JPH06128564A - ビスマスオキシハライド蛍光体および放射線増感スクリーン - Google Patents
ビスマスオキシハライド蛍光体および放射線増感スクリーンInfo
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Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線などの放射線に感度が高く、可視光領域
あるいは近紫外領域の発光を示す新規な蛍光体を提供す
る。 【構成】 ＢｉＯＸ：ｙＡｃ （ただし、ＸはＦ、ＣｌおよびＢｒからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２の
範囲の数値である）で表わされるビスマスオキシハライ
ド蛍光体、およびこの蛍光体を用いた放射線増感スクリ
ーン。
あるいは近紫外領域の発光を示す新規な蛍光体を提供す
る。 【構成】 ＢｉＯＸ：ｙＡｃ （ただし、ＸはＦ、ＣｌおよびＢｒからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２の
範囲の数値である）で表わされるビスマスオキシハライ
ド蛍光体、およびこの蛍光体を用いた放射線増感スクリ
ーン。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なビスマスオキシ
ハライド蛍光体、および該蛍光体を用いる放射線増感ス
クリーンに関するものである。
ハライド蛍光体、および該蛍光体を用いる放射線増感ス
クリーンに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】放射線増感スクリーンは、単に増感スク
リーンあるいは増感紙とも呼ばれ、医療診断を目的とす
るＸ線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊検査を
目的とする工業用放射線撮影などの種々の分野における
放射線撮影において、撮影系の感度を向上させるため
に、放射線写真フィルム（たとえば、Ｘ線写真フィル
ム）の片面あるいは両面に密着させるように重ね合わせ
て使用するものである。
リーンあるいは増感紙とも呼ばれ、医療診断を目的とす
るＸ線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊検査を
目的とする工業用放射線撮影などの種々の分野における
放射線撮影において、撮影系の感度を向上させるため
に、放射線写真フィルム（たとえば、Ｘ線写真フィル
ム）の片面あるいは両面に密着させるように重ね合わせ
て使用するものである。
【０００３】この放射線増感スクリーンは、基本構造と
して、支持体と、その片面に設けられた蛍光体層とを有
する。この蛍光体層の支持体とは反対側の表面（支持体
に面していない側の表面）には一般に、プラスチックフ
ィルムなどからなる透明な保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護し
ている。保護膜は通常、別途形成した薄膜を接着剤を用
いて接合することにより蛍光体層上に付設されている。
して、支持体と、その片面に設けられた蛍光体層とを有
する。この蛍光体層の支持体とは反対側の表面（支持体
に面していない側の表面）には一般に、プラスチックフ
ィルムなどからなる透明な保護膜が設けられていて、蛍
光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護し
ている。保護膜は通常、別途形成した薄膜を接着剤を用
いて接合することにより蛍光体層上に付設されている。
【０００４】蛍光体層は、蛍光体粒子と、該粒子を分散
状態で含有支持する結合剤とからなるものであり、この
蛍光体粒子は、Ｘ線などの放射線によって励起された時
に高輝度の発光を示す性質を有するものである。従っ
て、被写体を通過した放射線の量に応じて蛍光体は高輝
度の発光を示し、放射線増感スクリーンの蛍光体層の表
面に接するようにして重ね合わされて置かれた放射線写
真フィルムは、この発光によっても感光するため、比較
的少ない放射線量で放射線フィルムの充分な感光を達成
することができる。そして、放射線フィルム上には被写
体の放射線像が形成される。
状態で含有支持する結合剤とからなるものであり、この
蛍光体粒子は、Ｘ線などの放射線によって励起された時
に高輝度の発光を示す性質を有するものである。従っ
て、被写体を通過した放射線の量に応じて蛍光体は高輝
度の発光を示し、放射線増感スクリーンの蛍光体層の表
面に接するようにして重ね合わされて置かれた放射線写
真フィルムは、この発光によっても感光するため、比較
的少ない放射線量で放射線フィルムの充分な感光を達成
することができる。そして、放射線フィルム上には被写
体の放射線像が形成される。
【０００５】放射線写真撮影に用いられる放射線増感ス
クリーンは、一般に被写体、特に人体の被曝線量をでき
る限り低減させるために、第一に感度が少しでも高いこ
とが望まれる。また、得られる画像は、鮮鋭度、粒状性
等などの画質が高いものであることが望まれる。
クリーンは、一般に被写体、特に人体の被曝線量をでき
る限り低減させるために、第一に感度が少しでも高いこ
とが望まれる。また、得られる画像は、鮮鋭度、粒状性
等などの画質が高いものであることが望まれる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、特に放射線
増感スクリーンに用いる蛍光体として有用な新規な蛍光
体を提供することを目的とする。本発明はまた、特に感
度の優れた放射線増感スクリーンを提供することも、そ
の目的とする。
増感スクリーンに用いる蛍光体として有用な新規な蛍光
体を提供することを目的とする。本発明はまた、特に感
度の優れた放射線増感スクリーンを提供することも、そ
の目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】次式（Ｉ）： ＢｉＯＸ：ｙＡｃ …（Ｉ） （ただし、ＸはＦ、ＣｌおよびＢｒからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２
（好ましくは、≦０．００１≦ｙ≦０．１、さらに好ま
しくは０．００２≦ｙ≦０．０５）の範囲の数値であ
る）で表わされるビスマスオキシハライド蛍光体。
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２
（好ましくは、≦０．００１≦ｙ≦０．１、さらに好ま
しくは０．００２≦ｙ≦０．０５）の範囲の数値であ
る）で表わされるビスマスオキシハライド蛍光体。
【０００８】支持体と、その片面に設けられた蛍光体層
とを含む放射線増感スクリーンであって、蛍光体層に含
まれる蛍光体が、上記（Ｉ）式で表わされるビスマスオ
キシハライド蛍光体であることを特徴とする放射線増感
スクリーン。
とを含む放射線増感スクリーンであって、蛍光体層に含
まれる蛍光体が、上記（Ｉ）式で表わされるビスマスオ
キシハライド蛍光体であることを特徴とする放射線増感
スクリーン。
【０００９】本発明の新規なビスマスオキシハライド蛍
光体は、たとえば、次に記載するような製造法により製
造することができる。
光体は、たとえば、次に記載するような製造法により製
造することができる。
【００１０】まず、蛍光体原料として、 １）Ｂｉ2 Ｏ3 （ただし、場合によっては、Ｂｉ2 Ｏ3
の代わりに、例えばシュウ酸塩、炭酸塩等の高温で容易
に酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）に変わりうるビスマス化
