JPH06137289A - 真空ポンプ及び真空処理装置 - Google Patents

真空ポンプ及び真空処理装置

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Publication number
JPH06137289A
JPH06137289A JP29110692A JP29110692A JPH06137289A JP H06137289 A JPH06137289 A JP H06137289A JP 29110692 A JP29110692 A JP 29110692A JP 29110692 A JP29110692 A JP 29110692A JP H06137289 A JPH06137289 A JP H06137289A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
pump
sensor
vacuum chamber
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP29110692A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Fukuyama
博 福山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
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Publication of JPH06137289A publication Critical patent/JPH06137289A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空装置で、真空室の真空排気時に、発生す
るゴミの巻き上げの低減を図る。 【構成】 この真空ポンプは、真空室用センサー11、
真空排気配管のセンサー12のようなセンサー部と、そ
れぞれの信号を処理し、ポンプ本体に制御信号を送るフ
ィードバック部13、フィードバック制御されるポンプ
本体14から構成されており、真空室15を真空排気す
る。 【効果】 低真空では低回転、高真空になっていくのに
追従し、高回転へとポンプ本体14が、運転されるた
め、真空室15内の圧力変動は小さく、気流の巻き上げ
によるゴミは低減される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、真空排気する真空ポ
ンプに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、真空装置では、気流の動きによる
ゴミの巻き上げを防ぐ目的で、真空室(処理室)を大気
圧から、真空排気する場合、急激な圧力変動を低減する
「スロー排気機構」を有するものが用いられる。尚、従
来技術の例を図4に示す。従来の「スロー排気機構」で
は、ポンプ本体14から運転開始時、まずスロー排気バ
ルブ41が開き、真空室内を小径の配管で排気し、ある
時間、または、ある真空度に達した後、スロー排気バル
ブ41が閉じ、メインバルブ21が開き、大径の配管で
排気する方式がとられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来のスロー
排気機構では、段階的な真空引きが行われ、圧力も、そ
の段階で急激に変動し、真空室内では、反応による生成
物(ゴミ)が気流で巻き上げられることがある。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明の真空ポンプ
は、真空室、または、真空排気配管、もしくは、その両
方での真空度を感知するセンサー部と、この信号を処理
してポンプ本体を制御するフィードバック部と、フィー
ドバック制御により回転を可変する真空ポンプ本体を有
する。
【0005】
【作用】上記の構成により、 (1)センサー部は、真空室、真空排気配管の真空度を
感知し、伝達する。
【0006】(2)フィードバック部はセンサーからの
信号を処理し、真空ポンプ本体を最適な回転数で運転す
るように制御する。
【0007】(3)真空ポンプ本体では、フィードバッ
ク部により制御され、回転数が可変される。これによ
り、低真空では、低回転、高真空では、高回転というよ
うに運転される。
【0008】(4)したがってゴミが気流で巻き上げら
れることを防止する。
【0009】
【実施例】図1は、この発明の一例の真空ポンプであ
り、基本的な例である。11は真空室用センサー、12
は真空排気配管用センサーであり、それぞれ、真空室、
真空排気配管での真空度を感知し、信号に変換するもの
である。
【0010】また、センサー11,12での真空度に異
常な差があった場合、装置異常(例えば、配管でのリー
ク)の可能性があるので、アラームを発する。それぞれ
の信号はフィードバック部13により処理され、ポンプ
本体14へ制御信号を出し、制御する。ポンプ本体14
は、連続的に回転は可変し、低真空から高真空へスムー
ズに運転される。これにより、真空室15内でのゴミ巻
き上げは低減される。
【0011】
【実施例2】図2は、第2の実施例である。これは簡易
的な真空装置の例で、真空排気を開始するとメインバル
ブ21が開き、真空室用センサー11からの信号に応
じ、フィードバック部13により制御され、ポンプ本体
14は運転される。処理用のガスは反応ガス導入部22
より導入される。この場合も、実施例1と同様、真空室
15内でのゴミは低減される。
【0012】
【実施例3】図3は、枚葉式プラズマエッチング装置の
例である。この例では、真空中の真空室15に上部電極
32、下部電極33があり、反応ガス導入部22より反
応ガスが供給された後、RF発振器35より、RF(高
周波)が発振され、RF印加部34に印加される。これ
により、下部電極33に置かれたウェーハはエッチング
処理される。この例の特徴は、高真空を得るため、真空
室用センサー11と真空排気配管用センサー12からの
信号をフィード・バック部13で、処理し、低真空か高
真空に推移するに応じ、ポンプ本体14に加えて、高真
空補助ポンプ31が、スタートし、短時間で、安定した
真空状態をつくり出すことである。
【0013】また、実施例1と同様にセンサー11と1
2での真空度に異常な差があった場合、装置異常(例え
ば、配管のリーク)の可能性があるのでアラームを発す
ることができる。
【0014】
【発明の効果】以上説明のように、この発明は、真空度
は、真空度をフィード・バック制御し、かつ回転数を連
続的に可変運転する真空ポンプで、ゴミの巻き上げの低
減ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施例の真空ポンプ
【図2】 この発明の第2の実施例の簡易的な真空装置
での真空ポンプ
【図3】 この発明の第3の実施例の枚葉式プラズマエ
ッチング装置での真空ポンプ
【図4】 従来の真空装置での真空ポンプの例
【符号の説明】
11 真空室センサー 12 真空排気配管用センサー 13 フィードバック部 14 ポンプ本体 15 真空室 16 真空排気配管 21 メインバルブ 22 反応ガス導入部 31 高真空補助ポンプ 32 上部電極 33 下部電極 34 RF印加部 35 RF発振器 41 スロー排気バルブ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空度に追従し、回転数が可変することを
    特徴とする真空ポンプ。
  2. 【請求項2】真空度センサーを真空室または、真空排気
    配管、もしくは、その両方に設け、真空度をフィード・
    バックすることを特徴とする請求項1記載の真空ポン
    プ。
  3. 【請求項3】真空に引かれる処理室と、処理室もしくは
    その排気管もしくはその双方に配置した真空度センサー
    と、 前記真空度センサーの信号に応じて回転速度を可変する
    真空ポンプを備えた真空処理装置。
JP29110692A 1992-10-29 1992-10-29 真空ポンプ及び真空処理装置 Pending JPH06137289A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104541061A (zh) * 2012-07-19 2015-04-22 阿迪克森真空产品公司 用于泵浦加工室的方法和设备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104541061A (zh) * 2012-07-19 2015-04-22 阿迪克森真空产品公司 用于泵浦加工室的方法和设备

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