JPH06128750A - 真空処理装置の高周波電極 - Google Patents
真空処理装置の高周波電極Info
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- JPH06128750A JPH06128750A JP4306510A JP30651092A JPH06128750A JP H06128750 A JPH06128750 A JP H06128750A JP 4306510 A JP4306510 A JP 4306510A JP 30651092 A JP30651092 A JP 30651092A JP H06128750 A JPH06128750 A JP H06128750A
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- plate
- electrode
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】シャワープレート上に突起を作らず、しかもシ
ャワープレートの熱変形を無くする真空処理装置の高周
波電極を提供する。 【構成】加熱ヒータで加熱される基板と対向するように
配置された放電電極を、ボトムプレート２の周縁部に立
設された電極枠３を覆うようにシャワープレート７を配
置して構成した高周波電極において、前記シャワープレ
ート７の周縁部に、シャワープレート７とで隙間を形成
するようにスライドアングル１５を設けると共に、電極
枠３の上端部に上記スライドアングル１５を摺動自在に
挟持する隙間を設け、また上記ボトムプレート３上に複
数個の板バネ１２をその板バネ１２の撓み方向を前記シ
ャワープレート７の中心付近から周辺方向へ向けて設け
ると共に、その板バネ１２にシャワープレート固定具１
３を取付け、更にそのシャワープレート固定具１３に前
記シャワープレート７を固定する。
ャワープレートの熱変形を無くする真空処理装置の高周
波電極を提供する。 【構成】加熱ヒータで加熱される基板と対向するように
配置された放電電極を、ボトムプレート２の周縁部に立
設された電極枠３を覆うようにシャワープレート７を配
置して構成した高周波電極において、前記シャワープレ
ート７の周縁部に、シャワープレート７とで隙間を形成
するようにスライドアングル１５を設けると共に、電極
枠３の上端部に上記スライドアングル１５を摺動自在に
挟持する隙間を設け、また上記ボトムプレート３上に複
数個の板バネ１２をその板バネ１２の撓み方向を前記シ
ャワープレート７の中心付近から周辺方向へ向けて設け
ると共に、その板バネ１２にシャワープレート固定具１
３を取付け、更にそのシャワープレート固定具１３に前
記シャワープレート７を固定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はプラズマＣＶＤ装置、
エッチング装置等の真空処理装置の高周波電極に関する
ものである。
エッチング装置等の真空処理装置の高周波電極に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマＣＶＤ装置、エッチング装置等
の真空処理装置は、真空槽内に高周波電極と基板とを対
向して配置し、更に、その基板の背後に加熱ヒーターを
配置し、その加熱ヒーターからの熱で基板を加熱するよ
うにしている。このような真空処理装置の高周波電極の
従来例が図６および図７に示されている。これらの図に
おいて、内部にガス導入通路１ａをもつ高周波導入軸１
の先端部にはボトムプレート２が固定され、そのボトム
プレート２の周縁部には電極枠３が立設され、更に、そ
の電極枠３の一端には多数のガス噴出口４ａを持つシャ
ワープレート４がシャワープレート押え板５を介してネ
ジ６により取り付けられている。また、ボトムプレート
２の背後にはこれと隙間をもってアースプレート７が配
置され、更に、そのアースプレート７の周縁部にはアー
スシールド８が立設され、そのアースシールド８は硝子
９によって電極枠３と隙間を持ち、アースプレート７と
アースシールド８とがアース電位になっている。なお、
図中、１０は硝子である。
の真空処理装置は、真空槽内に高周波電極と基板とを対
向して配置し、更に、その基板の背後に加熱ヒーターを
配置し、その加熱ヒーターからの熱で基板を加熱するよ
うにしている。このような真空処理装置の高周波電極の
従来例が図６および図７に示されている。これらの図に
おいて、内部にガス導入通路１ａをもつ高周波導入軸１
の先端部にはボトムプレート２が固定され、そのボトム
プレート２の周縁部には電極枠３が立設され、更に、そ
の電極枠３の一端には多数のガス噴出口４ａを持つシャ
ワープレート４がシャワープレート押え板５を介してネ
ジ６により取り付けられている。また、ボトムプレート
２の背後にはこれと隙間をもってアースプレート７が配
