JPS63292039A - 液体中微粒子検出装置 - Google Patents
液体中微粒子検出装置Info
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- JPS63292039A JPS63292039A JP12864387A JP12864387A JPS63292039A JP S63292039 A JPS63292039 A JP S63292039A JP 12864387 A JP12864387 A JP 12864387A JP 12864387 A JP12864387 A JP 12864387A JP S63292039 A JPS63292039 A JP S63292039A
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この、発明は測定液体に光ビームを投射し、測定液体中
に含まれる微粒子からの散乱光を検出して微粒子の個数
や大きさを計測する液体用の微粒子検出装置に関し、特
にその光学系の構成に適用されるものである。
に含まれる微粒子からの散乱光を検出して微粒子の個数
や大きさを計測する液体用の微粒子検出装置に関し、特
にその光学系の構成に適用されるものである。
技
〔従来の倹術〕
半導体製造プロセスでは清浄度のきわめて筒い純水や薬
液を大量に用いる。これら液体中には微粒子状の異物を
含まないことが必要で、液体用微のうち0.1ないし0
.2μ7n程度の微粒子の慣出を行う90°側方散乱光
受光方式を採用したものの構成図である。測定液体2の
保持体としてのフローセル1は光学的に透明な材料で作
られており。
液を大量に用いる。これら液体中には微粒子状の異物を
含まないことが必要で、液体用微のうち0.1ないし0
.2μ7n程度の微粒子の慣出を行う90°側方散乱光
受光方式を採用したものの構成図である。測定液体2の
保持体としてのフローセル1は光学的に透明な材料で作
られており。
この中を紙面に垂直な方向に微粒子を含む測定液体2が
流れる。フローセル1に対しては光11ijt3゜集束
レンズ5.ビームブロック13で構成される破線で囲ま
れた投光手段16からレーザビーム4が投射される。光
源3としては各種レーザが用いられ、レーザビーム4は
集束レンズ5により絞り込まれビームウェスト6でフロ
ーセル1内のff1ll 定液体2を照射し、フローセ
ル1から出射した後にビームブロック13で遮蔽される
。測定液体2中に微粒子が存在するとその微粒子がレー
ザビーム4中を横切ることになり1粒径に応じた強度を
もつ散乱光7が発生する。この散乱光7はレーザビーム
4に垂直な光軸12をもつ来束体としての受光レンズ8
.絞り10.光検出器9で構成される受光系の光検出器
9に入射し、その光検出器9から′心気パルスとして出
力される。このパルス出力を増幅器14で増幅した仮計
測回路15においてパルス数から微粒子数を、またパル
ス波高から微粒子の粒径を計測する。なお上記の光軸1
2上に設けられた絞り10は光検出器9に入射する散乱
光7を、フローセル1内において斜線を施した有効散乱
光発生領域11からの散乱光に限定し、迷光を除去する
ために設けられる。図示によって明したものは絞り10
で遮られることなく有効ζこ光検出器9に入射する。前
記の迷光の主原因が液体分子によるレーリー散乱光であ
ることから、絞り10を小さくし、したがって有効散乱
光発生領域11を小さくし、さらにビームウェスト6を
フローセル1内において有効散乱光発生領域11より小
さく絞り込むことによってS/N比を同上させることが
できる。
流れる。フローセル1に対しては光11ijt3゜集束
レンズ5.ビームブロック13で構成される破線で囲ま
れた投光手段16からレーザビーム4が投射される。光
源3としては各種レーザが用いられ、レーザビーム4は
集束レンズ5により絞り込まれビームウェスト6でフロ
ーセル1内のff1ll 定液体2を照射し、フローセ
ル1から出射した後にビームブロック13で遮蔽される
。測定液体2中に微粒子が存在するとその微粒子がレー
ザビーム4中を横切ることになり1粒径に応じた強度を
もつ散乱光7が発生する。この散乱光7はレーザビーム
4に垂直な光軸12をもつ来束体としての受光レンズ8
.絞り10.光検出器9で構成される受光系の光検出器
9に入射し、その光検出器9から′心気パルスとして出
力される。このパルス出力を増幅器14で増幅した仮計
測回路15においてパルス数から微粒子数を、またパル
ス波高から微粒子の粒径を計測する。なお上記の光軸1
2上に設けられた絞り10は光検出器9に入射する散乱
光7を、フローセル1内において斜線を施した有効散乱
光発生領域11からの散乱光に限定し、迷光を除去する
ために設けられる。図示によって明したものは絞り10
で遮られることなく有効ζこ光検出器9に入射する。前
記の迷光の主原因が液体分子によるレーリー散乱光であ
ることから、絞り10を小さくし、したがって有効散乱
