値を変化させる方法でブレード３の切断
開始位置が変化するのを防止する場合には、年間の水温
変化のみならず、１日の水温変化に対しても、その都
度、冷却水の流量設定値を変える必要があるので、それ
を変えるのに人手がかかり、装置の使い勝手が悪い。
却水の流量設定値を変化させる方法でブレード３の切断
開始位置が変化するのを防止する場合には、年間の水温
変化のみならず、１日の水温変化に対しても、その都
度、冷却水の流量設定値を変える必要があるので、それ
を変えるのに人手がかかり、装置の使い勝手が悪い。
【０００８】この発明は上述の事情に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、水温コントローラ等の
省略によるコスト低減、並びに１日の水温変化に応じて
冷却水の流量設定値を変化させる手間を省略し、装置の
使い勝手の向上を図ることにある。
ので、その目的とするところは、水温コントローラ等の
省略によるコスト低減、並びに１日の水温変化に応じて
冷却水の流量設定値を変化させる手間を省略し、装置の
使い勝手の向上を図ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明は、先端にブレードが取り付
けられた回転軸と、この回転軸の外周面に一体に取り付
けられると共にその回転軸の軸心に対して略垂直に設置
されたディスクと、上記回転軸をその径方向に支持する
空気軸受部と、上記ディスクの表裏面側に位置しかつそ
のディスクを介して互いに向かい合うように配設された
アキシャル電磁石と、上記回転軸の端面側でその回転軸
のアキシャル方向の位置を検出するセンサ部と、このセ
ンサ部からの検出値が予め設定された目標値と等しくな
るように上記アキシャル電磁石を励磁する磁気軸受制御
部とを備えることを特徴とする。
に、請求項１に記載の発明は、先端にブレードが取り付
けられた回転軸と、この回転軸の外周面に一体に取り付
けられると共にその回転軸の軸心に対して略垂直に設置
されたディスクと、上記回転軸をその径方向に支持する
空気軸受部と、上記ディスクの表裏面側に位置しかつそ
のディスクを介して互いに向かい合うように配設された
アキシャル電磁石と、上記回転軸の端面側でその回転軸
のアキシャル方向の位置を検出するセンサ部と、このセ
ンサ部からの検出値が予め設定された目標値と等しくな
るように上記アキシャル電磁石を励磁する磁気軸受制御
部とを備えることを特徴とする。
【００１０】請求項２に記載の発明は、先端にブレード
が取り付けられた回転軸と、この回転軸の外周面に一体
に取り付けられると共にその回転軸の軸心に対して略垂
直に設置されたディスクと、上記回転軸をその径方向に
支持する空気軸受部と、上記ディスクの表裏面側に位置
しかつそのディスクを介して互いに向かい合うように配
設されたアキシャル電磁石と、上記回転軸の端面側でそ
の回転軸のアキシャル方向の位置を検出する回転軸用セ
ンサ部と、上記回転軸の軸心方向に沿って上記ブレード
の表面までの距離を検出するブレード用センサ部と、上
記回転軸用センサ部からの検出値及び上記ブレード用セ
ンサ部からの検出値に応じて予め設定された目標値を変
更する目標値変更手段と、上記回転軸用センサ部又はブ
レード用センサ部からの検出値が上記目標値変更手段に
よる変更前の目標値又は変更後の目標値と等しくなるよ
うに上記アキシャル電磁石を励磁する磁気軸受制御部と
を備えることを特徴とする。
が取り付けられた回転軸と、この回転軸の外周面に一体
に取り付けられると共にその回転軸の軸心に対して略垂
直に設置されたディスクと、上記回転軸をその径方向に
支持する空気軸受部と、上記ディスクの表裏面側に位置
しかつそのディスクを介して互いに向かい合うように配
設されたアキシャル電磁石と、上記回転軸の端面側でそ
の回転軸のアキシャル方向の位置を検出する回転軸用セ
ンサ部と、上記回転軸の軸心方向に沿って上記ブレード
の表面までの距離を検出するブレード用センサ部と、上
記回転軸用センサ部からの検出値及び上記ブレード用セ
ンサ部からの検出値に応じて予め設定された目標値を変
更する目標値変更手段と、上記回転軸用センサ部又はブ
レード用センサ部からの検出値が上記目標値変更手段に
よる変更前の目標値又は変更後の目標値と等しくなるよ
うに上記アキシャル電磁石を励磁する磁気軸受制御部と
を備えることを特徴とする。
【００１１】
【作用】請求項１及び２に記載の発明によれば、回転軸
