JPH061241B2 - 粒子解析装置 - Google Patents
粒子解析装置Info
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- JPH061241B2 JPH061241B2 JP60252334A JP25233485A JPH061241B2 JP H061241 B2 JPH061241 B2 JP H061241B2 JP 60252334 A JP60252334 A JP 60252334A JP 25233485 A JP25233485 A JP 25233485A JP H061241 B2 JPH061241 B2 JP H061241B2
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フローサイトメータ等において、測光光学系
及びフローセルの光軸との調整を可能とした粒子解析装
置に関するものである。
及びフローセルの光軸との調整を可能とした粒子解析装
置に関するものである。
[従来の技術] フローサイトメータ等に用いられる従来の粒子解析装置
では、第5図に示すように、フローセル1の中央部の例
えば200μm×200μmの微小な断面を有する流通
部2内を、シース液に包まれて高速で流れる検体粒子S
に、図示しないレーザー光源からの平行なレーザービー
ムLを、第6図に示すように集光レンズ3を介してフロ
ーセル1内の流通部2に照射する。検体粒子Sにより散
乱された前方散乱光は、対物レンズ4を介して光電検出
器5上に集光され、主に検体粒子Sの大きさに関する情
報が得られる。また、検体粒子Sからの側方散乱光及び
蛍光散乱光は、対物レンズ6を介して光電検出器7上に
集光され、主に検体粒子Sの内部の複雑性に関する重要
な情報を得ることができる。
では、第5図に示すように、フローセル1の中央部の例
えば200μm×200μmの微小な断面を有する流通
部2内を、シース液に包まれて高速で流れる検体粒子S
に、図示しないレーザー光源からの平行なレーザービー
ムLを、第6図に示すように集光レンズ3を介してフロ
ーセル1内の流通部2に照射する。検体粒子Sにより散
乱された前方散乱光は、対物レンズ4を介して光電検出
器5上に集光され、主に検体粒子Sの大きさに関する情
報が得られる。また、検体粒子Sからの側方散乱光及び
蛍光散乱光は、対物レンズ6を介して光電検出器7上に
集光され、主に検体粒子Sの内部の複雑性に関する重要
な情報を得ることができる。
フローサイトメータにおいて正確な測定を行うには、レ
ーザービームLの光軸とフローセル1の中心が一致して
いると共に、検体粒子Sからの散乱光が測光用対物レン
ズ4、6により正確に集光されなければならない。その
ために、レーザービームLの光軸に対して検体粒子Sの
流れの軸及び集光レンズ4、6を正確に調整しなければ
ならないが、従来装置においてはフローセル1と測光光
学系とが分離されており、フローセル1が微動した状態
で、レーザービームLの光軸に対して検体粒子Sの流れ
の軸を調整すると、側方散乱光用光学系の焦点位置がず
れるため、側方散乱光用光学系の調整も行う必要があ
り、操作が繁雑になる上に十分に正確な調整を行うこと
が困難である。
ーザービームLの光軸とフローセル1の中心が一致して
いると共に、検体粒子Sからの散乱光が測光用対物レン
ズ4、6により正確に集光されなければならない。その
ために、レーザービームLの光軸に対して検体粒子Sの
流れの軸及び集光レンズ4、6を正確に調整しなければ
ならないが、従来装置においてはフローセル1と測光光
学系とが分離されており、フローセル1が微動した状態
で、レーザービームLの光軸に対して検体粒子Sの流れ
の軸を調整すると、側方散乱光用光学系の焦点位置がず
れるため、側方散乱光用光学系の調整も行う必要があ
り、操作が繁雑になる上に十分に正確な調整を行うこと
が困難である。
[発明の目的] 本発明の目的は、測光光学系とフローセルを固定するこ
とにより、レーザービームの光軸に対して検体粒子の流
れの軸の合軸調整を行うだけで容易に位置合わせが実施
でき、高精度の測定を可能とする粒子解析装置を提供す
ることにある。
とにより、レーザービームの光軸に対して検体粒子の流
れの軸の合軸調整を行うだけで容易に位置合わせが実施
でき、高精度の測定を可能とする粒子解析装置を提供す
ることにある。
[発明の概要] 上述の目的を達成するための本発明の要旨は、フローセ
ル内の流通部を流れる検体粒子に向けて光ビームを集光