光発生領域11を小さくし、さらにビームウェスト6を
フローセル1内において有効散乱光発生領域11より小
さく絞り込むことによってS/N比を同上させることが
できる。
この装置の光軸12上においては、ビームウェスト6が
有効散乱光発生領域11の中心部の点Oを通り、この中
心部の散乱光が受光レンズ8によって絞り10の中心の
点Bに結像するように調整が行われる。
有効散乱光発生領域11の中心部の点Oを通り、この中
心部の散乱光が受光レンズ8によって絞り10の中心の
点Bに結像するように調整が行われる。
上記の調整は一般にフローセル1内に純水を満して行わ
れる。したがって純水以外の薬液のような液体を測定す
る場合には屈折率の相異から有効散乱光発生領域11の
位置が調整時の位置とは異なった箇所に移動する。純水
以外の液体で調整を行った場合も、その液体とは異なる
液体を測定する場合には同様な問題を生ずる。
れる。したがって純水以外の薬液のような液体を測定す
る場合には屈折率の相異から有効散乱光発生領域11の
位置が調整時の位置とは異なった箇所に移動する。純水
以外の液体で調整を行った場合も、その液体とは異なる
液体を測定する場合には同様な問題を生ずる。
第6図は上記の有効散乱光発生領域11の移動を示した
説明図である。薬液の屈折率は純水の屈折率1.33よ
り大きなものが多い。したがって純水で光学系の調節を
行った装置にこのような薬液を適用した場合、絞り10
を通過できる空気中側の光線の経路を固定して考えると
、この光線に対して有効散乱光発生領域11に関する光
線はフローセル1内において破線から実線のように変化
し、したがって有効散乱光発生領域11もビームウェス
ト6の中心と一致する破線で囲まれたllaから実線で
凹まれかつ斜線を施したllbに移動する。この移動距
離は薬液の屈折率と純水の屈折率との差が大きい根太で
ある。この移動によって有効散乱光発生領域11bのビ
ームウェスト6と交差する部分の体積が減少する。ビー
ムウェスト6における上記の有効散乱光発生領域11b
以外の部分からもそこに微粒子があれば当然散乱光が発
生するが、これらの散乱光は絞り10の中心には結像し
ないため、絞り10によって一部がまた場合によっては
大半が遮られる。したがって同じ粒径の微粒子を測定し
ても純水中と薬液中とでは光検出器9の受光光量は同じ
にならず、屈折率に応じ測定結果に差が出することにな
る。さらに移動量が大きくなり有効散乱光発生領域11
とビームウェスト6とが交差しなくなると、光検出器9
への入射光の低下がいちじるしくなって測定不能状態に
陥る。
説明図である。薬液の屈折率は純水の屈折率1.33よ
り大きなものが多い。したがって純水で光学系の調節を
行った装置にこのような薬液を適用した場合、絞り10
を通過できる空気中側の光線の経路を固定して考えると
、この光線に対して有効散乱光発生領域11に関する光
線はフローセル1内において破線から実線のように変化
し、したがって有効散乱光発生領域11もビームウェス
ト6の中心と一致する破線で囲まれたllaから実線で
凹まれかつ斜線を施したllbに移動する。この移動距
離は薬液の屈折率と純水の屈折率との差が大きい根太で
ある。この移動によって有効散乱光発生領域11bのビ
ームウェスト6と交差する部分の体積が減少する。ビー
ムウェスト6における上記の有効散乱光発生領域11b
以外の部分からもそこに微粒子があれば当然散乱光が発
生するが、これらの散乱光は絞り10の中心には結像し
ないため、絞り10によって一部がまた場合によっては
大半が遮られる。したがって同じ粒径の微粒子を測定し
ても純水中と薬液中とでは光検出器9の受光光量は同じ
にならず、屈折率に応じ測定結果に差が出することにな
る。さらに移動量が大きくなり有効散乱光発生領域11
とビームウェスト6とが交差しなくなると、光検出器9
への入射光の低下がいちじるしくなって測定不能状態に
陥る。
上記の有効散乱光発生領域11のずれは内径4n角のフ
ローセル、空気中での開口数0.37の受光レンズ系を
使用した場合、屈折率1.5の液体(ベンゼンなど)の
測定で0.3罪程度となるが、最小町側粒子径が0.2
μm以下の装置はS/N比向上向上め有効散乱光発生領
域11の大きさを0.1龍ないし0.5朋程度に抑えで
あるため、Q、3mgのずれによって測定値が2桁以上
も減少する場合がある。すなわち装置の最小軒側粒子径
を小さくするために有効散乱光発生領域11を小さくす
ればするほど、屈折率の違いによる影響を受けやすく響
を与えることになる。このため適用可能な測定液体が純
水に近い屈折率をもつものに限られ、屈折率が純水の値
と大幅に異なるような測定液体に対しては、その屈折率
に対して装置を分解して調整しなおすか、あるいはその
ような装置を別に備えるかしなければならないという問
題がある。また、これを避けてレーザビームを光軸12
と一致させて投射し、有効散乱光発生領域11が常にレ
ーザビーム上を移動するようにして光軸12上の光のみ