置され、更に、そのアースプレート７の周縁部にはアー
スシールド８が立設され、そのアースシールド８は硝子
９によって電極枠３と隙間を持ち、アースプレート７と
アースシールド８とがアース電位になっている。なお、
図中、１０は硝子である。
【０００３】このような真空処理装置の高周波電極にお
いて、高周波導入軸１のガス導入通路１ａを流れるガス
をシャワープレート４のガス噴出口４ａより真空槽内に
噴出させる一方で、高周波導入軸１に高周波電力を印加
すると、シャワープレート４が高電圧になり、基板とシ
ャワープレート４との間で放電が起こり、プラズマが発
生し、基板上に膜が形成されたり、または、基板上の膜
がエッチングされたりする。その場合、基板は加熱ヒー
ターからの熱で加熱されるが、同時に、シャワープレー
ト４も加熱ヒーターからの輻射熱によって加熱され、シ
ャワープレート４が熱膨張しようとする。
いて、高周波導入軸１のガス導入通路１ａを流れるガス
をシャワープレート４のガス噴出口４ａより真空槽内に
噴出させる一方で、高周波導入軸１に高周波電力を印加
すると、シャワープレート４が高電圧になり、基板とシ
ャワープレート４との間で放電が起こり、プラズマが発
生し、基板上に膜が形成されたり、または、基板上の膜
がエッチングされたりする。その場合、基板は加熱ヒー
ターからの熱で加熱されるが、同時に、シャワープレー
ト４も加熱ヒーターからの輻射熱によって加熱され、シ
ャワープレート４が熱膨張しようとする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空処理装置の
高周波電極は、上記のようにシャワープレート４が加熱
ヒーターからの輻射熱によって加熱され、熱膨張しよう
とする。しかしながら、シャワープレート４はシャワー
プレート押え板５を介してネジ６によって電極枠３の一
端に取り付けられているため、シャワープレート４の熱
膨張は阻止され、シャワープレート４自身が熱変形する
ようになる。そのため、シャワープレート４の電位が不
均一になり、それが原因で、基板上に形成される膜の膜
厚および膜質分布が不均一になる問題があった。
高周波電極は、上記のようにシャワープレート４が加熱
ヒーターからの輻射熱によって加熱され、熱膨張しよう
とする。しかしながら、シャワープレート４はシャワー
プレート押え板５を介してネジ６によって電極枠３の一
端に取り付けられているため、シャワープレート４の熱
膨張は阻止され、シャワープレート４自身が熱変形する
ようになる。そのため、シャワープレート４の電位が不
均一になり、それが原因で、基板上に形成される膜の膜
厚および膜質分布が不均一になる問題があった。
【０００５】また、シャワープレート４を電極枠３の一
端にシャワープレート押え板５を介してネジ６で取り付
けることによって、シャワープレート４の上にシャワー
プレート押え板５が突起するようになる。そのため、シ
ャワープレート押え板５の突起により、シャワープレー
ト４の電位が不均一になり、それが原因で、基板上に形
成される膜の膜厚および膜質分布が不均一になる問題が
あった。
端にシャワープレート押え板５を介してネジ６で取り付
けることによって、シャワープレート４の上にシャワー
プレート押え板５が突起するようになる。そのため、シ
ャワープレート押え板５の突起により、シャワープレー
ト４の電位が不均一になり、それが原因で、基板上に形
成される膜の膜厚および膜質分布が不均一になる問題が
あった。
【０００６】この発明の目的は、従来の上記問題を解決
して、シャワープレート上に突起を作らず、しかもシャ
ワープレートの熱変形を無くすることの可能な真空処理
装置の高周波電極を提供することである。
して、シャワープレート上に突起を作らず、しかもシャ
ワープレートの熱変形を無くすることの可能な真空処理
装置の高周波電極を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、加熱ヒーターで加熱される基板と対向
するように配置される放電電極を、ボトムプレートの周
縁部に立設された電極枠を覆うようにシャワープレート
を配置して構成した真空処理装置の高周波電極におい
て、上記シャワープレートの周縁部に、シャワープレー
ト下面とで隙間を形成するようにスライドアングルを設
けると共に、上記電極枠の上端部に上記スライドアング
ルを摺動自在に挟持する隙間を設け、また、上記ボトム
プレート上に複数個の板バネを、その板バネの撓み方向
を上記シャワープレートの中心付近から周辺方向に向け
て設け、更に、そのシャワープレート固定具に上記シャ
ワープレートを固定したことを特徴とするものである。
に、この発明は、加熱ヒーターで加熱される基板と対向
するように配置される放電電極を、ボトムプレートの周
縁部に立設された電極枠を覆うようにシャワープレート
を配置して構成した真空処理装置の高周波電極におい
て、上記シャワープレートの周縁部に、シャワープレー