がその軸方向に伸縮変形したときは、回転軸のアキシャ
ル方向の位置が目標値になるまで、回転軸が前進又は後
退して、回転軸の伸縮変形を吸収補正する。
がその軸方向に伸縮変形したときは、回転軸のアキシャ
ル方向の位置が目標値になるまで、回転軸が前進又は後
退して、回転軸の伸縮変形を吸収補正する。
【００１２】
【実施例】以下、この発明に係るダイシングスピンドル
装置の一実施例について図１を基に説明する。なお、従
来と同一部材には同一符号を付す。
装置の一実施例について図１を基に説明する。なお、従
来と同一部材には同一符号を付す。
【００１３】このダイシングスピンドル装置は、ケーシ
ング１の内部に回転軸２を、ケーシング１の外部にブレ
ード３を有し、ブレード３は回転軸２に比し小さな径の
小径部４を介して回転軸２の先端に取り付けられてい
る。
ング１の内部に回転軸２を、ケーシング１の外部にブレ
ード３を有し、ブレード３は回転軸２に比し小さな径の
小径部４を介して回転軸２の先端に取り付けられてい
る。
【００１４】また、上記回転軸２の外周面にはディスク
５が一体に取り付けられていると共に、このディスク５
は回転軸２の後端側に位置し、かつその回転軸２の軸心
に対して略垂直に設置されている。
５が一体に取り付けられていると共に、このディスク５
は回転軸２の後端側に位置し、かつその回転軸２の軸心
に対して略垂直に設置されている。
【００１５】さらに、上記ディスク５から回転軸２の先
端までの間には空気軸受部６が設けられており、この空
気軸受部６は回転軸２の断面上下及び左右方向等から回
転軸２の外周面へとエアーを供給し、このエアーで回転
軸２をその径方向に支持するように構成されている。
端までの間には空気軸受部６が設けられており、この空
気軸受部６は回転軸２の断面上下及び左右方向等から回
転軸２の外周面へとエアーを供給し、このエアーで回転
軸２をその径方向に支持するように構成されている。
【００１６】一方、上記ディスク５の表裏面側にはアキ
シャル電磁石７，８がそれぞれ設けられていると共に、
これらのアキシャル電磁石７，８はディスク５を介して
互いに向かい合うように配設されている。
シャル電磁石７，８がそれぞれ設けられていると共に、
これらのアキシャル電磁石７，８はディスク５を介して
互いに向かい合うように配設されている。
【００１７】また、上記回転軸２の先端面とブレード３
との間には回転軸用センサ部９が設けられており、この
回転軸用センサ部９は回転軸２の端面側で回転軸２のア
キシャル方向の位置を検出すると共に、その検出値ｈを
磁気軸受制御部１０へと出力するように構成されてい
る。
との間には回転軸用センサ部９が設けられており、この
回転軸用センサ部９は回転軸２の端面側で回転軸２のア
キシャル方向の位置を検出すると共に、その検出値ｈを
磁気軸受制御部１０へと出力するように構成されてい
る。
【００１８】ところで、磁気軸受制御部１０は比較器１
１，ＰＩＤ演算器１２及び電力増幅器１３から構成され
ており、比較器１１は回転軸用センサ部９からの検出値
ｈと予め設定された目標値ｈ1 との偏差σを求める。Ｐ
ＩＤ演算器１２は比較器１１で求めた偏差σを基に回転
軸用センサ部９での検出値ｈが目標値ｈ1 と等しくなる
ような値を演算する。電力増幅器１３はＰＩＤ演算器１
２での演算結果に基づいてアキシャル電磁石７，８を励
磁する。即ち、このような磁気軸受制御部１０は回転軸
用センサ部９からの検出値ｈが予め設定された目標値ｈ
1 と等しくなるようにアキシャル電磁石７，８を励磁す
るよう構成されている。
１，ＰＩＤ演算器１２及び電力増幅器１３から構成され
ており、比較器１１は回転軸用センサ部９からの検出値
ｈと予め設定された目標値ｈ1 との偏差σを求める。Ｐ
ＩＤ演算器１２は比較器１１で求めた偏差σを基に回転
軸用センサ部９での検出値ｈが目標値ｈ1 と等しくなる
ような値を演算する。電力増幅器１３はＰＩＤ演算器１
２での演算結果に基づいてアキシャル電磁石７，８を励
磁する。即ち、このような磁気軸受制御部１０は回転軸
用センサ部９からの検出値ｈが予め設定された目標値ｈ
1 と等しくなるようにアキシャル電磁石７，８を励磁す
るよう構成されている。
【００１９】次に、上記の如く構成されたダイシングス
ピンドル装置の動作について図１を基に説明する。
ピンドル装置の動作について図１を基に説明する。
【００２０】このダイシングスピンドル装置によれば、
空気軸受部６を作動させると、空気軸受部６からのエア