遮蔽して前方散乱光を検出するようにしたものもある。
ローセル、空気中での開口数0.37の受光レンズ系を
使用した場合、屈折率1.5の液体(ベンゼンなど)の
測定で0.3罪程度となるが、最小町側粒子径が0.2
μm以下の装置はS/N比向上向上め有効散乱光発生領
域11の大きさを0.1龍ないし0.5朋程度に抑えで
あるため、Q、3mgのずれによって測定値が2桁以上
も減少する場合がある。すなわち装置の最小軒側粒子径
を小さくするために有効散乱光発生領域11を小さくす
ればするほど、屈折率の違いによる影響を受けやすく響
を与えることになる。このため適用可能な測定液体が純
水に近い屈折率をもつものに限られ、屈折率が純水の値
と大幅に異なるような測定液体に対しては、その屈折率
に対して装置を分解して調整しなおすか、あるいはその
ような装置を別に備えるかしなければならないという問
題がある。また、これを避けてレーザビームを光軸12
と一致させて投射し、有効散乱光発生領域11が常にレ
ーザビーム上を移動するようにして光軸12上の光のみ
遮蔽して前方散乱光を検出するようにしたものもある。
しかしながら前方散乱光は90°側方散乱光にくらべて
迷光の成分が桁ちがいに大きく散乱光を測定する方式の
装置で、測定液体のの屈折率が異なっても測定結果がそ
の影響を受けないように容易に対処できる装置を提供す
ることを目的とする。
迷光の成分が桁ちがいに大きく散乱光を測定する方式の
装置で、測定液体のの屈折率が異なっても測定結果がそ
の影響を受けないように容易に対処できる装置を提供す
ることを目的とする。
この発明は測定する液体の屈折率が異なった場合にも常
に有効散乱光発生領域の中心部とビームウェストの中心
部とが一致するように投光系、光ビーム、集束体、絞り
のうちの少なくとも一つに対して、これらが設置されて
いる光軸上における位置の調節を可能とする駆動手段を
備えることによって問題点を解決しようとするものであ
る。
に有効散乱光発生領域の中心部とビームウェストの中心
部とが一致するように投光系、光ビーム、集束体、絞り
のうちの少なくとも一つに対して、これらが設置されて
いる光軸上における位置の調節を可能とする駆動手段を
備えることによって問題点を解決しようとするものであ
る。
保持体、投光手段1元ビーム、集束体、絞りのうち少な
くとも一つが光軸上に2ける位置を駆動手段によって調
節可能であるように構成すると。
くとも一つが光軸上に2ける位置を駆動手段によって調
節可能であるように構成すると。
測定液体の屈折率変化に応じて測定液体中のビームウェ
ストの中心部を常に絞りの中心部に結像させる位置にこ
れらを設定することが可能となる。
ストの中心部を常に絞りの中心部に結像させる位置にこ
れらを設定することが可能となる。
これはとりもなおさず有効散乱光発生領域の中心部を液
体試料の屈折率の如何にかかわらず常にビームウェスト
の中心部に位置させること番こ相当するので、屈折率変
化の影響を受けにくくすることができるようになる。
体試料の屈折率の如何にかかわらず常にビームウェスト
の中心部に位置させること番こ相当するので、屈折率変
化の影響を受けにくくすることができるようになる。
第1−図はこの発明の実施例の構成を示したものである
。(a)は実施例の構成図であって、マイクロメータヘ
ッド21を備えて光軸12に溜って移、動するスライド
ステージ22を駆動手段20として設け、このスライド
ステージ22上に集束体としての受光レンズ8.絞り1
0.光検出器9とで構成される受光系を搭載する。測定
液体2の種類が変わり、その屈折率が変わった場合には
、マイクロメータヘッド21によってスライドステージ
22を移動させ、受光レンズ8と絞り10の相対位置は
一定に保ったままでこれらの光軸12上における位置を
変じて、ビームウェスト6の中心部からの散乱光を絞り
10の中心に結像させる。
。(a)は実施例の構成図であって、マイクロメータヘ
ッド21を備えて光軸12に溜って移、動するスライド
ステージ22を駆動手段20として設け、このスライド
ステージ22上に集束体としての受光レンズ8.絞り1
0.光検出器9とで構成される受光系を搭載する。測定
液体2の種類が変わり、その屈折率が変わった場合には
、マイクロメータヘッド21によってスライドステージ
22を移動させ、受光レンズ8と絞り10の相対位置は
一定に保ったままでこれらの光軸12上における位置を
変じて、ビームウェスト6の中心部からの散乱光を絞り
10の中心に結像させる。
(b)は上記の構成において受光レンズ8の有効な周縁
を通る散乱光の経路を光軸12の片側について示したも
のである。点0はビームウェスト6の中心9点Cはフロ
ーセル1の境界でフローセル1の壁厚は無視しである。
を通る散乱光の経路を光軸12の片側について示したも
のである。点0はビームウェスト6の中心9点Cはフロ
ーセル1の境界でフローセル1の壁厚は無視しである。
点Aは受光レンズ8の位置1点Bは絞り10の位置であ
