JPH0613319A - 気相成長装置用クリーニング方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】反応容器内面の汚れを抑制しつつクリーニング
を行うことができる気相成長装置用クリーニング方法を
提供する。 【構成】反応容器１１内でクリーニング対象物であるサ
セプタ４及びトレー８と反応容器１１との中間に中間筒
体２２を配置した状態で、サセプタ４及びトレー８のク
リーニングを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ウエハの表面にＧａＡ
ｓ等の薄膜を形成する気相成長装置のトレーやサセプタ
等のクリーニング対象物のクリーニングを行う気相成長
装置用クリーニング方法及び装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図８は、従来の気相成長装置の構成を示
したものである。図において、１は気相成長用の反応容
器、２は反応容器１の上部に設けた原料ガス供給口、３
は反応容器１の下部に設けた排気口、４は反応容器１の
内部に配置したサセプタ、５はサセプタ４の回転・昇降
軸、６は回転・昇降軸５を回転するモータ、７は回転・
昇降軸５を昇降するモータ、８はサセプタ４上に載置さ
れているトレー、９はトレー８上に載置されているウエ
ハ、１０は反応容器１の外周に配置されている誘導加熱
コイルよりなる加熱手段である。

【０００３】このような気相成長装置では、加熱手段１
０でサセプタ４を加熱しつつ、且つサセプタ４をモータ
６で回転しつつ、原料ガス供給口２より原料ガスを供給
し、ウエハ９の上面に薄膜を気相成長させる。

【０００４】このようにして気相成長を行っていくと、
その都度徐々にサセプタ４やトレー８の表面に原料ガス
による反応生成物が付着して汚れていく。サセプタ４や
トレー８を汚れたままにしておくと、その後の気相成長
作業時に汚れの付着物が剥離して舞い上がり、ウエハ９
に付着したりして、ウエハ９の品質低下を招く問題点が
ある。

【０００５】図９は、汚れたサセプタ４やトレー８等の
クリーニング対象物のドライクリーニングを行うクリー
ニング装置の従来例を示したものである。図において、
１１はクリーニング用の反応容器、１２は配管１３を経
てクリーニング用ガスを反応容器１１内に供給するクリ
ーニング用ガス供給口、１４は反応容器１１の底板部１
１ａに設けた排気口、１５は圧力制御弁１６を介して排
気口１４に接続されている真空ポンプ、１７は反応容器
１１内で汚れたサセプタ４やトレー８を支持してその回
転・昇降を行う回転・昇降軸、１８は回転・昇降軸１７
を回転するモータ、１９は回転・昇降軸１７を昇降する
モータ、２０ａ，２０ｂは反応容器１１の外周に配置さ
れている１対の板状のプラズマ用電極である。プラズマ
用電極２０ａは高周波電源２１に接続され、プラズマ用
電極２０ｂは接地されている。

【０００６】次に、このような装置によるクリーニング
対象物のドライクリーニング方法について説明する。ク
リーニング対象物である汚れたサセプタ４やトレー８を
反応容器１１内にセットし、該反応容器１１内を真空ポ
ンプ１５で真空引きする。また、クリーニング用ガス供
給口１２より反応容器１１内にクリーニング用ガスを供
給する。反応容器１１内の圧力をプラズマ発生を行える
圧力になるように圧力制御弁１６で制御する。かかる状
態で、プラズマ用電極２０ａ，２０ｂ間に高周波電源２
１から高周波電圧を印加すると、反応容器１１内にプラ
ズマが発生し、このプラズマによりサセプタ４やトレー
８の汚れを分解し、気化させる。この汚れの分解ガスを
クリーニング用ガス供給口１２よりのクリーニング用ガ
スの流れで反応容器１１内の下側に導き、真空ポンプ１
５で吸取り、図示しない除害処理装置で無害化させて排
出する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなクリーニング方法では、反応容器１１の内表面には
プラズマが発生し難いので、汚れ分解ガスが反応容器１
１の内表面に付着し、反応容器１１の内表面を汚す問題
点があった。このため反応容器１１自信をクリーニング
するという面倒なクリーニングの頻度が高くなる問題点
があった。反応容器１１の内面が汚れていると、サセプ
タ４やトレー８のクリーニング時に、反応容器１１の内
面の汚れが分解気化して、クリーニング雰囲気を悪化さ
せ、クリーニング効果を低下させることになり、好まし
くない。