合物を用いてもよい） ２）Ｆ、ＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種のハロ
ゲンを供与する少なくとも一種のハロゲン供与剤、およ
び ３）Ｅｕ、Ｔｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の希土類元素の化合物（ハロゲン化
物、酸化物、硝酸塩、硫酸塩など）が用いられる。
の代わりに、例えばシュウ酸塩、炭酸塩等の高温で容易
に酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）に変わりうるビスマス化
合物を用いてもよい） ２）Ｆ、ＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種のハロ
ゲンを供与する少なくとも一種のハロゲン供与剤、およ
び ３）Ｅｕ、Ｔｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の希土類元素の化合物（ハロゲン化
物、酸化物、硝酸塩、硫酸塩など）が用いられる。
【００１１】上記２）のハロゲン供与剤としては、例え
ばハロゲン化アンモニウム（ＮＨ4Ｘ）、水溶液あるい
は気体状態のハロゲン化水素（ＨＸ）、そしてハロゲン
化ビスマス（ＢｉＸ3 ）を挙げることができる（ただ
し、上記各化学式中のＸはＦ、ＣｌあるいはＢｒであ
る）。なお、ハロゲン供与剤として上記ハロゲン化ビス
マスが用いられる場合には、このハロゲン供与剤は得ら
れる蛍光体の母体を構成するハロゲンを供与すると同時
に、同じく蛍光体の母体を構成するビスマスの一部ある
いは全部をも供与する。
ばハロゲン化アンモニウム（ＮＨ4Ｘ）、水溶液あるい
は気体状態のハロゲン化水素（ＨＸ）、そしてハロゲン
化ビスマス（ＢｉＸ3 ）を挙げることができる（ただ
し、上記各化学式中のＸはＦ、ＣｌあるいはＢｒであ
る）。なお、ハロゲン供与剤として上記ハロゲン化ビス
マスが用いられる場合には、このハロゲン供与剤は得ら
れる蛍光体の母体を構成するハロゲンを供与すると同時
に、同じく蛍光体の母体を構成するビスマスの一部ある
いは全部をも供与する。
【００１２】まず最初に、上記１）〜３）の蛍光体原料
を所定量用いて蛍光体原料混合物を調製する。３）の希
土類元素化合物は、前記の式（Ｉ）に対応する化学量論
量で用いられる。すなわち、１）の酸化ビスマス（Ｂｉ
2 Ｏ3 ）０．５モル（すなわち、ビスマス１モル）に対
して希土類元素がｙモルとなるように混合する。混合に
は各種ミキサー、Ｖ型ブレンダー、ボールミル、ロッド
ミルなどの通常の混合機が用いられる。
を所定量用いて蛍光体原料混合物を調製する。３）の希
土類元素化合物は、前記の式（Ｉ）に対応する化学量論
量で用いられる。すなわち、１）の酸化ビスマス（Ｂｉ
2 Ｏ3 ）０．５モル（すなわち、ビスマス１モル）に対
して希土類元素がｙモルとなるように混合する。混合に
は各種ミキサー、Ｖ型ブレンダー、ボールミル、ロッド
ミルなどの通常の混合機が用いられる。
【００１３】次に、このようにして得られた蛍光体原料
混合物を石英ボート、アルミナルるつぼ、石英るつぼな
どの耐熱性容器に充填し、電気炉中で焼成を行なう。な
お、焼成に先だって、予めその焼成よりも低い温度で蛍
光体原料混合物に熱処理を加え、ＢｉＯＸ結晶を形成し
ておいてもよい。焼成温度は５００〜１０００℃が適当
であり、好ましくは６００〜８００℃である。焼成時間
は、上記蛍光体原料混合物あるいはその熱処理物の耐熱
性容器への充填量および焼成温度などによっても異なる
が、一般には０．５〜２０時間が適当であり、好ましく
は１〜５時間である。焼成雰囲気としては、少量の水素
ガスを含有する窒素ガス雰囲気、一酸化炭素を含有する
二酸化炭素雰囲気などの弱還元性雰囲気；あるいは窒素
ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気などの中性雰囲気が利
用される。
混合物を石英ボート、アルミナルるつぼ、石英るつぼな
どの耐熱性容器に充填し、電気炉中で焼成を行なう。な
お、焼成に先だって、予めその焼成よりも低い温度で蛍
光体原料混合物に熱処理を加え、ＢｉＯＸ結晶を形成し
ておいてもよい。焼成温度は５００〜１０００℃が適当
であり、好ましくは６００〜８００℃である。焼成時間
は、上記蛍光体原料混合物あるいはその熱処理物の耐熱
性容器への充填量および焼成温度などによっても異なる
が、一般には０．５〜２０時間が適当であり、好ましく
は１〜５時間である。焼成雰囲気としては、少量の水素
ガスを含有する窒素ガス雰囲気、一酸化炭素を含有する
二酸化炭素雰囲気などの弱還元性雰囲気；あるいは窒素
ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気などの中性雰囲気が利
用される。
【００１４】なお、上記の焼成条件で一度焼成を行なっ
たのち、その焼成物を電気炉から取り出して放冷後粉砕
し、その後にその焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填し
て電気炉に入れ再焼成を行なってもよい。再焼成におけ
る焼成雰囲気としては、上記と同様に弱還元性雰囲気あ
るいは中性雰囲気を利用することができる。焼成処理に
よって得られた焼成物は通常粉砕され、これによって粉
末状の蛍光体が得られる。なお得られた粉末状の蛍光体
については、必要に応じて、さらに洗浄、乾燥、ふるい
分けなどの蛍光体の製造における各種の一般的な操作を
行なってもよい。
たのち、その焼成物を電気炉から取り出して放冷後粉砕
し、その後にその焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填し
て電気炉に入れ再焼成を行なってもよい。再焼成におけ
る焼成雰囲気としては、上記と同様に弱還元性雰囲気あ
るいは中性雰囲気を利用することができる。焼成処理に
よって得られた焼成物は通常粉砕され、これによって粉
末状の蛍光体が得られる。なお得られた粉末状の蛍光体
については、必要に応じて、さらに洗浄、乾燥、ふるい
分けなどの蛍光体の製造における各種の一般的な操作を
行なってもよい。
【００１５】以上のようにして、次式（Ｉ）： ＢｉＯＸ：ｙＡｃ …（Ｉ） （ただし、ＸはＦ、ＣｌおよびＢｒからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２の
範囲の数値である）で表わされるビスマスオキシハライ
ド蛍光体が得られる。
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２の
範囲の数値である）で表わされるビスマスオキシハライ
ド蛍光体が得られる。
【００１６】本発明の放射線増感スクリーンは、蛍光体
として上記の新規なビスマスオキシハライド蛍光体を用
いる点に特徴があり、放射線増感スクリーンの構成は従
来公知の構成をとることができる。従って、本発明の放
射線増感スクリーンは、たとえば次に述べるような方法
により製造することができる。
として上記の新規なビスマスオキシハライド蛍光体を用
いる点に特徴があり、放射線増感スクリーンの構成は従
来公知の構成をとることができる。従って、本発明の放
射線増感スクリーンは、たとえば次に述べるような方法
により製造することができる。
【００１７】本発明の放射線増感スクリーンの支持体
は、公知の放射線増感スクリーンの製造のための材料と
して知られている各種の材料から任意に選ぶことができ
る。そのような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
アミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネー
トなどのプラスチック物質のフィルム、アルミニウム
箔、アルミニウム合金箔などの金属シート、通常の紙、
バライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料
を含有するピグメント紙、ポリビニルアルコールなどを
サイジングした紙などを挙げることができる。ただし、
放射線増感スクリーンとしての諸特性を考慮した場合、
本発明において特に好ましい支持体の材料はプラスチッ
クフィルムである。支持体材料としてのプラスチックフ
ィルムにはカーボンブラックなどの光吸収性物質が練り
込まれていてもよく、あるいは二酸化チタンなどの光反
射性物質が練り込まれていてもよい。前者は高鮮鋭度タ
イプの放射線増感スクリーンに適した支持体であり、後
者は高感度タイプの放射線増感スクリーンに適した支持
体である。
は、公知の放射線増感スクリーンの製造のための材料と
して知られている各種の材料から任意に選ぶことができ
る。そのような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
アミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネー
トなどのプラスチック物質のフィルム、アルミニウム
箔、アルミニウム合金箔などの金属シート、通常の紙、
バライタ紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料
を含有するピグメント紙、ポリビニルアルコールなどを
サイジングした紙などを挙げることができる。ただし、
放射線増感スクリーンとしての諸特性を考慮した場合、
本発明において特に好ましい支持体の材料はプラスチッ
クフィルムである。支持体材料としてのプラスチックフ
ィルムにはカーボンブラックなどの光吸収性物質が練り
込まれていてもよく、あるいは二酸化チタンなどの光反
射性物質が練り込まれていてもよい。前者は高鮮鋭度タ
イプの放射線増感スクリーンに適した支持体であり、後
者は高感度タイプの放射線増感スクリーンに適した支持
体である。
【００１８】公知の放射線増感スクリーンにおいて、支
持体と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射線
増感スクリーンとしての感度もしくは画質を向上させる
ために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面にゼラチ
ンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層としたり、
あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反
射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性物質か
らなる光吸収層を設けることも行なわれている。また物
質の非破壊検査を目的とする工業用放射線撮影に用いる
放射線増感スクリーンにおいては、蛍光体層が設けられ
る側の支持体表面に、散乱放射線の除去などを目的とし
て、鉛箔、鉛合金箔、錫箔などの金属箔を設けることも
行なわれている。本発明において用いられる支持体につ
いても、これらの各種の層を任意に設けることができ
る。
持体と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射線
増感スクリーンとしての感度もしくは画質を向上させる
ために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面にゼラチ
ンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層としたり、
あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反
射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性物質か
らなる光吸収層を設けることも行なわれている。また物
質の非破壊検査を目的とする工業用放射線撮影に用いる
放射線増感スクリーンにおいては、蛍光体層が設けられ
る側の支持体表面に、散乱放射線の除去などを目的とし
て、鉛箔、鉛合金箔、錫箔などの金属箔を設けることも
行なわれている。本発明において用いられる支持体につ
いても、これらの各種の層を任意に設けることができ
る。
【００１９】さらに、特開昭５８−１８２５９９号公報
に記載されているように、鮮鋭度を向上させるために、
支持体の蛍光体層が設けられる側の表面（支持体のその
側の表面に接着性付与層、光反射層、光吸収層あるいは
金属箔などが設けられている場合には、その表面）には
微小の凹凸が設けられていてもよい。
に記載されているように、鮮鋭度を向上させるために、
支持体の蛍光体層が設けられる側の表面（支持体のその
側の表面に接着性付与層、光反射層、光吸収層あるいは
金属箔などが設けられている場合には、その表面）には
微小の凹凸が設けられていてもよい。
【００２０】この支持体の上には、蛍光体層が形成され
る。蛍光体層は、蛍光体粒子を分散状態で含有支持する
結合剤からなる層であり、本発明の放射線増感スクリー
ンにおいては、前記の（１）式で表わされるビスマスオ
キシハライド蛍光体が用いられる。ただし、所望によ
り、他の公知の蛍光体と混合使用してもよい。蛍光体層
の結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキスト
ラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのよう
な天然高分子物質；およびポリビニルブチラール、ポリ
酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル
（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリ
マー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリビニルアルコール、線状ポリエステルなどよう
な合成高分子物質などにより代表される結合剤を挙げる
ことができる。このような結合剤のなかで特に好ましい
ものは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、ポリア
ルキル（メタ）アクリレート、ニトロセルロースと線状
ポリエステルとの混合物、およびニトロセルロースとポ
リアルキル（メタ）アクリレートとの混合物である。
る。蛍光体層は、蛍光体粒子を分散状態で含有支持する
結合剤からなる層であり、本発明の放射線増感スクリー
ンにおいては、前記の（１）式で表わされるビスマスオ
キシハライド蛍光体が用いられる。ただし、所望によ
り、他の公知の蛍光体と混合使用してもよい。蛍光体層
の結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキスト
ラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのよう
な天然高分子物質；およびポリビニルブチラール、ポリ
酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル
（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリ
マー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリビニルアルコール、線状ポリエステルなどよう