る。この状態においてレンズの有効な周縁りを通る散乱
光は元軸に対して点0から角度iで出射し、境界面1’
C上の点Pに入射角iで入射した後屈折し、屈折角θで
空気中に出射し、受光レンズの有効な周縁の点D′を経
て絞り10の中心の点Bに結像する。すなわちこの場合
点0から角Hi以下で出射した散乱光は空気中に角度θ
以下の屈折角で出射してすべて点Bに結像する。
る。この状態においてレンズの有効な周縁りを通る散乱
光は元軸に対して点0から角度iで出射し、境界面1’
C上の点Pに入射角iで入射した後屈折し、屈折角θで
空気中に出射し、受光レンズの有効な周縁の点D′を経
て絞り10の中心の点Bに結像する。すなわちこの場合
点0から角Hi以下で出射した散乱光は空気中に角度θ
以下の屈折角で出射してすべて点Bに結像する。
測定液体2の屈折率が変化すると、空気中での屈折角θ
を与える光のP点における入射角は角度iからilに変
化し、この光の出射点は点oIに移行する。すなわち有
効散乱領域11が点Oから点01に移行したことになる
。この状態において境界面PC上の点PIにに点Oから
o’p+こ平行に引いた直線OP’lCGう光は点P゛
への入射角がi lであるため、空気中に屈折角θで出
射する。したがって点りより光軸12に平行に引いた直
線DD1と点P′より直線PDに平行に引いた直線P’
D’との交点D’より光軸12に下ろした垂線の位置A
Iの位置に受光レンズ8を設定しなおせば絞りの位置も
点B’に移行し。
を与える光のP点における入射角は角度iからilに変
化し、この光の出射点は点oIに移行する。すなわち有
効散乱領域11が点Oから点01に移行したことになる
。この状態において境界面PC上の点PIにに点Oから
o’p+こ平行に引いた直線OP’lCGう光は点P゛
への入射角がi lであるため、空気中に屈折角θで出
射する。したがって点りより光軸12に平行に引いた直
線DD1と点P′より直線PDに平行に引いた直線P’
D’との交点D’より光軸12に下ろした垂線の位置A
Iの位置に受光レンズ8を設定しなおせば絞りの位置も
点B’に移行し。
DD’ =AA’ =BB’であるためDB 77 n
となって点Oから角度11で出射した光は受光レンズの
周縁D“を通って新たな絞り10の位置B゛に結像する
。
となって点Oから角度11で出射した光は受光レンズの
周縁D“を通って新たな絞り10の位置B゛に結像する
。
この時の空気中の光の経路P’ D’ B’は測定液体
の屈折率が変る前の光の経路PDAと全く同様である。
の屈折率が変る前の光の経路PDAと全く同様である。
すなわち有効散乱領域01をビームウェスト6の中心部
である点0に合わせたこととなる。
である点0に合わせたこととなる。
以上のように測定液体の屈折率の変化に対して受光レン
ズ8と絞り10の相対位置を一定lこ保ったまま駆動手
段20で光軸12上を移動させることにより常に有効散
乱領域11をビームウェスト6の中心部に置くことがで
きる。
ズ8と絞り10の相対位置を一定lこ保ったまま駆動手
段20で光軸12上を移動させることにより常に有効散
乱領域11をビームウェスト6の中心部に置くことがで
きる。
この実施例においてはマイクロメータヘッド21の目盛
を測定液体2の屈折率に対して校正するか。
を測定液体2の屈折率に対して校正するか。
あるいはその校正結果にしたがってマイクロメータヘッ
ド21に屈折率に応じた目盛を付するかすることによっ
て、屈折率既知の液体に対処することが可能となる。上
記の校正は受光レンズ8と反対側の光軸12上に顕微鏡
を設置してビームウェスト6の中心にピントを合わせて
おき、絞りの像がビームウェスト6の中心で明瞭に観察
できる時のマイクロメータヘッド21の目盛値を読みと
るか、あるいは光検出器8の受光する液体分子からのレ
ーリー散乱光の光量を最大とするマイクロメータヘッド
21の目盛を読みとるかすること1こよって行われる。
ド21に屈折率に応じた目盛を付するかすることによっ
て、屈折率既知の液体に対処することが可能となる。上
記の校正は受光レンズ8と反対側の光軸12上に顕微鏡
を設置してビームウェスト6の中心にピントを合わせて
おき、絞りの像がビームウェスト6の中心で明瞭に観察
できる時のマイクロメータヘッド21の目盛値を読みと
るか、あるいは光検出器8の受光する液体分子からのレ
ーリー散乱光の光量を最大とするマイクロメータヘッド
21の目盛を読みとるかすること1こよって行われる。
液体分子からのレーリー散乱光は光検出器8の出力信号
のバックグラウンドノイズの主成分となっており、この
出力信号を増幅器14で増幅シた後ローパスフィルタ2
3によって測定液体の含む微粒子からの信号を除いて指
示計24によって最大値を読みとることができる。
のバックグラウンドノイズの主成分となっており、この
出力信号を増幅器14で増幅シた後ローパスフィルタ2
3によって測定液体の含む微粒子からの信号を除いて指
示計24によって最大値を読みとることができる。
