JPH05340865A - 測定装置 - Google Patents

測定装置

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JPH05340865A
JPH05340865A JP4149469A JP14946992A JPH05340865A JP H05340865 A JPH05340865 A JP H05340865A JP 4149469 A JP4149469 A JP 4149469A JP 14946992 A JP14946992 A JP 14946992A JP H05340865 A JPH05340865 A JP H05340865A
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JP
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irradiation
laser
measuring device
light
energy
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JP4149469A
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Tatsuya Yamazaki
達也 山▲崎▼
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume, or surface-area of porous materials
    • G01N15/10Investigating individual particles
    • G01N15/14Electro-optical investigation, e.g. flow cytometers
    • G01N15/1456Electro-optical investigation, e.g. flow cytometers without spatial resolution of the texture or inner structure of the particle, e.g. processing of pulse signals
    • G01N15/1459Electro-optical investigation, e.g. flow cytometers without spatial resolution of the texture or inner structure of the particle, e.g. processing of pulse signals the analysis being performed on a sample stream
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume, or surface-area of porous materials
    • G01N15/10Investigating individual particles
    • G01N15/14Electro-optical investigation, e.g. flow cytometers
    • G01N2015/1477Multiparameters

Abstract

(57)【要約】 【目的】 装置の大型化やコストの上昇を招くことな
く、放射エネルギの指向性変動に拘らず正確な測定を行
なうことができる測定装置を提供すること。 【構成】 レーザ発光部1と、レーザ出力ミラー2を有
する光源からのレーザビームを照射光学系(3、4)に
よってフローセル5内の照射領域6に照射される。フロ
ーセル5を流れる被検粒子によって発する散乱光や蛍光
は検出器(7、8)で検出される。ここでレーザ光の指
向性変動の支点であるレーザ出力ミラー2近傍と照射領
域6とが光学的に略共役にされており、レーザ光の指向
性が変動してもその影響を受けずに正確に測定が行なえ
るようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は例えば、被検物に光を照
射して被検物より生じる散乱光や蛍光を測定する測定装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】被検物にレーザ光等の放射ビームを照射
し、被検物より生じる散乱光や蛍光を測定する測定装置
の一例として、フローサイトメータ、パーティクルカウ
ンタ、異物欠陥検査装置などが従来から知られており、