な合成高分子物質などにより代表される結合剤を挙げる
ことができる。このような結合剤のなかで特に好ましい
ものは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、ポリア
ルキル（メタ）アクリレート、ニトロセルロースと線状
ポリエステルとの混合物、およびニトロセルロースとポ
リアルキル（メタ）アクリレートとの混合物である。
【００２１】蛍光体層は、次のような方法により支持体
上に形成することができる。まず、上記蛍光体と結合剤
とを適当な溶剤に加え、これを充分に混合して結合剤溶
液中に蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製する。
塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノールなどの低級ア
ルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライドな
どの塩素原子含有炭化水素；ベンゼン、トルエンなどの
芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールと
のエステル；ジオキサン、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルな
どのエーテル；そして、それらの混合物を挙げることが
できる。塗布液における結合剤と蛍光体との混合比は、
目的とする放射線増感スクリーンの特性、蛍光体の種類
などによって異なるが、一般には結合剤と蛍光体との混
合比は、１：１乃至１：１００（重量比）の範囲から選
ばれ、そして特に１：８乃至１：４０（重量比）の範囲
から選ぶのが好ましい。
上に形成することができる。まず、上記蛍光体と結合剤
とを適当な溶剤に加え、これを充分に混合して結合剤溶
液中に蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製する。
塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノールなどの低級ア
ルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライドな
どの塩素原子含有炭化水素；ベンゼン、トルエンなどの
芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールと
のエステル；ジオキサン、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルな
どのエーテル；そして、それらの混合物を挙げることが
できる。塗布液における結合剤と蛍光体との混合比は、
目的とする放射線増感スクリーンの特性、蛍光体の種類
などによって異なるが、一般には結合剤と蛍光体との混
合比は、１：１乃至１：１００（重量比）の範囲から選
ばれ、そして特に１：８乃至１：４０（重量比）の範囲
から選ぶのが好ましい。
【００２２】なお、塗布液には、該塗布液中における蛍
光体粒子の分散性を向上させるための分散剤、また、形
成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体粒子との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添加剤が
混合されていてもよい。そのような目的に用いられる分
散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン
酸、親油性界面活性剤などを挙げることができる。可塑
剤の例としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジ
ル、燐酸ジフェニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエ
チル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エステ
ル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸
ブチルフタリルブチルなどのグリコール酸エステル；そ
して、トリエチレングリコールとアジピン酸とのポリエ
ステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポリエス
テルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸と
のポリエステルなどを挙げることができる。
光体粒子の分散性を向上させるための分散剤、また、形
成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体粒子との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添加剤が
混合されていてもよい。そのような目的に用いられる分
散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン
酸、親油性界面活性剤などを挙げることができる。可塑
剤の例としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジ
ル、燐酸ジフェニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエ
チル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エステ
ル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸
ブチルフタリルブチルなどのグリコール酸エステル；そ
して、トリエチレングリコールとアジピン酸とのポリエ
ステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポリエス
テルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸と
のポリエステルなどを挙げることができる。
【００２３】上記のようにして調製された蛍光体と結合
剤を含有する塗布液を支持体の表面に均一に塗布するこ
とにより塗布液の塗膜を形成する。この塗布操作は、通
常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコ
ーター、ナイフコーターなどを用いることにより行なう
ことができる。
剤を含有する塗布液を支持体の表面に均一に塗布するこ
とにより塗布液の塗膜を形成する。この塗布操作は、通
常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコ
ーター、ナイフコーターなどを用いることにより行なう
ことができる。
【００２４】ついで、形成された塗膜を徐々に加熱する
ことにより乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を完
了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線増感スク
リーンの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合
比などによって異なるが、通常は１０μｍ乃至１ｍｍと
する。ただし、この層厚は２０乃至５００μｍとするの
が好ましい。
ことにより乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を完