第2図はこの発明の第2の実施例の構成を示したもので
ある。この実施例においては駆動手段28がモータ26
とスライドステージ27とで構成されており、光検出器
9.増幅器14.ローパスフィルタ23.最大値検出回
路25を含む自動制御系によって駆動されるようになっ
ている。ローパスフィルタ23の出力は最大値検出回路
25に与えられ、最大値検出回路25においてはローパ
スフィルタ23の出力を微分し、さらに増幅した後モー
タ26の駆動信号29として出力する。この」動信号2
9はスライドステージ27に搭載された光検出器9の出
力が最大値を与える位置でゼロとなってモータ26を停
止させ、受光系をその位置に自動的に設定する。すなわ
ち測定液体2の屈折率に対応して常にビームウェスト6
の中心部を絞り10の中心に結像させる位置を自動的に
設定することができる。
ある。この実施例においては駆動手段28がモータ26
とスライドステージ27とで構成されており、光検出器
9.増幅器14.ローパスフィルタ23.最大値検出回
路25を含む自動制御系によって駆動されるようになっ
ている。ローパスフィルタ23の出力は最大値検出回路
25に与えられ、最大値検出回路25においてはローパ
スフィルタ23の出力を微分し、さらに増幅した後モー
タ26の駆動信号29として出力する。この」動信号2
9はスライドステージ27に搭載された光検出器9の出
力が最大値を与える位置でゼロとなってモータ26を停
止させ、受光系をその位置に自動的に設定する。すなわ
ち測定液体2の屈折率に対応して常にビームウェスト6
の中心部を絞り10の中心に結像させる位置を自動的に
設定することができる。
以上の実施例では受光系をスライドステージ21に搭載
して移動させ、光軸12上の受光レンズ8と絞り10の
位置が訓節可能であるようにしたが。
して移動させ、光軸12上の受光レンズ8と絞り10の
位置が訓節可能であるようにしたが。
この反対に光源3.集束レンズ5.ビームブロック13
で構成される投光手段を移動させて目的を達成すること
ができる。
で構成される投光手段を移動させて目的を達成すること
ができる。
第3図はこの発明の第3の実施例として上記の投光手段
を移動させるものの構成を示す。光源3゜集束レンズ5
.ビームブロック13を搭載したスライドステージ31
とマイクロメータヘッド32とが駆動手段30を構成し
ており、マイクロメータヘッド32でスライドステージ
31を、駆動してビームウェスト6の中心部を光軸12
上において移動させる。これによってビームウェスト6
の中心部は第1図tb)に示す点Oから点O゛に移動す
るので、ビームウェスト6の中心部からの散乱光の結像
条件を保たせることができる。このビームウェスト6の
移動はまた反射説や変向器などを駆動手段で駆動してレ
ーザビーム4のみを移動させることによっても実現でき
る。レーザビーム4のみを移動させることは用いる装置
が小形ですむという利点を有する。
を移動させるものの構成を示す。光源3゜集束レンズ5
.ビームブロック13を搭載したスライドステージ31
とマイクロメータヘッド32とが駆動手段30を構成し
ており、マイクロメータヘッド32でスライドステージ
31を、駆動してビームウェスト6の中心部を光軸12
上において移動させる。これによってビームウェスト6
の中心部は第1図tb)に示す点Oから点O゛に移動す
るので、ビームウェスト6の中心部からの散乱光の結像
条件を保たせることができる。このビームウェスト6の
移動はまた反射説や変向器などを駆動手段で駆動してレ
ーザビーム4のみを移動させることによっても実現でき
る。レーザビーム4のみを移動させることは用いる装置
が小形ですむという利点を有する。
これらのビームウェスト6の位置設定にも第2図と類似
の自動制御系を適用できることはもちろんである。
の自動制御系を適用できることはもちろんである。
第4図はこの発明の第4の実施例である。この実施例で
はフローセル41を光軸12に平行に移uJすせるよう
にしである。
はフローセル41を光軸12に平行に移uJすせるよう
にしである。
(a)は構成図でフローセル41の支持体42を搭載し
たスライドステージ43とマイクロメータヘッド44と
で駆動手段40を構成し、第1の実施例と同じようにマ
イクロメータヘッド44で光軸12上の位置を調節可能
としたものである。この61節に対しても第2の実施例
と同様に自動制御系が適用できる。
たスライドステージ43とマイクロメータヘッド44と
で駆動手段40を構成し、第1の実施例と同じようにマ
イクロメータヘッド44で光軸12上の位置を調節可能
としたものである。この61節に対しても第2の実施例
と同様に自動制御系が適用できる。
(b)は第1図(b)と同様に受光レンズ8の有効な周
縁の点りを通る光によって、この第4の実施例を示した
原理図である。点O9点C2点P1点A−。
縁の点りを通る光によって、この第4の実施例を示した
原理図である。点O9点C2点P1点A−。