ーにより回転軸２がその径方向に支持される。また、磁
気軸受制御部１０を起動させると、回転軸用センサ部９
からの検出値ｈと予め設定された目標値ｈ1 とが等しく
なるようにアキシャル電磁石７，８が励磁され、このア
キシャル電磁石７，８の磁力がディスク５の表裏面に作
用し、回転軸２がその軸方向に支持される。即ち、回転
軸２はそのアキシャル方向の位置が常に目標値ｈ1 とな
るように支持される。
空気軸受部６を作動させると、空気軸受部６からのエア
ーにより回転軸２がその径方向に支持される。また、磁
気軸受制御部１０を起動させると、回転軸用センサ部９
からの検出値ｈと予め設定された目標値ｈ1 とが等しく
なるようにアキシャル電磁石７，８が励磁され、このア
キシャル電磁石７，８の磁力がディスク５の表裏面に作
用し、回転軸２がその軸方向に支持される。即ち、回転
軸２はそのアキシャル方向の位置が常に目標値ｈ1 とな
るように支持される。
【００２１】このため、装置の稼働中に、空気軸受部６
等からの発熱で、回転軸２が膨脹し、その回転軸２の先
端面がブレード側に向かって伸び、その結果、回転軸２
のアキシャル方向の位置が目標値ｈ1 を下回ったとき
は、回転軸２のアキシャル方向の位置が目標値ｈ1 にな
るまで、回転軸２が図中矢印イで示す方向へと瞬時に後
退する。逆に、回転軸２が収縮し、回転軸２の先端面が
縮み、その結果、回転軸２のアキシャル方向の位置が目
標値ｈ1 を上回ったときは、回転軸２のアキシャル方向
の位置が目標値ｈ1 になるまで、回転軸２が図中矢印ロ
で示す方向に瞬時に前進する。
等からの発熱で、回転軸２が膨脹し、その回転軸２の先
端面がブレード側に向かって伸び、その結果、回転軸２
のアキシャル方向の位置が目標値ｈ1 を下回ったとき
は、回転軸２のアキシャル方向の位置が目標値ｈ1 にな
るまで、回転軸２が図中矢印イで示す方向へと瞬時に後
退する。逆に、回転軸２が収縮し、回転軸２の先端面が
縮み、その結果、回転軸２のアキシャル方向の位置が目
標値ｈ1 を上回ったときは、回転軸２のアキシャル方向
の位置が目標値ｈ1 になるまで、回転軸２が図中矢印ロ
で示す方向に瞬時に前進する。
【００２２】即ち、この装置では、回転軸２の軸方向に
関する伸縮変形は上記のような回転軸２の前後移動で吸
収補正し、この補正により、回転軸２の先端に取り付け
たブレード３はシリコンウエハ等のワークに対して常に
略一定の切断開始位置に設定される。
関する伸縮変形は上記のような回転軸２の前後移動で吸
収補正し、この補正により、回転軸２の先端に取り付け
たブレード３はシリコンウエハ等のワークに対して常に
略一定の切断開始位置に設定される。
【００２３】したがって、上記のような実施例の装置に
よれば、回転軸がその軸方向に伸縮変形したときは、回
転軸のアキシャル方向の位置が目標値になるまで、回転
軸が前進又は後退して、回転軸の伸縮変形を吸収補正す
るため、このような伸縮変形の吸収補正には従来のよう
に温度管理された冷却水は不要であり、温度管理に要す
る温度コントローラ等を省略できる。また、１日の水温
変化に応じて冷却水の流量設定値を変化させる手間も省
略できる。
よれば、回転軸がその軸方向に伸縮変形したときは、回
転軸のアキシャル方向の位置が目標値になるまで、回転
軸が前進又は後退して、回転軸の伸縮変形を吸収補正す
るため、このような伸縮変形の吸収補正には従来のよう
に温度管理された冷却水は不要であり、温度管理に要す
る温度コントローラ等を省略できる。また、１日の水温
変化に応じて冷却水の流量設定値を変化させる手間も省
略できる。
【００２４】図２は、請求項２に記載の発明に係るダイ
シングスピンドル装置の一実施例を示すもので、上記実
施例と同一部材には同一符号を付し、その詳細説明は省
略する。
シングスピンドル装置の一実施例を示すもので、上記実
施例と同一部材には同一符号を付し、その詳細説明は省
略する。
【００２５】同図に示すダイシングスピンドル装置は回
転軸２の先端面とブレード３との間に回転軸用センサ部
９及びブレード用センサ部１４を有し、回転軸用センサ
部９は回転軸２の端面側で回転軸２のアキシャル方向の
位置を検出すると共に、第１の増幅器１５を介しその検
出値ｈを目標値変更部１７へ出力するように構成されて
おり、ブレード用センサ部１４は回転軸２の軸心方向に
沿ってブレード３の表面までの距離を検出すると共に、
第２の増幅器１６を介しその検出値ｈを目標値変更部１