させて照射する照射光学系と、光ビームの検体粒子への
照射によって側方方向に発する光を測光する測光光学系
と、前記フローセルと前記測光光学系とを共に載置する
基台と、該基台を前記側方方向及び前記照射光学系の光
軸方向に移動させる移動機構と、前記フローセルからの
前記光ビームの出射方向に配置した単一のアレイ状光電
検出器とを有し、該アレイ状光電検出器の出力を基に前
記フローセルと前記光ビームの合軸状態及び合焦状態を
検出し、前記移動機構を前記側方方向及び前記照射光学
系の光軸方向に駆動して合軸調整及び焦点調整を行うこ
とを特徴とする粒子解析装置である。
ル内の流通部を流れる検体粒子に向けて光ビームを集光
させて照射する照射光学系と、光ビームの検体粒子への
照射によって側方方向に発する光を測光する測光光学系
と、前記フローセルと前記測光光学系とを共に載置する
基台と、該基台を前記側方方向及び前記照射光学系の光
軸方向に移動させる移動機構と、前記フローセルからの
前記光ビームの出射方向に配置した単一のアレイ状光電
検出器とを有し、該アレイ状光電検出器の出力を基に前
記フローセルと前記光ビームの合軸状態及び合焦状態を
検出し、前記移動機構を前記側方方向及び前記照射光学
系の光軸方向に駆動して合軸調整及び焦点調整を行うこ
とを特徴とする粒子解析装置である。
[発明の実施例] 本発明を第1図〜第4図に図示の実施例に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
第1図は光学系及びアライメント装置の平面図である。
フローセル1の中央部には、紙面に垂直な上下方向にサ
ンプル液を通過する流通部2が設けられており、このサ
ンプル液の流れと直交する方向にレーザー光源10が配
置され、レーザー光源10からの照射光を流通部2に導
光するために、光軸01上にレーザービームLの結像形状
を調整する結像レンズ11が配されている。また、レー
ザービームLによる検体粒子Sからの前方散乱光側に
は、フローセル1側からビームスプリッタ12、対物レ
ンズ13及び光電検出器14が配置されている。また、
ビームスプリッタ12により分割された光束の分布状態
を検出するために、ビームスプリッタ12の反射側の光
軸02上に対物レンズ15及びアレイ状光電検出器16が
配されている。そして、光電変換器16の出力は光強度
分布を観察するモニタ17に接続されている。また、検
体粒子Sの流れの軸及び光軸01にそれぞれ直交する光軸
03上に、フローセル1側から測光用対物レンズ18、ハ
ーフミラー19、集光レンズ20、絞り21、集光レン
ズ22、ダイクロイックミラー23、24及びミラー2
5が順次に配置されている。ダイクロイックミラー23
の反射方向にバリアフィルタ26と光電検出器27が、
ダイクロイックミラー23の反射方向にバリアフィルタ
28と光電検出器29が、ミラー25の反射方向にバリ
アフィルタ30と光電検出器31が配置されている。こ
れらの光電検出器27、27、31には、微弱光を増強
して検出可能にするフォトマルが用いられている。そし
て、ハーフミラー19の反射側には、フローセル1と側
方散乱光及び蛍光測光用光学系との焦点調整に用いるオ
ートフォーカスユニット32が設けられている。
フローセル1の中央部には、紙面に垂直な上下方向にサ
ンプル液を通過する流通部2が設けられており、このサ
ンプル液の流れと直交する方向にレーザー光源10が配
置され、レーザー光源10からの照射光を流通部2に導
光するために、光軸01上にレーザービームLの結像形状
を調整する結像レンズ11が配されている。また、レー
ザービームLによる検体粒子Sからの前方散乱光側に
は、フローセル1側からビームスプリッタ12、対物レ
ンズ13及び光電検出器14が配置されている。また、
ビームスプリッタ12により分割された光束の分布状態
を検出するために、ビームスプリッタ12の反射側の光
軸02上に対物レンズ15及びアレイ状光電検出器16が
配されている。そして、光電変換器16の出力は光強度
分布を観察するモニタ17に接続されている。また、検
体粒子Sの流れの軸及び光軸01にそれぞれ直交する光軸
03上に、フローセル1側から測光用対物レンズ18、ハ
ーフミラー19、集光レンズ20、絞り21、集光レン
ズ22、ダイクロイックミラー23、24及びミラー2
5が順次に配置されている。ダイクロイックミラー23
の反射方向にバリアフィルタ26と光電検出器27が、
ダイクロイックミラー23の反射方向にバリアフィルタ
28と光電検出器29が、ミラー25の反射方向にバリ