点Bは第1図(b)と全く同様である。測定液体2の屈
折率が変化し、有効散乱光発生領域11が点O′に移行
した状態において5点Oより直線0°Pに平行に引いた
直線OF’と直線DPの延長上との交点P’から光軸1
2に下ろした垂線p’ c’がフローセル41の移動に
より点O゛からの光線を点Bに結像させる新たな境界面
となる。何故ならば直線OF’に沿う光は点p+におい
て境界p’c’に入射角11で入射し、直線DP゛に沿
う光は当初と同じ屈折角θで点りに向って出射するから
である。すなわち境界面を光軸12上において新たに点
C1に設定することにより、有効散乱光発生領域11を
点01から点0すなわちビームウェスト6の中心部に設
定しなおしたことになる。
折率が変化し、有効散乱光発生領域11が点O′に移行
した状態において5点Oより直線0°Pに平行に引いた
直線OF’と直線DPの延長上との交点P’から光軸1
2に下ろした垂線p’ c’がフローセル41の移動に
より点O゛からの光線を点Bに結像させる新たな境界面
となる。何故ならば直線OF’に沿う光は点p+におい
て境界p’c’に入射角11で入射し、直線DP゛に沿
う光は当初と同じ屈折角θで点りに向って出射するから
である。すなわち境界面を光軸12上において新たに点
C1に設定することにより、有効散乱光発生領域11を
点01から点0すなわちビームウェスト6の中心部に設
定しなおしたことになる。
この第4の実施例においてはフローセル41が小さいた
めにその駆動のための機構が小形ですむという利点があ
る。
めにその駆動のための機構が小形ですむという利点があ
る。
このようにこの発明では有効散乱光発生領域11が常に
ビームウェスト6の中心にあるように駆動手段によって
光学系の構成要素を光軸12上で移動させるようにして
おり、そのためにはビームウェスト6の中心部からの散
乱光が常に絞り11の中心に結像させるようにすればよ
い。したがって上記の諸実施例のほかに受光レンズ8や
絞り10をそれぞれ駆動手段で単独で移動させることに
よっても、ビームウェスト6の中心部からの散乱光を絞
り10の中心に結像させることが可能であって、目的を
達成することができる、これらに対しても自動制御系に
よる駆動が適用できることはもちろんである。
ビームウェスト6の中心にあるように駆動手段によって
光学系の構成要素を光軸12上で移動させるようにして
おり、そのためにはビームウェスト6の中心部からの散
乱光が常に絞り11の中心に結像させるようにすればよ
い。したがって上記の諸実施例のほかに受光レンズ8や
絞り10をそれぞれ駆動手段で単独で移動させることに
よっても、ビームウェスト6の中心部からの散乱光を絞
り10の中心に結像させることが可能であって、目的を
達成することができる、これらに対しても自動制御系に
よる駆動が適用できることはもちろんである。
なお第1図(b)、第4図(b)で示したように、受光
レンズ8の周縁りを通る光線は有効散乱光発生領域11
から角度iで出射している。すなわち結像条件を満す有
効散乱領域11からの散乱光の最大出射角はiである。
レンズ8の周縁りを通る光線は有効散乱光発生領域11
から角度iで出射している。すなわち結像条件を満す有
効散乱領域11からの散乱光の最大出射角はiである。
この最大出射角は液体の屈折率の変化によって1から1
1に変る。したがって結像条件が満されても受光光量は
厳密には屈折率の影響を若干受けることになる。しかし
ながらその影響の程度は従来技術の装置にくらべてはる
かに少ない。問題点の項で述べた4關角のフローセルと
空気中での開口数0.37の受光レンズ系を使用した場
合に液体の屈折率が純水の1.33からベンゼンなどの
1.5に変動した場合、受光量は従来技術の装置におい
ては2桁以上変動するが、この発明の装置においてはた
かだか20%程度にすぎない。
1に変る。したがって結像条件が満されても受光光量は
厳密には屈折率の影響を若干受けることになる。しかし
ながらその影響の程度は従来技術の装置にくらべてはる
かに少ない。問題点の項で述べた4關角のフローセルと
空気中での開口数0.37の受光レンズ系を使用した場
合に液体の屈折率が純水の1.33からベンゼンなどの
1.5に変動した場合、受光量は従来技術の装置におい
ては2桁以上変動するが、この発明の装置においてはた
かだか20%程度にすぎない。
この発明によれば微粒子を含む測定液体の保持体、投光
系、光ビーム、集束体、絞りのうちの少な(とも一つが
測定液体中の微粒子からの散乱光の受光系の光軸上にお
ける位置を駆動手段で調節可能となるようにしたので、
測定液体の屈折率が変化してもその測定液体中の光ビー
ムのビームウェストの中心部を常に受光系の絞りの中心
に結像させることが可能となる。このため光検出器の受
光量が測定液体の屈折率変化の影響を受けにくくなり、
液体の種類に無関係にほぼ同一条件で測定液体中の微粒
子の数と粒径の測定することが可能となる。
系、光ビーム、集束体、絞りのうちの少な(とも一つが