生物学分野、医療分野、半導体分野、その他工業分野な
どで広く用いられている。
【0003】一般に精密な光学測定装置には光源として
単色性集光性に優れるレーザ光を使用している。しかし
ながら通常レーザ光の指向性は100Hz 以上の周波数で微
小変動しており、同時にこの指向性はレーザ保持機構の
熱収縮によっても緩やかに変動する。よって従来の測定
装置の光学系はレーザ光の照射位置の正確な制御が難し
く測定精度の更なる向上は容易ではなかった。
【0004】また被検粒子を流すための流体系が不安定
であれば、流路を流れる披検粒子も本来の位置から流路
に直交する方向に変動する。この際、レーザ光の強度は
ガウス分布をしているので、照射レーザ光に対し披検粒
子の位置が変動した場合には、披検粒子に照射されるレ
ーザ光の強度が変わるために、披検粒子から発する散乱
光やレーザ光によって励起される蛍光の強度が不安定に
なり、正確な披検粒子の測定が困難になる。
【0005】そこでこの課題を解決するために、従来は
照射するレーザ光のスポット形状を被検粒子の流れに対
して直交する方向に長径を有する楕円形状にしていた。
すると照射レーザ光強度分布が広がり流れに対して直交
する方向の照射光強度変化が減少するので、披検粒子の
位置が照射レーザ光に対して前記方向に若干移動して
も、披検粒子に当たる照射レーザ光の強度変動を抑制す
ることができる。
【0006】しかしながらこの方法では照射レーザ光の
断面積が大きくなるので、披検粒子に照射される光エネ
ルギ密度が減少し、その結果、披検粒子から発する散乱
光や蛍光の強度も弱くなり、検出器で検出される信号の
S/N比が低くなってしまう。これを補うためには強力
レーザ光を発するレーザ光源を用いれば良いが、装置の
大型化・コスト上昇の要因になってしまう。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、装置の
大型化やコストの上昇を招くことなく、放射エネルギの
指向性変動に拘らず正確な測定を行なうことができる測
定装置を提供することにある。
【0008】この目的を達成する本発明の測定装置は、
エネルギ放射源と、該エネルギ放射源からの放射エネル
ギを披検物に照射する照射手段と、該披検物の特性を検
知する検知手段とを有し、該照射手段は該放射エネルギ
の指向性変動の支点と該披検物が放射エネルギで照射さ
れる照射領域とを略共役にすることを特徴とするもので
ある。
【0009】
【実施例】本発明の実施例の説明にあたり、まず本発明
の基本的な考え方を説明する。一般にレーザビームのビ
ームウェストの径と位置は次式(1)(2)で表わされ
る(図1参照)。なおw0 は物側ビームウェストの径、
0 ' は像側ビームウェストの径,z0 はレンズと物側
ビームウェストの距離、z0 ' はレンズと像側ビームウ
エストの距離、fはレンズの焦点距離、λは光の波長で
ある。
【0010】 w0 ' =w0 f/((f+z02 +a21/2 (1) z0 ' =f(1−f(f+z0 )/((f+z02 +a2 )) (2) a=πw0 2/λ (2)式において、光学系の物側焦点位置にビームウェ
ストがあると、z0 =−fであるので z0 ' =f (3) となり、どのような光学系であっても像側焦点位置にビ
ームウェストが生ずる。これをビームエキスパンダに代
表されるアフォーカル系を用いると、像側ビームウェス
トの径w0'は次式で表わされる(図2参照)。f1 は第
1レンズ33の焦点距離、f2 は第2レンズ34の焦点距離
である。
【0011】 w0 ' =w0 (f2 /f1 ) (4) ここで第1レンズ33の像側焦点位置と第2レンズ34の物
側焦点位置は同位置である共焦点配置であるから、
(2)式より第1レンズ33の物側焦点位置にビームウェ
ストを置けば第2レンズ34の像側焦点位置に(4)式で
表わされるビームウェストが生ずる。
【0012】一方、図2にて点線で示したように、第1
レンズ33の物側焦点位置と第2レンズ34の像側焦点位置
は共役であるので第1レンズ33の物側焦点位置を通過し
た光線はその角度に拘らず第2レンズ34の像側焦点位置
を通過する。
【0013】レーザ共振器を構成するミラーの配置によ
って多少異なるが、一般にレーザはその出力ミラーの近
傍にビームウェストを形成することが知られているの
で、第1レンズ33の物側焦点位置にレーザの出力ミラー
32を、第2レンズの像側焦点位置に照射領域35を置け
ば、照射領域35にビームウェストがデフォーカスするこ
となく形成され、かつレーザ光が出力ミラー32を出射す
る角度に拘らず照射領域35に入射するレーザ光の位置は