アフィルタ30と光電検出器31が配置されている。こ
れらの光電検出器27、27、31には、微弱光を増強
して検出可能にするフォトマルが用いられている。そし
て、ハーフミラー19の反射側には、フローセル1と側
方散乱光及び蛍光測光用光学系との焦点調整に用いるオ
ートフォーカスユニット32が設けられている。
ここで、光軸01上のレーザー光源10〜光電検出器14
及び光軸02上の対物レンズ15、光電検出器16は軸調
整後に基板40上に固定されている。また、フローセル
1及び光軸03上の対物レンズ18〜ミラー25、バリア
フィルタ26、28、30、光電検出器27、29、3
1、オートフォーカスユニット32は、焦点調整後に光
軸03と平行なY方向に移動自在のステージ41上に配置
され、基板40とステージ41の間には、更に光軸01と
平行なX方向に移動自在のステージ42が介在されてい
る。そして、ステージ41のY方向の移動量はダイアル
ゲージ43により、ステージ42のX方向の移動量はダ
イアルゲージ44により測定されるようになっている。
及び光軸02上の対物レンズ15、光電検出器16は軸調
整後に基板40上に固定されている。また、フローセル
1及び光軸03上の対物レンズ18〜ミラー25、バリア
フィルタ26、28、30、光電検出器27、29、3
1、オートフォーカスユニット32は、焦点調整後に光
軸03と平行なY方向に移動自在のステージ41上に配置
され、基板40とステージ41の間には、更に光軸01と
平行なX方向に移動自在のステージ42が介在されてい
る。そして、ステージ41のY方向の移動量はダイアル
ゲージ43により、ステージ42のX方向の移動量はダ
イアルゲージ44により測定されるようになっている。
第2図は第1図のA−A線に沿つた断面図であり、ステ
ージ42の上面にY方向に2本のレール50が敷設さ
れ、ステージ41の下面のレール51との嵌合により、
ステージ41はステージ42に対してY方向に平行移動
できるようになっている。ステージ42の右端部には軸
受53が設けられ、この軸受53にはカム54が回転自
在に軸着され、更にカム軸54の外側にカム軸55が嵌
合されており、このカム軸55はカム軸54に対して回
転自在な状態となっている。カム軸54及びカム軸55
には、それぞれ偏心カム54a、55aが周設されてお
り、これらのカム54a、55aは基板40上に固定さ
れているガイド56及びステージ41に固定されている
第3図に図示のガイド57とそれぞれ常時接触するよう
に、ステージ41、42は図示しないばねにより付勢さ
れた状態となっている。更に、カム軸54の上部には抜
け止め58とカム軸54を回転させる回転つまみ59が
取り付けられ、カム軸55の上部に回転つまみ60が取
り付けられている。
ージ42の上面にY方向に2本のレール50が敷設さ
れ、ステージ41の下面のレール51との嵌合により、
ステージ41はステージ42に対してY方向に平行移動
できるようになっている。ステージ42の右端部には軸
受53が設けられ、この軸受53にはカム54が回転自
在に軸着され、更にカム軸54の外側にカム軸55が嵌
合されており、このカム軸55はカム軸54に対して回
転自在な状態となっている。カム軸54及びカム軸55
には、それぞれ偏心カム54a、55aが周設されてお
り、これらのカム54a、55aは基板40上に固定さ
れているガイド56及びステージ41に固定されている
第3図に図示のガイド57とそれぞれ常時接触するよう
に、ステージ41、42は図示しないばねにより付勢さ
れた状態となっている。更に、カム軸54の上部には抜
け止め58とカム軸54を回転させる回転つまみ59が
取り付けられ、カム軸55の上部に回転つまみ60が取
り付けられている。
第3図は第1図のB方向から見た側面図であり、基板4
0上にX方向に2本のレール61が敷設され、ステージ
42の下面の2本のレール62と嵌合しており、ステー
ジ42は基板40に対してX方向に平行移動できるよう
になっている。
0上にX方向に2本のレール61が敷設され、ステージ
42の下面の2本のレール62と嵌合しており、ステー
ジ42は基板40に対してX方向に平行移動できるよう
になっている。
レーザー光源10から照射されたレーザービームLは、
結像レンズ11を介してフローセル1の流通部2に入射
し、検体粒子Sによる前方散乱光の一部はビームスプリ
ッタ12を直進して、対物レンズ13を介して光電検出
器14に集光されその光強度が測光される。また、残り
の一部はビームスプリッタ12によって反射され、対物