測定液体中の微粒子からの散乱光の受光系の光軸上にお
ける位置を駆動手段で調節可能となるようにしたので、
測定液体の屈折率が変化してもその測定液体中の光ビー
ムのビームウェストの中心部を常に受光系の絞りの中心
に結像させることが可能となる。このため光検出器の受
光量が測定液体の屈折率変化の影響を受けにくくなり、
液体の種類に無関係にほぼ同一条件で測定液体中の微粒
子の数と粒径の測定することが可能となる。
第1図はこの発明の実施例の構成図、第2図。
第3図、および第4図はこの発明のそれぞれ異なる実施
例の構成図、第5図は従来技術による微粒子検出装置の
構成図、第6図は従来技術の装置における有効散乱光発
生領域の移動を示す説明図である。 1,41:フローセル(保持体)、2:測定液体。 3:光源、4:レーザビーム、6:ビームウェスト、7
:散乱光、8:受光レンズ(集束体)、9:光検出器、
10:絞り、 11.lla、llb:有効散乱光発
生領域、12:光軸、15:計測回路。 16二投光手段、20.28,30.40 :駆動手段
。 21.32.44 :マイクロメータヘッド、22.2
7゜31.43ニスライドステージ、26:モータ。 竿II¥1 13 ロ
例の構成図、第5図は従来技術による微粒子検出装置の
構成図、第6図は従来技術の装置における有効散乱光発
生領域の移動を示す説明図である。 1,41:フローセル(保持体)、2:測定液体。 3:光源、4:レーザビーム、6:ビームウェスト、7
:散乱光、8:受光レンズ(集束体)、9:光検出器、
10:絞り、 11.lla、llb:有効散乱光発
生領域、12:光軸、15:計測回路。 16二投光手段、20.28,30.40 :駆動手段
。 21.32.44 :マイクロメータヘッド、22.2
7゜31.43ニスライドステージ、26:モータ。 竿II¥1 13 ロ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)測定液体を保持する光学的に透明な保持体と、その
保持体の内部で集束する光ビームを投射する投光手段と
、前記の光ビームと交差する光軸上にそれぞれ設けられ
た光の集束体と、絞りと、光検出器とを備えて、前記の
光ビームに照射された測定液体中の微粒子からの散乱光
を前記の集束体で集束させた後前記の絞りを通して前記
の光検出器で検知して前記の微粒子を検出する装置にお
いて、保持体、投光手段、光ビーム、集束体、絞りのう
ちの少なくとも一つが駆動手段によって前記の光軸上に
おける位置を調節できることを特徴とする液体中微粒子
検出装置。 2)特許請求の範囲第1項記載の装置において、駆動手
段が保持体、投光手段、光ビーム、集束体、絞りのうち
少なくとも一つの光軸上の位置を、測定液体の分子から
の散乱光を受光した光検出器の出力を最大とする位置に
設定することを特徴とする液体中微粒子検出装置。 3)特許請求の範囲第2項記載の装置において、駆動手
段の駆動が光検出器の出力信号を入力信号としその入力
信号の微分値を出力する最大値検出手段を備えた自動制
御系によって行われることを特徴とする液体中微粒子検
出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12864387A JPS63292039A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 液体中微粒子検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12864387A JPS63292039A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 液体中微粒子検出装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63292039A true JPS63292039A (ja) | 1988-11-29 |
Family
ID=14989891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12864387A Pending JPS63292039A (ja) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | 液体中微粒子検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63292039A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018509610A (ja) * | 2015-02-18 | 2018-04-05 | ベクトン・ディキンソン・アンド・カンパニーBecton, Dickinson And Company | 光検出システム及びその使用方法 |
WO2018135488A1 (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 |