変動しない。
【0014】前述したようにレーザ光の指向性は時間的
に微小変動し、特に100Hz 以上の指向性変動は主にレー
ザ出力ミラーを支点として生じる。よってそのミラーと
照射領域を共役にすればレーザ光の指向性が変動しても
レーザ照射領域における照射スポット位置は変動しな
い。またレーザ光の指向性はレーザ支持機構の熱収縮に
より緩やかに変動するが、この指向性変動の支点もレー
ザミラー近傍に存在することが多いので、やはりレーザ
出力ミラーと照射領域を共役にすることでレーザ照射位
置の変動を抑えることができる。以後、光学補正機能を
持ったこの照射光学系を「倒れ補正照射系」と呼ぶ。
【0015】<実施例1>次により具体的な実施例を説
明する。図3は本発明をフローサイトメータに適用した
実施例の全体構成図である。血液等のサンプル液を前処
理として蛍光試薬等で染色処理し適切な反応時間及び希
釈濃度に調整する。そしてこれをサンプル液容器115 に
入れる。また蒸留水や生理食塩水等のシース液はシース
液容器114に入れる。サンプル液容器115 及びシース液
容器114 は各々不図示の加圧機構により加圧される。す
るとシースフロー方式によりフローセル5 内でサンプル
液がシース液に包まれて細い流れに収斂され、フローセ
ル5 内の流通部のほぼ中央を通過する。このとき、サン
プル液に包まれる個々の披検粒子(細胞、微生物、担体
粒子など)は分離されて1個ずつ順次流れる。この披検
粒子の流れに対して、レーザ光源ユニット1 から出射さ
れたレーザ光がレンズ3,4 を有する照射光学系によって
照射される。照射光学系は後述するようにレーザ光源ユ
ニット1 から出射されるレーザビームの指向性変動の支
点とフローセル5 の照射位置を光学的に共役にしてい
る。
【0016】披検粒子に光ビームが照射されると散乱光
や蛍光が生じる。散乱光の内、光路前方方向に発する前
方散乱光は集光レンズ105 、光検出器106 から成る前方
散乱検出系によって測光される。なお照射された光ビー
ムが直接、光検出器106 に入射するのを防ぐため、光路
中集光レンズ105 の手前には光吸収性の微小なストッパ
100 が設けられ、照射光源からの直接光、及び披検粒子
を透過した透過光を除去するようになっている。これに
より披検粒子からの散乱光のみを測光することができ
る。
【0017】また光照射される被検粒子からレーザ光軸
及び披検粒子の流れに直交する側方方向に発する光は集
光レンズ107 で集光される。集光された光はダイクロイ
ックミラー108 で反射され、散乱光の波長即ちレーザ光
の波長(Ar+ レーザであれば488nm )を選択的に透過
させるバンドパスフィルタ121 を経て光検出器111 にて
側方散乱光が測光される。また披検粒子が蛍光染色され
ている場合には、散乱光とともに発生する複数色の蛍光
を測光するため、集光レンズ107 によって集光され、ダ
イクロイックミラー108 を透過した蛍光の内、ダイクロ
イックミラー109 、緑色蛍光波長用530nm 付近)のバン
ドパスフィルタ122 、光検出器112 の組によって緑色蛍
光が検出され、また全反射ミラー110 、赤色蛍光波長用
(570nm付近)のバンドパスフィルタ123 、各光検出器1
06、11、112、113の信号は演算回路116 に入力され、該演
算回路116 において、粒子のカウント、種類や性質等の
解析などの演算が行なわれる。
【0018】図4は本実施例の照射光学系の構成図であ
る。1 はレーザ発光部、2 はレーザ出力ミラーであり、
これらによってレーザ光源ユニットが構成されている。
出射したレーザ光は共焦点配置をなす凸レンズ3、4 の組
から成るビームコンプレッサでビーム径を変換されフロ
ーセル5 内にある照射領域6 に照射される。照射領域6
には披検物である細胞が個々に流れており、照射レーザ
光によってその特性に応じた散乱光や蛍光を発する。こ
れらは前方散乱光検出系7 、側方散乱光・蛍光検出系8
で検出される。
【0019】従来のフローサイトメータ照射光学系は集
光レンズの焦点位置に照射領域を位置させていた。つま
り無限遠と照射領域とを共役にしていたのでレーザ光の
指向性変動が生じると照射位置が移動してしまう課題を
有していたのに対して、本実施例は先に説明した倒れ補
正照射光学系としているので、フローセル内のレーザ光
照射位置は常に一定に保たれ、被検粒子に照射される照
射光の強度変動がなくなる。よって従来に比べより正確
に散乱光蛍光の光量測定を行なうことができる。また同
時に既に述べた理由によりビームウェストを照射位置に