【０００８】本発明の目的は、反応容器内面の汚れを抑
制しつつクリーニングを行うことができる気相成長装置
用クリーニング方法及び装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明の手段を説明すると、次の通りである。

【００１０】請求項１に記載の発明は、反応容器内にク
リーニング対象物を置き、前記クリーニング対象物の汚
れを気化させて除去する気相成長装置用クリーニング方
法において、前記反応容器内で前記クリーニング対象物
と該反応容器との中間に中間筒体を配置した状態で、前
記クリーニング対象物のクリーニングを行うことを特徴
とする。

【００１１】請求項２に記載の発明は、反応容器内にク
リーニング対象物を置き、前記クリーニング対象物の汚
れを気化させて除去する気相成長装置用クリーニング装
置において、前記反応容器内で前記クリーニング対象物
と該反応容器との中間に中間筒体が配置されていること
を特徴とする。

【００１２】

【作用】請求項１に記載の気相成長装置用クリーニング
方法のように、反応容器内でクリーニング対象物と該反
応容器との中間に中間筒体を配置した状態で、該クリー
ニング対象物のクリーニングを行うと、クリーニング対
象物の汚れの分解により発生した汚れガスが反応容器の
内表面側に移動しようとするのを、該中間筒体が阻止
し、該中間筒体を流れのガイドとして該汚れガスを排気
口より反応容器の外に排出することができる。従って、
汚れガスが反応容器の内表面に付着するのを抑制するこ
とができ、該反応容器のクリーニング頻度を低下させる
ことができる。

【００１３】請求項２に記載の気相成長装置用クリーニ
ング装置のように、反応容器内でクリーニング対象物と
該反応容器との中間に中間筒体を配置すると、クリーニ
ング時にクリーニング対象物の汚れの分解により発生し
た汚れガスが反応容器の内表面側に移動しようとするの
を、該中間筒体が阻止し、該中間筒体を流れのガイドと
して該汚れガスを排出することができる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の実施例を図を参照して詳細に
説明する。なお、前述した図９と対応する部分には、同
一符号を付けて示している。

【００１５】図１は、本発明に係るクリーニング装置の
第１実施例を示したものである。本実施例では、サセプ
タ４やトレー８等のクリーニング対象物のクリーニング
を行うに際し、これらサセプタ４やトレー８と反応容器
１１の内表面との中間に石英等からなる中間筒体２２を
配置する。該中間筒体２２は、円筒状又は四角，六角等
の角筒状を有し、その両開口部が上下に位置する向きで
配置する。

【００１６】次に、このような装置によるクリーニング
対象物のドライクリーニング方法について説明する。ク
リーニング対象物である汚れたサセプタ４やトレー８を
反応容器１１内にセットし、該反応容器１１内を真空ポ
ンプ１５で真空引きする。また、クリーニング用ガス供
給口１２より反応容器１１内にクリーニング用ガスを供
給する。反応容器１１内の圧力を、プラズマ発生を行え
る圧力になるように圧力制御弁１６を制御する。

【００１７】かかる状態で、プラズマ用電極２０ａ，２
０ｂ間に高周波電源２１から高周波電圧を印加すると、
反応容器１１内にプラズマが発生する。このとき中間筒
体２２がサセプタ４やトレー８と反応容器１１の内表面
との中間に位置しているので、プラズマは該中間筒体２
２の内外両表面にも発生する。

【００１８】このプラズマによりサセプタ４やトレー８
の汚れを分解し、気化させる。このとき中間筒体２２は
その内外両表面にプラズマが発生しているので、該中間
筒体２２は汚れガスの付着を阻止し、しかも反応容器１
１の内表面側への汚れガスの移動も阻止する。

【００１９】この汚れガスをクリーニング用ガス供給口
１２よりのクリーニング用ガスの流れと、中間筒体２２
のガイド作用により、反応容器１１内の下側に導き、真
空ポンプ１５で吸取り、図示しない除害処理装置で無害
化させて排出する。クリーニング後のサセプタ４やトレ
ー８は、反応容器１１内をパージガスでパージしてから
取り出す。反応容器１１から排出される有害ガスを含む
パージガスも除害処理装置で無害化させて排出する。