レンズ15を介してアレイ状光電検出器16に集光さ
れ、光軸01に対する検体粒子Sの流れの位置関係を検出
することになる。
結像レンズ11を介してフローセル1の流通部2に入射
し、検体粒子Sによる前方散乱光の一部はビームスプリ
ッタ12を直進して、対物レンズ13を介して光電検出
器14に集光されその光強度が測光される。また、残り
の一部はビームスプリッタ12によって反射され、対物
レンズ15を介してアレイ状光電検出器16に集光さ
れ、光軸01に対する検体粒子Sの流れの位置関係を検出
することになる。
また、検体粒子Sによる側方散乱光は、測光用対物レン
ズ18、ハーフミラー19、集光レンズ20、絞り2
1、更に集光レンズ22を介してダイクロイックミラー
23、24及びミラー25に入射し、これらのミラー2
3、24、25による波長領域ごとの各反射光は、バリ
アフィルタ26、28、30を介して、光電検出器2
7、29、31上にそれぞれ集光され光強度が測光され
る。
ズ18、ハーフミラー19、集光レンズ20、絞り2
1、更に集光レンズ22を介してダイクロイックミラー
23、24及びミラー25に入射し、これらのミラー2
3、24、25による波長領域ごとの各反射光は、バリ
アフィルタ26、28、30を介して、光電検出器2
7、29、31上にそれぞれ集光され光強度が測光され
る。
フローセル1と測光光学系をX方向、Y方向についての
調整を行うには、先ずカム軸54の回転つまみ59を廻
すと、カム54aがガイド56と回転摺動するため、カ
ム54aのこのリフト量だけステージ42が基板40に
対してX方向に平行移動できる。同様に、カム軸55に
固定されている回転つまみ60を廻すと、カム55aが
ガイド57に回転摺動するため、カム55aのリフト量
だけステージ41をステージ42に対してY方向に平行
移動することができる。
調整を行うには、先ずカム軸54の回転つまみ59を廻
すと、カム54aがガイド56と回転摺動するため、カ
ム54aのこのリフト量だけステージ42が基板40に
対してX方向に平行移動できる。同様に、カム軸55に
固定されている回転つまみ60を廻すと、カム55aが
ガイド57に回転摺動するため、カム55aのリフト量
だけステージ41をステージ42に対してY方向に平行
移動することができる。
これらのX、Y方向への平行移動量は、回転角度に対す
るリフト量をカム54a、55aによって任意に設定す
ることができるため、相当に微量の範囲での移動が可能
であり、これらの移動量は基板40上に固定されたダイ
アルゲージ43、44によって読み取りが可能である。
るリフト量をカム54a、55aによって任意に設定す
ることができるため、相当に微量の範囲での移動が可能
であり、これらの移動量は基板40上に固定されたダイ
アルゲージ43、44によって読み取りが可能である。
次に、この粒子解析装置の調整手順を説明すると、側方
測光用光学系を光軸03に対して軸調整した後にステージ
41に固定して、測光用光学系に対するフローセル1の
アライメントを行う。このために、オートフォーカスユ
ニット32を用いて、フローセル1をX、Y方向へそれ
ぞれ独立に平行移動させながら、フローセル1の中心に
焦点が合つた位置で、フローセル1をステージ41に固
定する。従って、フローセル1と側方測光用光学系はス
テージ41上で一体となって、基板40に対してX、Y
方向に平行移動できることになる。
測光用光学系を光軸03に対して軸調整した後にステージ
41に固定して、測光用光学系に対するフローセル1の
アライメントを行う。このために、オートフォーカスユ
ニット32を用いて、フローセル1をX、Y方向へそれ
ぞれ独立に平行移動させながら、フローセル1の中心に
焦点が合つた位置で、フローセル1をステージ41に固
定する。従って、フローセル1と側方測光用光学系はス
テージ41上で一体となって、基板40に対してX、Y
方向に平行移動できることになる。
ステージ41、42を動かすことによって、前述の調整
されたフローセル1を光軸01上を移動しながら、検体粒
子Sの流れと光軸01とのアライメントを行うには、例え
ば検体粒子の代りにレーザービームLの波長領域の光を
吸収する疑似サンプル液を使用する。レーザー光源10
から照射されたレーザービームLの一部は、この疑似サ
ンプル液で吸収され、吸収時の光強度分布はアレイ状光
電検出器16で測定され、その出力信号はモニタ17に
より観察される。光軸01と疑似サンプル液流の中心が合
致つまり合軸している場合には、第4図に示すように光