了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線増感スク
リーンの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合
比などによって異なるが、通常は１０μｍ乃至１ｍｍと
する。ただし、この層厚は２０乃至５００μｍとするの
が好ましい。
【００２５】蛍光体層の支持体に接する側とは反対側の
表面には、蛍光体層を物理的および化学的に保護する目
的で保護膜が設けられてもよい。透明保護膜は、例え
ば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロー
ス誘導体；あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネ
ート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリ
マーなどの合成高分子物質のような透明な高分子物質を
適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の表面に
塗布する方法により形成することができる。あるいはポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、塩化ビニリ
デン、ポリアミドなどから予め形成した透明な薄膜を蛍
光体層の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方
法によっても形成することができる。透明保護膜の膜厚
は約１乃至３０μｍとするのが望ましい。
表面には、蛍光体層を物理的および化学的に保護する目
的で保護膜が設けられてもよい。透明保護膜は、例え
ば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロー
ス誘導体；あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネ
ート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリ
マーなどの合成高分子物質のような透明な高分子物質を
適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の表面に
塗布する方法により形成することができる。あるいはポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、塩化ビニリ
デン、ポリアミドなどから予め形成した透明な薄膜を蛍
光体層の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方
法によっても形成することができる。透明保護膜の膜厚
は約１乃至３０μｍとするのが望ましい。
【００２６】保護膜は着色剤で着色してもよく、その場
合には、上記溶液中に着色剤を各種の濃度で分散含有さ
せた複数種の溶液を用意した後、これらの溶液を用いて
支持体上に塗布あるいは噴霧乾燥することにより着色保
護膜を設けることができる。あるいは、光透過率の異な
る各種の着色剤をそれぞれ分散含有する複数種の溶液を
用意してもよい。あるいはまた、公知の印刷法により着
色剤で染色された着色薄膜を予め用意してもよい。着色
の程度は連続的に異なっていてもよいし、あるいは段階
的に異なっていてもよい。
合には、上記溶液中に着色剤を各種の濃度で分散含有さ
せた複数種の溶液を用意した後、これらの溶液を用いて
支持体上に塗布あるいは噴霧乾燥することにより着色保
護膜を設けることができる。あるいは、光透過率の異な
る各種の着色剤をそれぞれ分散含有する複数種の溶液を
用意してもよい。あるいはまた、公知の印刷法により着
色剤で染色された着色薄膜を予め用意してもよい。着色
の程度は連続的に異なっていてもよいし、あるいは段階
的に異なっていてもよい。
【００２７】
［実施例１］ＢｉＯＦ：０．０１Ｐｒ3+の製造 酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）４６．６ｇ、弗化ビスマス
（ＢｉＦ3 ）２６．６ｇ、および弗化プラセオジム（Ｐ
ｒＦ3 ）０．５９４ｇを乾式混合した。次に、得られた
蛍光体原料混合物をアルミナるつぼに充填し、これを高
温電気炉に入れて焼成を行なった。焼成は、窒素雰囲気
中にて７００℃の温度３時間かけて行なった。焼成が完
了したのち焼成物を炉外に取り出して冷却し、ほぐした
後、メタノールで洗浄した。このようにして、粉末状の
プラセオジム賦活ビスマスオキシフルオライド蛍光体
（ＢｉＯＦ：０．０１Ｐｒ3+）を得た。
（ＢｉＦ3 ）２６．６ｇ、および弗化プラセオジム（Ｐ
ｒＦ3 ）０．５９４ｇを乾式混合した。次に、得られた
蛍光体原料混合物をアルミナるつぼに充填し、これを高
温電気炉に入れて焼成を行なった。焼成は、窒素雰囲気
中にて７００℃の温度３時間かけて行なった。焼成が完
了したのち焼成物を炉外に取り出して冷却し、ほぐした
後、メタノールで洗浄した。このようにして、粉末状の
プラセオジム賦活ビスマスオキシフルオライド蛍光体
（ＢｉＯＦ：０．０１Ｐｒ3+）を得た。
【００２８】［実施例２］ＢｉＯＦ：０．０１Ｅｕ3+の
製造 実施例１において、弗化プラセオジムの代りに弗化ユー
ロピウム（ＥｕＦ3 ）０．６２７ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のユーロピウム賦活ビスマスオキシフル
オライド蛍光体（ＢｉＯＦ：０．０１Ｅｕ3+）を得た。
製造 実施例１において、弗化プラセオジムの代りに弗化ユー
ロピウム（ＥｕＦ3 ）０．６２７ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のユーロピウム賦活ビスマスオキシフル
オライド蛍光体（ＢｉＯＦ：０．０１Ｅｕ3+）を得た。
【００２９】［実施例３］ＢｉＯＦ：０．０１Ｔｂ3+の
製造 実施例１において、弗化プラセオジムの代わりに弗化テ
ルビウム（ＴｂＦ3 ）０．６４８ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のテルビウム賦活ビスマスオキシフルオ
ライド蛍光体（ＢｉＯＦ：０．０１Ｔｂ3+）を得た。
製造 実施例１において、弗化プラセオジムの代わりに弗化テ
ルビウム（ＴｂＦ3 ）０．６４８ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のテルビウム賦活ビスマスオキシフルオ
ライド蛍光体（ＢｉＯＦ：０．０１Ｔｂ3+）を得た。
【００３０】［実施例４］ＢｉＯＦ：０．０１Ｃｅ3+の
製造 実施例１において、弗化プラセオジムの代りに弗化セリ
ウム（ＣｅＦ3 ）０．５９１ｇを用いた以外は同様にし
て、粉末状のセリウム賦活ビスマスオキシフルオライド
蛍光体（ＢｉＯＦ：０．０１Ｃｅ3+）を得た。
製造 実施例１において、弗化プラセオジムの代りに弗化セリ
ウム（ＣｅＦ3 ）０．５９１ｇを用いた以外は同様にし
て、粉末状のセリウム賦活ビスマスオキシフルオライド
蛍光体（ＢｉＯＦ：０．０１Ｃｅ3+）を得た。
【００３１】［実施例５］ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｐｒ3+
の製造 酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）４６．６ｇ、塩化ビスマス
（ＢｉＣｌ3 ）３１．５ｇ、および塩化プラセオジム
（ＰｒＣｌ3 ）０．７４２ｇを乾式混合した。次に、得
られた蛍光体原料混合物をアルミナるつぼに充填し、こ