【００２０】プラズマを用いてドライクリーニングを行
う場合、ＧａＡｓ系の汚れに対しては、塩素系，ハロゲ
ン系のクリーニング用ガスを使用すると効果がある。ま
た、なるべく高い圧力で、且つプラズマのパワーも高い
方がクリーニング効果が大きいが、一般に圧力は10^-5To
rr以上、パワーは10Ｗ以上を使用する。

【００２１】実験結果 ＧａＡｓ系の汚れが付いたトレー８を塩素ガスを用いて
クリーニングした。圧力は約１Torr、高周波プラズマの
パワーは300 Ｗ、塩素ガス10 l/minをアルゴンガスで濃
度が50％となるように希釈してクリーニングした。その
結果、約５分でトレー８の汚れの処理が終了した。中間
筒体２２の有無で反応容器１１の内表面側の汚れに差が
でた。

【００２２】図２は、反応容器１１を透明な石英ガラス
で形成した場合、中間筒体２２の有無によるクリーニン
グ後の反応容器１１の透明度の差を示す。この図は、ク
リーニングした回数と、その都度レーザ光を反応容器１
１に照射し、透過した光量を測定した結果を示したもの
である。

【００２３】図から明らかなように、本発明のクリーニ
ング方法によれば、クリーニング後の汚れの付着量は、
従来のクリーニング方法の約１／４であった。

【００２４】図３は、気相成長装置の反応容器１から汚
れたサセプタ４やトレー８を大気に触れさせずにクリー
ニング装置の反応容器１１に移動してクリーニングを行
う例を示したものである。

【００２５】図において、２３は反応容器１の下にゲー
トバルブ２４を介して接続されているサセプタ退避容
器、２５は反応容器１とサセプタ退避容器２３とにバル
ブ２６ａ，２６ｂを介して接続されている真空ポンプ、
２６ｃは真空ポンプ２５の排出口に接続されている除害
処理装置である。

【００２６】２７はサセプタ退避容器２３にゲートバル
ブ２８を介して接続された搬入・搬出容器、２９は搬入
・搬出容器２７の搬入・搬出口、３０は搬入・搬出口２
９の開閉蓋、３１は搬入・搬出容器２７にバルブ３２を
介して接続されている真空ポンプである。

【００２７】３３は反応容器１１内の圧力を検出して圧
力制御弁１６に弁制御信号を与える圧力計、３４は真空
ポンプ１５の排出口に接続されている除害処理装置、３
５は反応容器１１の下にゲートバルブ３６を介して接続
されているサセプタ退避容器である。該サセプタ退避容
器３５には、バルブ１００を介して真空ポンプ３１が接
続されている。３７は搬入・搬出容器２７とサセプタ退
避容器３５との接続部に設けられているゲートバルブ、
３８はサセプタ４，トレー８，ウエハ９等の搬送を行う
搬送アーム、３９は搬送アーム３８を駆動する搬送アー
ム駆動モータ、２００は圧力計３３と圧力制御弁１６と
の間の排気管２０１の途中に接続されているバルブであ
る。

【００２８】次に、このような装置の操作について説明
する。反応容器１内でウエハ２４に対して気相成長が終
了したら、バルブ２６ａを開け、真空ポンプ２５を作動
し、原料ガス供給口２からパージガスを流し、反応容器
１内の原料ガスのパージを行う。反応容器１から真空ポ
ンプ２５を経て排出されるガスは除害処理装置２６ｃで
無害化させて排出する。

【００２９】反応容器１内のパージが終了したらバルブ
２６ａを閉じ、回転・昇降軸５を下降させ、サセプタ４
等が搬入・搬出容器２７に対向する位置にする。サセプ
タ４等の下降が終了したらゲートバルブ２４を閉じる。
この状態になったら、ゲートバルブ３６を閉じ、ゲート
バルブ２８，３７を開け、搬送アーム３８でサセプタ４
等を搬入・搬出容器２７に移動し、ゲートバルブ２８を
閉じ、開閉蓋３０を開けてウエハ９を取出す。このウエ
ハ９の取出し作業時には、図示しないが搬入・搬出口２
９の外に接続されている図示しない搬入・搬出室内を真
空引きしておいて、搬入・搬出容器２７内に空気が入ら
ないようにして行う。