強度分布状態はガウス分布状の波形の中心部が凹状にな
った左右対象の波形が観察される。しかし合致していな
い場合には、中央の凹状部分が左右何れかにずれて対象
の波形を示さなくなる。この場合には、回転つまみ60
を廻してフローセル1をY方向に平行移動しながら、モ
ニタ上の波形が左右対象を示すまで調整を行う。
されたフローセル1を光軸01上を移動しながら、検体粒
子Sの流れと光軸01とのアライメントを行うには、例え
ば検体粒子の代りにレーザービームLの波長領域の光を
吸収する疑似サンプル液を使用する。レーザー光源10
から照射されたレーザービームLの一部は、この疑似サ
ンプル液で吸収され、吸収時の光強度分布はアレイ状光
電検出器16で測定され、その出力信号はモニタ17に
より観察される。光軸01と疑似サンプル液流の中心が合
致つまり合軸している場合には、第4図に示すように光
強度分布状態はガウス分布状の波形の中心部が凹状にな
った左右対象の波形が観察される。しかし合致していな
い場合には、中央の凹状部分が左右何れかにずれて対象
の波形を示さなくなる。この場合には、回転つまみ60
を廻してフローセル1をY方向に平行移動しながら、モ
ニタ上の波形が左右対象を示すまで調整を行う。
また、レーザー光源10からのレーザービームLの焦点
位置と疑似サンプル液流の流れの中心の合致つまり合焦
を確認するには、回転つまみ59を廻してフローセル1
をX方向に平行移動させながら、モニタ上のガウス分布
の凹状の谷の部分が、最も低レベルにかつ幅が最も狭く
なるように調整すればよい。このような調整方法を用い
て、光軸01に対して疑似サンプル液流の流れの軸との合
軸調整及び合焦調整を行うことができる。
位置と疑似サンプル液流の流れの中心の合致つまり合焦
を確認するには、回転つまみ59を廻してフローセル1
をX方向に平行移動させながら、モニタ上のガウス分布
の凹状の谷の部分が、最も低レベルにかつ幅が最も狭く
なるように調整すればよい。このような調整方法を用い
て、光軸01に対して疑似サンプル液流の流れの軸との合
軸調整及び合焦調整を行うことができる。
本実施例では、照射光の検体粒子Sによる光軸03上の側
方散乱光及び蛍光測光用光学系を、フローセル1を固定
したステージ41、42上に載置し、これらのステージ
41、42をY方向又はX方向に平行移動させることに
よって、レーザービームLの光軸01との合軸調整及び合
焦調整を行ったが、逆にレーザー光源10と前方散乱光
側光用光学系とを載置する基板40にフローセル1を固
定して、この基板40を側方散乱光及び蛍光測光用光学
系に対して移動することにより、合軸調整及び合焦調整
を行っても同様の効果が得られる。更には、前方散乱光
用光学系のみをステージ41、42上に載置することも
ある。なお実施例では、ステージ41、42の微動調整
にカム軸54、55を用いる方法を使用したが、他の駆
動機構を用いて合軸調整及び合焦調整を行うことも勿論
可能である。
方散乱光及び蛍光測光用光学系を、フローセル1を固定
したステージ41、42上に載置し、これらのステージ
41、42をY方向又はX方向に平行移動させることに
よって、レーザービームLの光軸01との合軸調整及び合
焦調整を行ったが、逆にレーザー光源10と前方散乱光
側光用光学系とを載置する基板40にフローセル1を固
定して、この基板40を側方散乱光及び蛍光測光用光学
系に対して移動することにより、合軸調整及び合焦調整
を行っても同様の効果が得られる。更には、前方散乱光
用光学系のみをステージ41、42上に載置することも
ある。なお実施例では、ステージ41、42の微動調整
にカム軸54、55を用いる方法を使用したが、他の駆
動機構を用いて合軸調整及び合焦調整を行うことも勿論
可能である。
[発明の効果] 以上説明したように本発明に係る粒子解析装置は、一方
の測光光学系と共にフローセルを共通の基台に固定し、
他方の直交する方向の測光光学系の光軸に対して平行及
び垂直に相対的に移動させることによって、レーザービ
ームの光軸と検体粒子の流れの軸との合軸調整及び焦点
調整を正確にしかも容易に行うことができ、精度の高い
測定結果を得ることが可能である。また、上記の合軸調
整及び焦点調整のためのそれぞれの方向の検出は、単一
のアレイ状光電検出器によって両方を行うことができる
ため、構成が簡素で信頼性を高めることができる。
の測光光学系と共にフローセルを共通の基台に固定し、
他方の直交する方向の測光光学系の光軸に対して平行及
び垂直に相対的に移動させることによって、レーザービ
ームの光軸と検体粒子の流れの軸との合軸調整及び焦点