WO2018135487A1 (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 |
WO2020026378A1 (ja) * | 2018-08-01 | 2020-02-06 | 株式会社島津製作所 | 光散乱検出装置および光散乱検出方法 |
JP2020119996A (ja) * | 2019-01-24 | 2020-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法。 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62112034A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-23 | Canon Inc | 粒子解析装置 |
-
1987
- 1987-05-26 JP JP12864387A patent/JPS63292039A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62112034A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-23 | Canon Inc | 粒子解析装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018509610A (ja) * | 2015-02-18 | 2018-04-05 | ベクトン・ディキンソン・アンド・カンパニーBecton, Dickinson And Company | 光検出システム及びその使用方法 |
JP2021105616A (ja) * | 2015-02-18 | 2021-07-26 | ベクトン・ディキンソン・アンド・カンパニーBecton, Dickinson And Company | 光検出システム及びその使用方法 |
JPWO2018135488A1 (ja) * | 2017-01-20 | 2019-12-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 |
CN110178018A (zh) * | 2017-01-20 | 2019-08-27 | 东京毅力科创株式会社 | 异物检测装置、异物检测方法和存储介质 |
KR20190108571A (ko) * | 2017-01-20 | 2019-09-24 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 이물 검출 장치, 이물 검출 방법 및 기억 매체 |
JPWO2018135487A1 (ja) * | 2017-01-20 | 2019-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 |
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US11048016B2 (en) | 2017-01-20 | 2021-06-29 | Tokyo Electron Limited | Foreign substance detection device, foreign substance detection method and recording medium |
WO2018135488A1 (ja) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 |
TWI743288B (zh) * | 2017-01-20 | 2021-10-21 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 異物檢出裝置,異物檢出方法及記憶媒體 |
WO2020026378A1 (ja) * | 2018-08-01 | 2020-02-06 | 株式会社島津製作所 | 光散乱検出装置および光散乱検出方法 |
JP2020119996A (ja) * | 2019-01-24 | 2020-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法。 |
JP2021168395A (ja) * | 2019-01-24 | 2021-10-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法。 |
TWI839437B (zh) * | 2019-01-24 | 2024-04-21 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理裝置、基板處理系統及基板處理方法 |
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