【００３０】このときサセプタ４等のクリーニングが必
要の時には、ゲートバルブ２８を閉じ、バルブ３２，１
００を開け、真空ポンプ３１により搬入・搬出容器２７
及びサセプタ退避容器３５内を真空引きし、バルブ３
２，１００を閉じる。一方、バルブ２００を開き、真空
ポンプ１５により反応容器１１内を真空引きする。次
に、サセプタ４等を搬送アーム３８でサセプタ退避容器
３５内に移動し、該サセプタ４等を回転・昇降軸１７の
上に乗せる。次に、ゲートバルブ３７を閉じ、ゲートバ
ルブ３６を開け、回転・昇降軸１７を反応容器１１内に
上昇させる。かかる状態で、サセプタ４等のクリーニン
グを前述したようにして反応容器１１内で行う。

【００３１】クリーニングが終了したら反応容器１１内
のガスのパージを行い、回転・昇降軸１７の下降により
クリーニング済みのサセプタ４等をサセプタ退避容器３
５に移動し、ゲートバルブ３６，バルブ２００を閉じ、
ゲートバルブ３７を開け、搬送アーム３８でサセプタ４
等を搬入・搬出容器２７に移動し、サセプタ４上のトレ
ー８に搬入・搬出口２９からウエハ９を乗せる。

【００３２】かかる状態で、搬入・搬出口３０を閉じ、
バルブ３２，１００を開け、真空ポンプ３１で搬入・搬
出容器２７内及びサセプタ退避容器３５内を真空引きす
る。また、バルブ２６ｂを開け、真空ポンプ２５でサセ
プタ退避容器２３内を真空引きし、バルブ２６ｂを閉じ
る。その後、ゲートバルブ２８を開け、搬送アーム３８
でサセプタ４等をサセプタ退避容器２３に移動し、該サ
セプタ４等を回転・昇降軸５の上に乗せる。その後、搬
送アーム３８をサセプタ退避容器３５側に退避させ、ゲ
ートバルブ２８，３７を閉じる。

【００３３】次に、ゲートバルブ２４を開け、回転・昇
降軸５を上昇させ、サセプタ４等を反応容器１内に位置
させ、気相成長作業に入る。

【００３４】図４（Ａ）〜（Ｃ）は、プラズマでクリー
ニングを行なう場合に反応容器１１の外周に設けるプラ
ズマ用電極の他の例を示したものである。

【００３５】図４（Ａ）では、反応容器１１の外周にプ
ラズマ用電極２０を螺旋状に設け、その一端を高周波電
源２１に接続し、他端を接地している。

【００３６】図４（Ｂ）では、反応容器１１の外周にリ
ング状のプラズマ用電極２０ａ，２０ｂを互いに平行す
る向きで設け、一方のプラズマ用電極２０ａを高周波電
源２１に接続し、他方のプラズマ用電極２０ｂを接地し
ている。

【００３７】図４（Ｃ）では、Ｔ型の反応容器１１を用
い、該反応容器１１の外周にプラズマ用電極２０を螺旋
状に設け、その一端を高周波電源２１に接続し、他端を
接地している。

【００３８】図５（Ａ）（Ｂ）は、サセプタ４等のクリ
ーニングを、中間筒体２２を内蔵する反応容器１１内で
該サセプタ４等を加熱することにより行なうクリーニン
グ装置の例を示したものである。

【００３９】図５（Ａ）では反応容器１１の外に加熱源
としてランプヒータ４０を設け、図５（Ｂ）では反応容
器１１の外に加熱源として高周波加熱コイル４１及び該
コイル４１に給電する高周波電源４２を設けている。