調整を正確にしかも容易に行うことができ、精度の高い
測定結果を得ることが可能である。また、上記の合軸調
整及び焦点調整のためのそれぞれの方向の検出は、単一
のアレイ状光電検出器によって両方を行うことができる
ため、構成が簡素で信頼性を高めることができる。
図面第1図〜第4図は本発明に係る粒子解析装置の一実
施例を示し、第1図は光学系とアライメント装置の構成
図、第2図は第1図のA−A線に沿つた断面図、第3図
は第1図のB方向から見た側面図、第4図は合軸状態に
おける光強度分布図であり、第5図はフローセルの斜視
図、第6図は従来の光学系の配置図である。 符号1はフローセル、2は流通部、10はレーザー光
源、11は結像レンズ、12はビームスプリッタ、1
3、15、18は対物レンズ、14、16は光電検出
器、17はモニタ、23、24はダイクロイックミラ
ー、25はミラー、26、28、30はバリアフィル
タ、27、29、31は光電検出器、32はオートフォ
ーカスユニット、40は基板、41、42はステージ、
43、44はダイアルゲージ、50、51、61、62
はレール、54、55はカム軸、54a、55aはカ
ム、59、60は回転つまみである。
施例を示し、第1図は光学系とアライメント装置の構成
図、第2図は第1図のA−A線に沿つた断面図、第3図
は第1図のB方向から見た側面図、第4図は合軸状態に
おける光強度分布図であり、第5図はフローセルの斜視
図、第6図は従来の光学系の配置図である。 符号1はフローセル、2は流通部、10はレーザー光
源、11は結像レンズ、12はビームスプリッタ、1
3、15、18は対物レンズ、14、16は光電検出
器、17はモニタ、23、24はダイクロイックミラ
ー、25はミラー、26、28、30はバリアフィル
タ、27、29、31は光電検出器、32はオートフォ
ーカスユニット、40は基板、41、42はステージ、
43、44はダイアルゲージ、50、51、61、62
はレール、54、55はカム軸、54a、55aはカ
ム、59、60は回転つまみである。
Claims (2)
- 【請求項1】フローセル内の流通部を流れる検体粒子に
向けて光ビームを集光させて照射する照射光学系と、光
ビームの検体粒子への照射によって側方方向に発する光
を測光する測光光学系と、前記フローセルと前記測光光
学系とを共に載置する基台と、該基台を前記側方方向及
び前記照射光学系の光軸方向に移動させる移動機構と、
前記フローセルからの前記光ビームの出射方向に配置し
た単一のアレイ状光電検出器とを有し、該アレイ状光電
検出器の出力を基に前記フローセルと前記光ビームとの
合軸状態及び合焦状態を検出し、前記移動機構を前記側
方方向及び前記照射光学系の光軸方向に駆動して合軸調
整及び焦点調整を行うことを特徴とする粒子解析装置。 - 【請求項2】前記測光光学系で測光する光は側方散乱光
又は蛍光とした特許請求の範囲第1項記載の粒子解析装
置。
Priority Applications (2)
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---|---|---|---|
JP60252334A JPH061241B2 (ja) | 1985-11-11 | 1985-11-11 | 粒子解析装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60252334A JPH061241B2 (ja) | 1985-11-11 | 1985-11-11 | 粒子解析装置 |
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JPH061241B2 true JPH061241B2 (ja) | 1994-01-05 |
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Family Applications (1)
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JP60252334A Expired - Fee Related JPH061241B2 (ja) | 1985-10-18 | 1985-11-11 | 粒子解析装置 |
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-
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