７へ出力するように構成されている。
転軸２の先端面とブレード３との間に回転軸用センサ部
９及びブレード用センサ部１４を有し、回転軸用センサ
部９は回転軸２の端面側で回転軸２のアキシャル方向の
位置を検出すると共に、第１の増幅器１５を介しその検
出値ｈを目標値変更部１７へ出力するように構成されて
おり、ブレード用センサ部１４は回転軸２の軸心方向に
沿ってブレード３の表面までの距離を検出すると共に、
第２の増幅器１６を介しその検出値ｈを目標値変更部１
７へ出力するように構成されている。
【００２６】また、上記目標値変更部１７は第１及び第
２の演算器１８，１９を有し、その第１の演算器１８
は、第１の増幅器１５からの出力、即ち回転軸用センサ
部９からの検出値ｈを比較器１１へ出力すると共に、そ
の検出値に応じて予め設定された第１の目標値ｈ1 を第
２の目標値ｈ2 に変更するように構成されており、第２
の演算器１９は、第２の増幅器１６からの出力、即ちブ
レード用センサ部１４からの検出値ｈを比較器１１へ出
力すると共に、その検出値ｈに応じて上記第２の目標値
ｈ2 を第１の目標値1 に変更するように構成されてい
る。なお、第１の目標値ｈ1 とは回転軸用センサ部９か
ら回転軸２先端面までの距離に相当する値であり、第２
の目標値ｈ2 とはブレード用センサ部１４からブレード
３表面までの距離に相当する値である。
２の演算器１８，１９を有し、その第１の演算器１８
は、第１の増幅器１５からの出力、即ち回転軸用センサ
部９からの検出値ｈを比較器１１へ出力すると共に、そ
の検出値に応じて予め設定された第１の目標値ｈ1 を第
２の目標値ｈ2 に変更するように構成されており、第２
の演算器１９は、第２の増幅器１６からの出力、即ちブ
レード用センサ部１４からの検出値ｈを比較器１１へ出
力すると共に、その検出値ｈに応じて上記第２の目標値
ｈ2 を第１の目標値1 に変更するように構成されてい
る。なお、第１の目標値ｈ1 とは回転軸用センサ部９か
ら回転軸２先端面までの距離に相当する値であり、第２
の目標値ｈ2 とはブレード用センサ部１４からブレード
３表面までの距離に相当する値である。
【００２７】次に、上記の如く構成されたダイシングス
ピンドル装置の動作について説明する。なお、空気軸受
部６の作動により回転軸２がその径方向に支持されるこ
とは上記実施例と同様なため、その詳細説明は省略す
る。
ピンドル装置の動作について説明する。なお、空気軸受
部６の作動により回転軸２がその径方向に支持されるこ
とは上記実施例と同様なため、その詳細説明は省略す
る。
【００２８】このダイシングスピンドル装置によれば、
磁気軸受制御部１０を起動させた時点では、この磁気軸
受制御部１０により、回転軸用センサ部９からの検出値
ｈが変更前の目標値、即ち第１の目標値ｈ1 と等しくな
るようにアキシャル電磁石７，８が励磁され、このアキ
シャル電磁石７，８の磁力がディスク５の表裏面に作用
し、回転軸２がその軸方向に支持される。
磁気軸受制御部１０を起動させた時点では、この磁気軸
受制御部１０により、回転軸用センサ部９からの検出値
ｈが変更前の目標値、即ち第１の目標値ｈ1 と等しくな
るようにアキシャル電磁石７，８が励磁され、このアキ
シャル電磁石７，８の磁力がディスク５の表裏面に作用
し、回転軸２がその軸方向に支持される。
【００２９】また、上記の如く回転軸用センサ部９から
の検出値ｈと目標値ｈ1 とが等しくなった時点で、即
ち、回転軸用センサ部９からの検出値ｈに応じて、第１
の演算器１９が第１の目標値ｈ1 を第２の目標値ｈ2 に
変更する。そして、磁気軸受制御部１０では、ブレード
用センサ部１４からの検出値ｈが変更後の目標値、即ち
第２の目標値ｈ2 と等しくなるようにアキシャル電磁石
７，８を励磁し、このアキシャル電磁石７，８の磁力が
ディスク５の表裏面に作用し、回転軸２がその軸方向に
支持される。つまり、回転軸２はブレード３の表面とブ
レード用センサ部１４との距離が常に第２の目標値ｈ2
となるように支持される。
の検出値ｈと目標値ｈ1 とが等しくなった時点で、即
ち、回転軸用センサ部９からの検出値ｈに応じて、第１
の演算器１９が第１の目標値ｈ1 を第２の目標値ｈ2 に
変更する。そして、磁気軸受制御部１０では、ブレード
用センサ部１４からの検出値ｈが変更後の目標値、即ち
第２の目標値ｈ2 と等しくなるようにアキシャル電磁石
７，８を励磁し、このアキシャル電磁石７，８の磁力が
ディスク５の表裏面に作用し、回転軸２がその軸方向に