ト下面とで隙間を形成するようにスライドアングルを設
けると共に、上記電極枠の上端部に上記スライドアング
ルを摺動自在に挟持する隙間を設け、また、上記ボトム
プレート上に複数個の板バネを、その板バネの撓み方向
を上記シャワープレートの中心付近から周辺方向に向け
て設け、更に、そのシャワープレート固定具に上記シャ
ワープレートを固定したことを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】この発明においては、基板を加熱する加熱ヒー
ターの熱により、放電電極のシャワープレートが加熱さ
れて熱膨張する。しかしながら、シャワープレートは、
その周縁部に設けたスライドアングルが電極枠に摺動自
在に挟持されており、また撓み方向がシャワープレート
の中心付近から周辺方向に向けてボトムプレート上に設
けられた板バネに、シャワープレート固定具を介して固
定されているため、シャワープレートの熱膨張による伸
びは、電極枠に対するスライドアングルの摺動および板
バネの撓みによるシャワープレート固定具の移動により
シャワープレートの面方向に限って許容される。そのた
め、シャワープレートの熱膨張による熱変形が極力押さ
えられるようになる。また、シャワープレート固定具の
シャワープレートへの固定は皿ネジで締結できるので、
シャワープレート表面の突起をなくすことができる。
ターの熱により、放電電極のシャワープレートが加熱さ
れて熱膨張する。しかしながら、シャワープレートは、
その周縁部に設けたスライドアングルが電極枠に摺動自
在に挟持されており、また撓み方向がシャワープレート
の中心付近から周辺方向に向けてボトムプレート上に設
けられた板バネに、シャワープレート固定具を介して固
定されているため、シャワープレートの熱膨張による伸
びは、電極枠に対するスライドアングルの摺動および板
バネの撓みによるシャワープレート固定具の移動により
シャワープレートの面方向に限って許容される。そのた
め、シャワープレートの熱膨張による熱変形が極力押さ
えられるようになる。また、シャワープレート固定具の
シャワープレートへの固定は皿ネジで締結できるので、
シャワープレート表面の突起をなくすことができる。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。この発明の実施例は図１〜図５に示
されており、これらの図において、内部にガス導入通路
１ａをもつ高周波導入軸１の先端部にはボトムプレート
２が固定され、そのボトムプレート２の周縁部には電極
枠３が立設され、電極枠３によって四角形の形状が形成
されている。更に、多数のガス噴出口４ａを持つシャワ
ープレート４が四角形の電極枠３を覆うように配置され
ている。また、ボトムプレート２には複数のブラケット
１１が放射状に取り付けられ、そして、各ブラケット１
１には板バネ１２が固定されている。更に、各板バネ１
２にはシャワープレート固定具１３が取り付けられ、そ
して、これらのシャワープレート固定具１３にはシャワ
ープレート４が皿ネジ１４によって固定されている。ボ
トムプレート２の背後にはこれと隙間をもってアースプ
レート７が配置され、更に、そのアースプレート７の周
縁部にはアースシールド８が立設され、そのアースシー
ルド８は絶縁物９によって電極枠３と隙間を持ち、アー
スプレート７とアースシールド８とがアース電位になっ
ている。なお、図中、１０は絶縁物である。また、シャ
ワープレート４の周縁部下面にはスライドアングル１５
がシャワープレート４の下面との間に隙間１６を形成す
るように取り付けられ、ボトムプレート２の周縁部に立
設された電極枠３の周囲には電極アングル１７が電極枠
３の上面との間に隙間１８を形成するように取り付けら
れている。そして、これらスライドアングル１５および
電極アングルの刃部１５ａ、１７ａはそれぞれ隙間１
８、１６に摺動自在に挟まり、シャワープレート４と電
極枠３との間の気密性を保持できるようになっている。
しながら説明する。この発明の実施例は図１〜図５に示
されており、これらの図において、内部にガス導入通路
１ａをもつ高周波導入軸１の先端部にはボトムプレート
２が固定され、そのボトムプレート２の周縁部には電極
枠３が立設され、電極枠３によって四角形の形状が形成
されている。更に、多数のガス噴出口４ａを持つシャワ
ープレート４が四角形の電極枠３を覆うように配置され
ている。また、ボトムプレート２には複数のブラケット
１１が放射状に取り付けられ、そして、各ブラケット１
１には板バネ１２が固定されている。更に、各板バネ１
２にはシャワープレート固定具１３が取り付けられ、そ
して、これらのシャワープレート固定具１３にはシャワ
ープレート４が皿ネジ１４によって固定されている。ボ
トムプレート２の背後にはこれと隙間をもってアースプ
レート７が配置され、更に、そのアースプレート７の周
縁部にはアースシールド８が立設され、そのアースシー