れを高温電気炉に入れて焼成を行なった。焼成は、窒素
雰囲気中にて７００℃の温度３時間かけて行なった。焼
成が完了したのち焼成物を炉外に取り出して冷却し、ほ
ぐした後、メタノールで洗浄した。このようにして、粉
末状のプラセオジム賦活ビスマスオキシクロライド蛍光
体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｐｒ3+）を得た。
の製造 酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）４６．６ｇ、塩化ビスマス
（ＢｉＣｌ3 ）３１．５ｇ、および塩化プラセオジム
（ＰｒＣｌ3 ）０．７４２ｇを乾式混合した。次に、得
られた蛍光体原料混合物をアルミナるつぼに充填し、こ
れを高温電気炉に入れて焼成を行なった。焼成は、窒素
雰囲気中にて７００℃の温度３時間かけて行なった。焼
成が完了したのち焼成物を炉外に取り出して冷却し、ほ
ぐした後、メタノールで洗浄した。このようにして、粉
末状のプラセオジム賦活ビスマスオキシクロライド蛍光
体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｐｒ3+）を得た。
【００３２】［実施例６］ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｅｕ3+
の製造 実施例５において、弗化プラセオジムの代りに弗化ユー
ロピウム（ＥｕＣｌ3）０．７７５ｇを用いた以外は同
様にして、粉末状のユーロピウム賦活ビスマスオキシク
ロライド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｅｕ3+）を得
た。
の製造 実施例５において、弗化プラセオジムの代りに弗化ユー
ロピウム（ＥｕＣｌ3）０．７７５ｇを用いた以外は同
様にして、粉末状のユーロピウム賦活ビスマスオキシク
ロライド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｅｕ3+）を得
た。
【００３３】［実施例７］ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｔｂ3+
の製造 実施例５において、塩化プラセオジムの代りに塩化テル
ビウム（ＴｂＣｌ3 ）０．７９６ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のテルビウム賦活ビスマスオキシクロラ
イド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｔｂ3+）を得た。
の製造 実施例５において、塩化プラセオジムの代りに塩化テル
ビウム（ＴｂＣｌ3 ）０．７９６ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のテルビウム賦活ビスマスオキシクロラ
イド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｔｂ3+）を得た。
【００３４】［実施例８］ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｃｅ3+
の製造 実施例５において、塩化プラセオジムの代わりに塩化セ
リウム（ＣｅＣｌ3 ）０．７３９ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のセリウム賦活ビスマスオキシクロライ
ド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｃｅ3+）を得た。
の製造 実施例５において、塩化プラセオジムの代わりに塩化セ
リウム（ＣｅＣｌ3 ）０．７３９ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のセリウム賦活ビスマスオキシクロライ
ド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｃｅ3+）を得た。
【００３５】［実施例９］ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｐｒ3+
の製造 酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）４６．６ｇ、臭化ビスマス
（ＢｉＢｒ3 ）４４．９ｇ、および臭化プラセオジム
（ＰｒＢｒ3 ）１．１４ｇを乾式混合した。次いで、得
られた蛍光体原料混合物をアルミナるつぼに充填し、こ
れを高温電気炉に入れて焼成を行なった。焼成は、窒素
雰囲気中にて７００℃の温度３時間かけて行なった。焼
成が完了したのち焼成物を炉外に取り出して冷却し、ほ
ぐした後、メタノールで洗浄した。このようにして、粉
末状のプラセオジム賦活ビスマスオキシブロマイド蛍光
体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｐｒ3+）を得た。
の製造 酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）４６．６ｇ、臭化ビスマス
（ＢｉＢｒ3 ）４４．９ｇ、および臭化プラセオジム
（ＰｒＢｒ3 ）１．１４ｇを乾式混合した。次いで、得
られた蛍光体原料混合物をアルミナるつぼに充填し、こ
れを高温電気炉に入れて焼成を行なった。焼成は、窒素
雰囲気中にて７００℃の温度３時間かけて行なった。焼
成が完了したのち焼成物を炉外に取り出して冷却し、ほ
ぐした後、メタノールで洗浄した。このようにして、粉
末状のプラセオジム賦活ビスマスオキシブロマイド蛍光
体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｐｒ3+）を得た。
【００３６】［実施例１０］ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｅｕ
3+の製造 実施例９において、臭化プラセオジムの代りに臭化ユー
ロピウム（ＥｕＢｒ3）１．１８ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のユーロピウム賦活ビスマスオキシブロ
マイド蛍光体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｅｕ3+）を得た。
3+の製造 実施例９において、臭化プラセオジムの代りに臭化ユー
ロピウム（ＥｕＢｒ3）１．１８ｇを用いた以外は同様
にして、粉末状のユーロピウム賦活ビスマスオキシブロ
マイド蛍光体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｅｕ3+）を得た。
【００３７】［実施例１１］ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｔｂ
3+の製造 実施例９において、臭化プラセオジムの代りに臭化テル
ビウム（ＴｂＢｒ3 ）１．２０ｇを用いた以外は同様に
して、粉末状のテルビウム賦活ビスマスオキシブロマイ
ド蛍光体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｔｂ3+）を得た。
3+の製造 実施例９において、臭化プラセオジムの代りに臭化テル
ビウム（ＴｂＢｒ3 ）１．２０ｇを用いた以外は同様に
して、粉末状のテルビウム賦活ビスマスオキシブロマイ
ド蛍光体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｔｂ3+）を得た。
【００３８】［実施例１２］ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｃｅ
の製造 実施例９において、臭化プラセオジムの代わりに臭化セ
リウム（ＣｅＢｒ3 ）１．１４ｇを用いた以外は同様に
して、粉末状のセリウム賦活ビスマスオキシブロマイド
蛍光体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｃｅ3+）を得た。
の製造 実施例９において、臭化プラセオジムの代わりに臭化セ
リウム（ＣｅＢｒ3 ）１．１４ｇを用いた以外は同様に
して、粉末状のセリウム賦活ビスマスオキシブロマイド
蛍光体（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｃｅ3+）を得た。
【００３９】［Ｘ線照射時の瞬時発光の発光量の測定］
各実施例で得られた蛍光体粉末に、４０Ｋｖｐ、３０ｍ
Ａの条件でＸ線を照射し、その瞬時発光の発光量をＰＭ
Ｔ高圧、−８００Ｖの電流値を測定することにより測定
した。測定された瞬時発光の発光量を、プラセオジム賦
活ビスマスオキシクロライド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．
０１Ｐｒ3+）の発光量を１００として、相対値で第１表
に示す。
各実施例で得られた蛍光体粉末に、４０Ｋｖｐ、３０ｍ
Ａの条件でＸ線を照射し、その瞬時発光の発光量をＰＭ
Ｔ高圧、−８００Ｖの電流値を測定することにより測定
した。測定された瞬時発光の発光量を、プラセオジム賦
活ビスマスオキシクロライド蛍光体（ＢｉＯＣｌ：０．
０１Ｐｒ3+）の発光量を１００として、相対値で第１表
に示す。
【００４０】 第１表 ──────────────────────────────────── 蛍光体 相対発光量 ──────────────────────────────────── 実施例１ ＢｉＯＦ：０．０１Ｐｒ3+ ６７ 実施例２ ＢｉＯＦ：０．０１Ｅｕ3+ ２２ 実施例３ ＢｉＯＦ：０．０１Ｔｂ3+ １７ 実施例４ ＢｉＯＦ：０．０１Ｃｅ3+ １５ 実施例５ ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｐｒ3+ １００ 実施例６ ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｅｕ3+ ３３ 実施例７ ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｔｂ3+ １０ 実施例８ ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｃｅ3+ ８．０ 実施例９ ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｐｒ3+ ８．８ 実施例１０ ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｅｕ3+ ４．４ 実施例１１ ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｔｂ3+ ５．９ 実施例１２ ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｃｅ3+ ４．５ ────────────────────────────────────
【００４１】［ビスマスオキシハライド蛍光体の発光ス
ペクトル］本発明のビスマスオキシハライド蛍光体がＸ
線照射を受けた時に示す発光スペクトルの例を添付の図
１〜図５に示す。なお、図１〜図５で示す発光スペクト
ルはそれぞれ下記のビスマスオキシハライド蛍光体のも
のである。
ペクトル］本発明のビスマスオキシハライド蛍光体がＸ
線照射を受けた時に示す発光スペクトルの例を添付の図
１〜図５に示す。なお、図１〜図５で示す発光スペクト
ルはそれぞれ下記のビスマスオキシハライド蛍光体のも
のである。
【００４２】 図１：実施例１（ＢｉＯＦ：０．０１Ｐｒ3+） 図２：実施例５（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｐｒ3+） 図３：実施例６（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｅｕ3+） 図４：実施例７（ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｔｂ3+） 図５：実施例９（ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｐｒ3+）
【００４３】［実施例１３］放射線増感スクリーンの製
造 ガラス板上に水平に置いたポリエチレンテレフタレート
フィルム（支持体、厚み：２５０μｍ）の上に、二酸化
チタンの微粒子を分散状態で含有する塗布液をドクター
ブレードを用いて均一に塗布したのち乾燥して、支持体
上に層厚が３０μｍの光反射層を設けた。
造 ガラス板上に水平に置いたポリエチレンテレフタレート
フィルム（支持体、厚み：２５０μｍ）の上に、二酸化
チタンの微粒子を分散状態で含有する塗布液をドクター
ブレードを用いて均一に塗布したのち乾燥して、支持体
上に層厚が３０μｍの光反射層を設けた。
【００４４】別に、実施例１で粉末状のプラセオジム賦
活ビスマスオキシフルオライド蛍光体（ＢｉＯＦ：０．
０１Ｐｒ3+）と線状ポリエステル樹脂との混合物にメチ
ルエチルケトンを添加し、さらに硝化度１１．５％のニ
トロセルロースを添加して蛍光体粒子を分散状態で含有
する分散液を調製した。この分散液に燐酸トリクレジ
ル、ｎ−ブタノールおよびメチルエチルケトンを添加し
たのち、プロペラミキサーを用いて充分に撹拌混合して
蛍光体粒子が均一に分散し、結合剤と蛍光体との混合比
が１：２０（重量比）かつ粘度が２５〜３５ＰＳ（２５
℃）の塗布液を調製した。
活ビスマスオキシフルオライド蛍光体（ＢｉＯＦ：０．
０１Ｐｒ3+）と線状ポリエステル樹脂との混合物にメチ
ルエチルケトンを添加し、さらに硝化度１１．５％のニ
トロセルロースを添加して蛍光体粒子を分散状態で含有
する分散液を調製した。この分散液に燐酸トリクレジ
ル、ｎ−ブタノールおよびメチルエチルケトンを添加し
たのち、プロペラミキサーを用いて充分に撹拌混合して
蛍光体粒子が均一に分散し、結合剤と蛍光体との混合比
が１：２０（重量比）かつ粘度が２５〜３５ＰＳ（２５
℃）の塗布液を調製した。
【００４５】次いで、光反射層を上にしてガラス板上に
水平に置いた支持体の上に塗布液をドクターブレードを
用いて均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形成さ
れた支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度
を２５℃から１００℃に徐々に上昇させて塗膜の乾燥を
行なった。このようにして、光反射層上に層厚２００μ
ｍの蛍光体層を形成した。次に、接着剤層付きポリエチ
レンテレフタレートフィルム（厚み：１０μｍ）を蛍光
体層の上に接着することにより透明保護膜を形成し、支
持体、光反射層、蛍光体層および透明保護膜から構成さ
れた放射線増感スクリーンを製造した。
水平に置いた支持体の上に塗布液をドクターブレードを
用いて均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形成さ
れた支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度
を２５℃から１００℃に徐々に上昇させて塗膜の乾燥を
行なった。このようにして、光反射層上に層厚２００μ
ｍの蛍光体層を形成した。次に、接着剤層付きポリエチ
レンテレフタレートフィルム（厚み：１０μｍ）を蛍光