【００４０】このように加熱源で反応容器１１内のサセ
プタ４等を加熱すると、該サセプタ４等の表面の汚れが
熱分解されてガス化される。このとき中間筒体２２も一
緒に加熱され、温度が高い状態にあるので、サーモフォ
レシス効果により汚れガスが付きにくい状態にあり、し
かも該中間筒体２２により汚れガスが反応容器１１の内
表面側へ移動するのを阻止する。従って、汚れガスは、
上方のクリーニング用ガス供給口１２から供給されるク
リーニングガスの流れと、中間筒体２２のガイド作用に
より、下方に流され前述した排気口１４より排出され
る。

【００４１】図６は、サセプタ４等のクリーニングを、
中間筒体２２を内蔵する反応容器１１内でプラズマを発
生させ、且つ該サセプタ４等を加熱することにより行な
うクリーニング装置の例を示したものである。即ち、こ
の実施例では、図４（Ｂ）と図５（Ｂ）との構造を組み
合わせた例を示したものである。

【００４２】図７は、反応容器１１内の中間筒体２２を
横向きにし、且つプラズマ用電極２０ａ，２０ｂを反応
容器１１内の上下に配置したクリーニング装置の例を示
したものである。

【００４３】上記実施例では、クリーニング用の反応容
器１１内に中間筒体２２を配置してクリーニングを行な
う例について説明したが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、気相成長用の反応容器１内に中間筒体２２
を配置してクリーニングを行なうこともできる。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、下
記の効果を得ることができる。

【００４５】請求項１に記載の気相成長装置用クリーニ
ング方法では、反応容器内でクリーニング対象物と該反
応容器との中間に中間筒体を配置した状態で、該クリー
ニング対象物のクリーニングを行うので、クリーニング
対象物の汚れの分解により発生した汚れガスが反応容器
の内表面側に移動しようとするのを、該中間筒体が阻止
し、該中間筒体を流れのガイドとして該汚れガスを排気
口より反応容器の外に排出することができる。従って、
汚れガスが反応容器の内表面に付着するのを抑制でき、
該反応容器のクリーニング頻度を低下させることがで
き、稼働率を上げることができる。

【００４６】請求項２に記載の気相成長装置用クリーニ
ング装置では、反応容器内でクリーニング対象物と該反
応容器との中間に中間筒体を配置したので、クリーニン
グ時にクリーニング対象物の汚れの分解により発生した
汚れガスが反応容器の内表面側に移動しようとするの
を、該中間筒体が阻止し、該中間筒体を流れのガイドと
して該汚れガスを排出することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る気相成長装置用クリーニング装置
の一例の縦断面図である。

【図２】反応容器内に中間筒体を配置してクリーニング
を行なった場合と、反応容器内に中間筒体を配置せずに
クリーニングを行なった場合の、クリーニング回数と反
応容器のレーザ光強度減衰率の関係を示す線図である。

【図３】本発明に係る気相成長装置用クリーニング装置
の他の例の縦断面図である。

【図４】（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は本発明のクリーニング装
置で用いるプラズマ用電極の他の３種の例を示した側面
図及び縦断面図である。

【図５】（Ａ）（Ｂ）は本発明に係る気相成長装置用ク
リーニング装置の他の２種の例を示す縦断面図である。

【図６】本発明に係る気相成長装置用クリーニング装置
の他の例を示す縦断面図である。

【図７】本発明に係る気相成長装置用クリーニング装置
の他の例を示す縦断面図である。

【図８】従来の気相成長装置を示す縦断面図である。

【図９】従来のクリーニング装置を示す縦断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 反応容器 ２ 原料ガス供給口 ３ 排気口 ４ サセプタ ５ 回転・昇降軸 ６，７ モータ ８ トレー ９ ウエハ １０ 加熱手段 １１ 反応容器 １２ クリーニング用ガス供給口 １３ 配管 １４ 排気口 １５ 真空ポンプ １６ 圧力制御弁 １７ 回転・昇降軸 １８，１９ モータ ２０ａ，２０ｂ プラズマ用電極 ２１ 高周波電源 ２２ 中間筒体 ２３ サセプタ退避容器 ２４ ゲートバルブ ２５ 真空ポンプ ２６ａ，２６ｂ バルブ ２６ｃ 除害処理装置 ２７ 搬入・搬出装置 ２８ ゲートバルブ ２９ 搬入・搬出口 ３０ 開閉蓋 ３１ 真空ポンプ ３２ バルブ ３３ 圧力計 ３４ 除害処理装置 ３５ サセプタ退避容器 ３６，３７ ゲートバルブ ３８ 搬送アーム ３９ 搬送アーム駆動モータ ４０ ランプヒータ ４１ 高周波加熱コイル ４２ 高周波電源 １００，２００ バルブ