支持される。つまり、回転軸２はブレード３の表面とブ
レード用センサ部１４との距離が常に第２の目標値ｈ2
となるように支持される。
【００３０】このため、装置の稼働中に、空気軸受部６
等からの発熱で、回転軸２が膨脹し、その回転軸２の先
端面がブレード側に向かって伸び、その結果、ブレード
３の表面とブレード用センサ部１４との距離が第２の目
標値ｈ2 を下回ったときは、その距離が第２の目標値ｈ
2 になるまで、回転軸２が図中矢印イで示す方向へと瞬
時に後退する。逆に、回転軸２が収縮し、回転軸２の先
端面が縮み、その結果、ブレード３の表面とブレード用
センサ部１４との距離が第２の目標値ｈ2 を上回ったと
きは、その距離が第２の目標値ｈ2 になるまで、回転軸
２が図中矢印ロで示す方向に瞬時に前進する。
等からの発熱で、回転軸２が膨脹し、その回転軸２の先
端面がブレード側に向かって伸び、その結果、ブレード
３の表面とブレード用センサ部１４との距離が第２の目
標値ｈ2 を下回ったときは、その距離が第２の目標値ｈ
2 になるまで、回転軸２が図中矢印イで示す方向へと瞬
時に後退する。逆に、回転軸２が収縮し、回転軸２の先
端面が縮み、その結果、ブレード３の表面とブレード用
センサ部１４との距離が第２の目標値ｈ2 を上回ったと
きは、その距離が第２の目標値ｈ2 になるまで、回転軸
２が図中矢印ロで示す方向に瞬時に前進する。
【００３１】即ち、この装置でも、回転軸２の軸方向に
関する伸縮変形は上記のような回転軸２の前後移動で吸
収補正し、この補正により、回転軸２の先端に取り付け
たブレード３はシリコンウエハ等のワークに対して常に
略一定の切断開始位置に設定される。
関する伸縮変形は上記のような回転軸２の前後移動で吸
収補正し、この補正により、回転軸２の先端に取り付け
たブレード３はシリコンウエハ等のワークに対して常に
略一定の切断開始位置に設定される。
【００３２】
【発明の効果】この発明に係るダイシングスピンドル装
置によれば、上記の如く回転軸がその軸方向に伸縮変形
したときは、回転軸のアキシャル方向の位置が目標値に
なるまで、回転軸が前進又は後退して、回転軸の伸縮変
形を吸収補正するため、このような伸縮変形の吸収補正
には温度管理された冷却水は不要であり、温度管理に要
する温度コントローラ等を省略できるので、装置のコス
ト低減が図れる。また、１日の水温変化に応じて冷却水
の流量設定値を変化させる手間も省略でき、装置の使い
勝手が向上する。
置によれば、上記の如く回転軸がその軸方向に伸縮変形
したときは、回転軸のアキシャル方向の位置が目標値に
なるまで、回転軸が前進又は後退して、回転軸の伸縮変
形を吸収補正するため、このような伸縮変形の吸収補正
には温度管理された冷却水は不要であり、温度管理に要
する温度コントローラ等を省略できるので、装置のコス
ト低減が図れる。また、１日の水温変化に応じて冷却水
の流量設定値を変化させる手間も省略でき、装置の使い
勝手が向上する。
【００３３】なお、請求項２に記載の発明にあっても上
記と同様な効果が得られる。
記と同様な効果が得られる。
【図１】この発明に係るダイシングスピンドル装置の断
面図。
面図。
【図２】この発明に係るダイシングスピンドル装置の他
の実施例を示す断面図。
の実施例を示す断面図。
【図３】従来のダイシングスピンドル装置の断面図。
２ 回転軸 ５ ディスク ６ 空気軸受部 ７ アキシャル電磁石 ８ アキシャル電磁石 ９ 回転軸用センサ部 １０ 磁気軸受制御部 １４ ブレード用センサ部 １７ 目標値変更部
Claims (2)
- 【請求項１】 先端にブレードが取り付けられた回転軸
と、この回転軸の外周面に一体に取り付けられると共に
その回転軸の軸心に対して略垂直に設置されたディスク
と、上記回転軸をその径方向に支持する空気軸受部と、
上記ディスクの表裏面側に位置しかつそのディスクを介
して互いに向かい合うように配設されたアキシャル電磁
石と、上記回転軸の端面側でその回転軸のアキシャル方
向の位置を検出する回転軸用センサ部と、このセンサ部
からの検出値が予め設定された目標値と等しくなるよう
に上記アキシャル電磁石を励磁する磁気軸受制御部とを
備えることを特徴とするダイシングスピンドル装置。 - 【請求項２】 先端にブレードが取り付けられた回転軸
と、この回転軸の外周面に一体に取り付けられると共に
その回転軸の軸心に対して略垂直に設置されたディスク
と、上記回転軸をその径方向に支持する空気軸受部と、