体層の上に接着することにより透明保護膜を形成し、支
持体、光反射層、蛍光体層および透明保護膜から構成さ
れた放射線増感スクリーンを製造した。
【００４６】
【発明の効果】本発明のビスマスオキシハライド蛍光体
は従来知られていない新規な蛍光体であって、Ｘ線など
の放射線を良く吸収し、また放射線の照射により近紫外
領域あるいは可視領域に発光を示すため、放射線増感ス
クリーン用の蛍光体として有用である。
は従来知られていない新規な蛍光体であって、Ｘ線など
の放射線を良く吸収し、また放射線の照射により近紫外
領域あるいは可視領域に発光を示すため、放射線増感ス
クリーン用の蛍光体として有用である。
【図１】ＢｉＯＦ：０．０１Ｐｒ3+の発光スペクトル
【図２】ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｐｒ3+の発光スペクトル
【図３】ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｅｕ3+の発光スペクトル
【図４】ＢｉＯＣｌ：０．０１Ｔｂ3+の発光スペクトル
【図５】ＢｉＯＢｒ：０．０１Ｐｒ3+の発光スペクトル
Claims (2)
- 【請求項１】 次式（Ｉ）： ＢｉＯＸ：ｙＡｃ …（Ｉ） （ただし、ＸはＦ、ＣｌおよびＢｒからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２の
範囲の数値である）で表わされるビスマスオキシハライ
ド蛍光体。 - 【請求項２】 支持体と、その片面に設けられた蛍光体
層とを含む放射線増感スクリーンであって、蛍光体層に
含まれる蛍光体が、次式（Ｉ）： ＢｉＯＸ：ｙＡｃ …（Ｉ） （ただし、ＸはＦ、ＣｌおよびＢｒからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＡｃはＥｕ、Ｔ
ｂ、ＰｒおよびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも
一種の希土類元素であり；そしてｘは０＜ｙ≦０．２の
範囲の数値である）で表わされるビスマスオキシハライ
ド蛍光体であることを特徴とする放射線増感スクリー
ン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4301887A JPH06128564A (ja) | 1992-10-14 | 1992-10-14 | ビスマスオキシハライド蛍光体および放射線増感スクリーン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4301887A JPH06128564A (ja) | 1992-10-14 | 1992-10-14 | ビスマスオキシハライド蛍光体および放射線増感スクリーン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06128564A true JPH06128564A (ja) | 1994-05-10 |
Family
ID=17902335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4301887A Withdrawn JPH06128564A (ja) | 1992-10-14 | 1992-10-14 | ビスマスオキシハライド蛍光体および放射線増感スクリーン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06128564A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7126128B2 (en) | 2004-02-13 | 2006-10-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Flat panel x-ray detector |
| US7517403B2 (en) * | 2003-05-12 | 2009-04-14 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Bismuth-containing pigment solid solutions |
| CN103421511A (zh) * | 2013-08-30 | 2013-12-04 | 昆明理工大学 | 一种稀土离子掺杂的卤氧化铋发光材料及其制备方法 |
| CN104131353A (zh) * | 2014-07-15 | 2014-11-05 | 福建师范大学 | 一种新型氟代氯氧化铋的制备方法 |
| CN104525225A (zh) * | 2014-12-05 | 2015-04-22 | 昆明理工大学 | 一种卤氧化铋/氧化铋可见光光催化剂的制备方法 |
| CN106635002A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-10 | 陕西科技大学 | 一种钐掺杂氯氧铋橙红色荧光粉及其制备方法 |
| CN106635001A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-10 | 陕西科技大学 | 一种白光led用红色荧光粉及其制备方法 |
| CN106634999A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-10 | 陕西科技大学 | 一种方片状镝掺杂氯氧铋白光荧光粉及其制备方法 |
| CN106675562A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-17 | 陕西科技大学 | 一种白光led用橙色荧光粉及其制备方法 |
| CN106701078A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-24 | 陕西科技大学 | 钐离子掺杂氯氧铋半导体的白光led用橙色荧光粉及其制备方法 |
| CN106854465A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-06-16 | 陕西科技大学 | 一种白光led用红色荧光粉及其制备方法 |
-
1992
- 1992-10-14 JP JP4301887A patent/JPH06128564A/ja not_active Withdrawn
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| CN106635002A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-10 | 陕西科技大学 | 一种钐掺杂氯氧铋橙红色荧光粉及其制备方法 |
| CN106635001A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-10 | 陕西科技大学 | 一种白光led用红色荧光粉及其制备方法 |
| CN106634999A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-10 | 陕西科技大学 | 一种方片状镝掺杂氯氧铋白光荧光粉及其制备方法 |
| CN106675562A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-05-17 | 陕西科技大学 | 一种白光led用橙色荧光粉及其制备方法 |
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