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成４年７月９日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１２】

【作用】請求項１に記載の気相成長装置用クリーニング
方法のように、反応容器内でクリーニング対象物と該反
応容器との中間である化学活性種の存在が多い空間内に
中間筒体を配置した状態で、該クリーニング対象物のク
リーニングを行うと、前記活性種との反応によりクリー
ニング対象物の汚れの分解により発生した汚れガスが反
応容器の内表面側に移動しようとするのを、該中間筒体
が阻止し、該中間筒体を流れのガイドとして該汚れガス
を排気口より反応容器の外に排出することができる。従
って、汚れガスが反応容器の内表面に付着するのを抑制
することができ、該反応容器のクリーニング頻度を低下
させることができる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１３】請求項２に記載の気相成長装置用クリーニ
ング装置のように、反応容器内でクリーニング対象物と
該反応容器との中間である化学活性種の存在が多い空間
内に中間筒体を配置すると、クリーニング時に前記活性
種との反応によりクリーニング対象物の汚れの分解によ
り発生した汚れガスが反応容器の内表面側に移動しよう
とするのを、該中間筒体が阻止し、該中間筒体を流れの
ガイドとして該汚れガスを排出することができる。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１８】このプラズマにより発生する化学活性種と
の反応によりサセプタ４やトレー８の汚れを分解し、気
化させる。このとき中間筒体２２はその内外両表面にプ
ラズマが発生しているので、該中間筒体２２は汚れガス
の付着を阻止し、しかも反応容器１１の内表面側への汚
れガスの移動も阻止する。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３８】図５（Ａ）（Ｂ）は、サセプタ４等のクリ
ーニングを、中間筒体２２を内蔵する反応容器１１内で
該サセプタ４等を加熱することにより行なうクリーニン
グ装置の例を示したものである。この場合でも、中間筒
体２２は、反応容器１１内でクリーニング対象物と該反
応容器１１との中間である化学活性種の存在が多い空間
内に配置されている。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４５】請求項１に記載の気相成長装置用クリーニ
ング方法では、反応容器内でクリーニング対象物と該反
応容器との中間である化学活性種の存在が多い空間内に
中間筒体を配置した状態で、該クリーニング対象物のク
リーニングを行うので、前記活性種との反応によりクリ
ーニング対象物の汚れの分解により発生した汚れガスが
反応容器の内表面側に移動しようとするのを、該中間筒
体が阻止し、該中間筒体を流れのガイドとして該汚れガ
スを排気口より反応容器の外に排出することができる。
従って、汚れガスが反応容器の内表面に付着するのを抑
制でき、該反応容器のクリーニング頻度を低下させるこ
とができ、稼働率を上げることができる。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４６】請求項２に記載の気相成長装置用クリーニ
ング装置では、反応容器内でクリーニング対象物と該反
応容器との中間である化学活性種の存在が多い空間内に
中間筒体を配置したので、クリーニング時に前記活性種
との反応によりクリーニング対象物の汚れの分解により
発生した汚れガスが反応容器の内表面側に移動しようと
するのを、該中間筒体が阻止し、該中間筒体を流れのガ
イドとして該汚れガスを排出することができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反応容器内にクリーニング対象物を置
   き、前記クリーニング対象物の汚れを気化させて除去す
   る気相成長装置用クリーニング方法において、 前記反応容器内で前記クリーニング対象物と該反応容器
   との中間に中間筒体を配置した状態で、前記クリーニン
   グ対象物のクリーニングを行うことを特徴とする気相成
   長装置用クリーニング方法。
2. 【請求項２】 反応容器内にクリーニング対象物を置
   き、前記クリーニング対象物の汚れを気化させて除去す
   る気相成長装置用クリーニング装置において、 前記反応容器内で前記クリーニング対象物と該反応容器
   との中間に中間筒体が配置されていることを特徴とする
   気相成長装置用クリーニング装置。