上記ディスクの表裏面側に位置しかつそのディスクを介
して互いに向かい合うように配設されたアキシャル電磁
石と、上記回転軸の端面側でその回転軸のアキシャル方
向の位置を検出する回転軸用センサ部と、上記回転軸の
軸心方向に沿って上記ブレードの表面までの距離を検出
するブレード用センサ部と、上記回転軸用センサ部から
の検出値及び上記ブレード用センサ部からの検出値に応
じて予め設定された目標値を変更する目標値変更手段
と、上記回転軸用センサ部又はブレード用センサ部から
の検出値が上記目標値変更手段による変更前の目標値又
は変更後の目標値と等しくなるように上記アキシャル電
磁石を励磁する磁気軸受制御部とを備えることを特徴と
するダイシングスピンドル装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29727392A JPH06143092A (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | ダイシングスピンドル装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29727392A JPH06143092A (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | ダイシングスピンドル装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06143092A true JPH06143092A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17844392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29727392A Pending JPH06143092A (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | ダイシングスピンドル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06143092A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100986496B1 (ko) * | 2007-02-02 | 2010-10-08 | 도시바 기카이 가부시키가이샤 | 롤 가공 장치 |
| JP2013050149A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Nsk Ltd | エアスピンドル |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4930193A (ja) * | 1972-07-31 | 1974-03-18 | ||
| JPH02279254A (ja) * | 1989-04-21 | 1990-11-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 工作機械の工具位置の温度補償装置 |
-
1992
- 1992-11-06 JP JP29727392A patent/JPH06143092A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4930193A (ja) * | 1972-07-31 | 1974-03-18 | ||
| JPH02279254A (ja) * | 1989-04-21 | 1990-11-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 工作機械の工具位置の温度補償装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100986496B1 (ko) * | 2007-02-02 | 2010-10-08 | 도시바 기카이 가부시키가이샤 | 롤 가공 장치 |
| JP2013050149A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Nsk Ltd | エアスピンドル |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990728 |