ルド８は絶縁物９によって電極枠３と隙間を持ち、アー
スプレート７とアースシールド８とがアース電位になっ
ている。なお、図中、１０は絶縁物である。また、シャ
ワープレート４の周縁部下面にはスライドアングル１５
がシャワープレート４の下面との間に隙間１６を形成す
るように取り付けられ、ボトムプレート２の周縁部に立
設された電極枠３の周囲には電極アングル１７が電極枠
３の上面との間に隙間１８を形成するように取り付けら
れている。そして、これらスライドアングル１５および
電極アングルの刃部１５ａ、１７ａはそれぞれ隙間１
８、１６に摺動自在に挟まり、シャワープレート４と電
極枠３との間の気密性を保持できるようになっている。
【００１０】このような実施例において、高周波導入軸
１のガス導入通路１ａを流れるガスをシャワープレート
４のガス噴出口４ａより真空槽内に噴出させる一方で、
高周波導入軸１に高周波電力を印加すると、シャワープ
レート４が高電圧になり、基板とシャワープレート４と
の間で放電が起こり、プラズマが発生し、基板上に膜が
形成されたり、または、基板上の膜がエッチングされた
りする。その際、基板を加熱する加熱ヒーターからの輻
射熱によって、シャワープレート４が加熱され、シャワ
ープレート４が熱膨張する。
１のガス導入通路１ａを流れるガスをシャワープレート
４のガス噴出口４ａより真空槽内に噴出させる一方で、
高周波導入軸１に高周波電力を印加すると、シャワープ
レート４が高電圧になり、基板とシャワープレート４と
の間で放電が起こり、プラズマが発生し、基板上に膜が
形成されたり、または、基板上の膜がエッチングされた
りする。その際、基板を加熱する加熱ヒーターからの輻
射熱によって、シャワープレート４が加熱され、シャワ
ープレート４が熱膨張する。
【００１１】そのとき、シャワープレート４の熱膨張に
伴い、ボトムプレート２に取り付けられたブラケット１
１に固定されている板バネ１２がシャワープレート４の
面方向に撓んでシャワープレート固定具１３が移動する
と共に、電極枠３と電極アングル１７とで形成された隙
間１８に挟持されたスライドアングル１が隙間１８内で
摺動する。そのため、シャワープレート４の熱膨張によ
る熱変形が極力押さえられる。また、シャワープレート
固定具１３のシャワープレート４への固定は、皿ネジ１
４で締結されるので、シャワープレート４の表面の突起
をなくすることができ、シャワープレート４の表面の平
面度を保つことが可能になる。
伴い、ボトムプレート２に取り付けられたブラケット１
１に固定されている板バネ１２がシャワープレート４の
面方向に撓んでシャワープレート固定具１３が移動する
と共に、電極枠３と電極アングル１７とで形成された隙
間１８に挟持されたスライドアングル１が隙間１８内で
摺動する。そのため、シャワープレート４の熱膨張によ
る熱変形が極力押さえられる。また、シャワープレート
固定具１３のシャワープレート４への固定は、皿ネジ１
４で締結されるので、シャワープレート４の表面の突起
をなくすることができ、シャワープレート４の表面の平
面度を保つことが可能になる。
【００１２】ところで、上記実施例は、ブラケット１
１、板バネ１２、シャワープレート固定具１３を放射状
に配置しているが、電極の大きさによっては、これらを
対角線方向にだけ配置してもよい。また、電極の形状は
四角形になっているが、円形であっても良い。
１、板バネ１２、シャワープレート固定具１３を放射状
に配置しているが、電極の大きさによっては、これらを
対角線方向にだけ配置してもよい。また、電極の形状は
四角形になっているが、円形であっても良い。
【００１３】
【発明の効果】この発明は、上記のようにシャワープレ
ートの熱膨張に呼応して、シャワープレート固定具が板
バネの撓みによりシャワープレートの面方向に移動し、
スライドアングルが電極枠に対して気密性を保って摺動
するため、シャワープレートの熱膨張による熱変形が極
力押さえられる。また、シャワープレート固定具のシャ
ワープレートへの固定は皿ネジで締結されるので、シャ
ワープレート表面の突起をなくすることができ、シャワ
ープレート表面の平面度を保つことが出来る。したがっ
て、シャワープレート上に突起を作らず、しかもシャワ
ープレートの熱変形を無くすることが可能になり、シャ
ワープレートの電位が均一化して、基板上に形成される
膜の膜厚および膜質分布が均一になる。
ートの熱膨張に呼応して、シャワープレート固定具が板
バネの撓みによりシャワープレートの面方向に移動し、
スライドアングルが電極枠に対して気密性を保って摺動
するため、シャワープレートの熱膨張による熱変形が極
力押さえられる。また、シャワープレート固定具のシャ
ワープレートへの固定は皿ネジで締結されるので、シャ
ワープレート表面の突起をなくすることができ、シャワ
ープレート表面の平面度を保つことが出来る。したがっ
て、シャワープレート上に突起を作らず、しかもシャワ
ープレートの熱変形を無くすることが可能になり、シャ
ワープレートの電位が均一化して、基板上に形成される
膜の膜厚および膜質分布が均一になる。
【図１】この発明の実施例の平面図
【図２】この発明の実施例の断面図
【図３】図２のＡ部の詳細立面図
【図４】図２のＡ部の詳細平面図
【図５】図２のＢ部の詳細立面図
【図６】従来の真空処理装置の高周波電極の平面図
【図７】従来の真空処理装置の高周波電極の断面図
１・・・・・・・高周波導入軸 １ａ・・・・・・ガス導入通路 ２・・・・・・・ボトムプレート ３・・・・・・・電極枠 ４・・・・・・・シャワープレート ４ａ・・・・・・ガス噴出口 ７・・・・・・・アースプレート ８・・・・・・・アースシールド ９・・・・・・・絶縁物 １０・・・・・・絶縁物 １１・・・・・・ブラケット １２・・・・・・板バネ １３・・・・・・シャワープレート固定具 １４・・・・・・皿ネジ １５・・・・・・スライドアングル １７・・・・・・電極アングル
フロントページの続き (72)発明者 清水 康男 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 一山 政博 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 諏訪 秀則 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 黒川 邦明 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 小形 英之 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】加熱ヒーターで加熱される基板と対向する
ように配置される放電電極を、ボトムプレートの周縁部
に立設された電極枠を覆うようにシャワープレートを配
置して構成した真空処理装置の高周波電極において、上
記シャワープレートの周縁部に、シャワープレート下面
とで隙間を形成するようにスライドアングルを設けると
共に、上記電極枠の上端部に上記スライドアングルを摺
動自在に挟持する隙間を設け、また、上記ボトムプレー
ト上に複数個の板バネを、その板バネの撓み方向を上記
シャワープレートの中心付近から周辺方向に向けて設
け、更に、そのシャワープレート固定具に上記シャワー
プレートを固定したことを特徴とする真空処理装置の高
周波電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30651092A JP3155844B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 真空処理装置の高周波電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30651092A JP3155844B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 真空処理装置の高周波電極 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06128750A true JPH06128750A (ja) | 1994-05-10 |
| JP3155844B2 JP3155844B2 (ja) | 2001-04-16 |
Family
ID=17957900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30651092A Expired - Lifetime JP3155844B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 真空処理装置の高周波電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3155844B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2005256172A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-22 | Applied Materials Inc | 可動又は柔軟なシャワーヘッド取り付け |
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| CN113261390A (zh) * | 2019-01-07 | 2021-08-13 | 株式会社爱发科 | 真空处理装置 |
-
1992
- 1992-10-20 JP JP30651092A patent/JP3155844B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
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