デフォーカスすることなく正確に形成することができる
ので、ビーム径の変動が最小になり正確な散乱光蛍光の
光量測定を行なうことができる。すなわち本実施例によ
れば、倒れ補正照射光学系を用いて照射位置を正確に制
御することにより、非常に高精度の光学測定装置を提供
している。
【0020】<実施例2>次に上記実施例を更に改良し
た第2実施例を説明する。図5(A)、図5(B)は第
2実施例の照射光学系の構成を示し、図5(A)は細胞
の流路に平行に切った断面図、図5(B)は垂直に切っ
た断面図である。該両図面において41はレーザ発光部、
42はレーザ出力ミラー、43は子線方向焦点距離f3 =50
mmのシリンドリカルレンズ、44は焦点距離f4 =20mmの
凸レンズ、45はフローセル、46は照射領域である。図面
より明らかなように本実施例はアナモルフィック光学系
を構成しているので、各断面別に説明する。
【0021】図5(A)においてレーザ発光部41、レー
ザ出力ミラー42を出射したレーザ光はこの方向にパワー
のないシリンドリカルレンズ43を直進透過し、凸レンズ
44でフローセル45内の照射領域46に集光される。レーザ
出力ミラー42でのレーザビームの直径をd1 =1mm とす
ると照射領域での流路に平行な方向のレーザビームの直
径d2 は次式で表される。なお波長λ=488nm とした。
【0022】 d2 =4λf4 /(πd1 ) (5) =12.4 (μm ) 一方、図5(B)において同じくレーザ発光部41、レー
ザ出力ミラー42を出射したレーザ光はビームコンプレッ
サを形成するシリンドリカルレンズ43と凸レンズ44によ
ってレーザビーム径を変換され照射領域46に入射する。
照射領域46における流路に直交する方向のレーザビーム
直径d3 は(4)式で計算できる。
【0023】d3 =40 (μm ) ここで測定精度について考える。図5(A)の断面では
パワーを持っているレンズは凸レンズ44だけで、凸レン
ズ44の焦点位置に照射領域46が配置されているので、レ
ーザの指向性変動があった場合レーザの照射位置は流路
に沿って移動する。しかし細胞もまた流路に沿って移動
しているので流路方向の照射位置変動は測定値の安定性
には無関係である。
【0024】一方、流路に直交する方向では前述のよう
に照射位置の変動は測定値の変化をもたらすが、図5
(B)の断面は第1の実施例と同じく倒れ補正照射系を
構成しているので、この方向では照射位置安定性が実現
される。しかもd2 <d3 であるから流路位置の安定性
が多少低くても、比較的測定値を安定させることができ
る。
【0025】ところで一般にフローサイトメータでは2
枚のシリンドリカルレンズを用いてレーザ照射光を楕円
形状にしておりレーザビーム径の縦横比即ちd2 とd3
の比は1対10程度であるが、本実施例では1対3.2
程度でも十分であり、照射レーザ光のエネルギ密度の低
下を抑制しなおかつ照射位置変動のない高精度の測定を
実現する。したがって高価な強力レーザは不要である。
通常シリンドリカルレンズは製造が困難で高価であり一
般には1面平面の平凸レンズとするので、特に焦点距離
が短いレンズでは収差が十分に補正できないことがあ
る。しかし本実施例では長焦点シリンドリカルレンズ、
短焦点両凸球面レンズを各1枚づつ使用しシリンドリカ
ルレンズの枚数を削減しているのでコストを低減すると
共に結像性能を改善できるメリットがある。また該短焦
点両凸球面レンズを顕微鏡対物レンズのような色消しレ
ンズに代えれば、光源の波長を変更するときにも対処が
容易になる。
【0026】以上述べたように、披検物が流路を流れる
測定装置において流路に直交する方向に倒れ補正光学系
を採用することで、照射領域での光量変化を少なくし大
型レーザを使うことなく正確な測定を実現することがで
きる。
【0027】<実施例3>第2の実施例では披検物が流
路を流れる測定装置において流路に直交する方向に倒れ
補正照射系を採用することで高精度の測定を実現した
が、第3の実施例ではレーザ光照射位置のアライメント
に更なる改良を加える。
【0028】フローサイトメータで採用されているラミ
ナーフロー方式は細胞等の披検物を安定して正確に流す
のに優れる技術であるが、披検物を流すまでは披検物が
フローセル内のどの場所を流れるか分からない。したが
って光学系だけではアライメントの調整ができず実際に
披検物が流れる状態にならないと最終的なアライメント
調整は出来ない問題点を有している。この問題点に対し
従来は米国特許公報第4,989,977号に見られるように照
射光学系と照射領域の間にガラス板等を設け、それを傾
けることによりレーザ光照射位置の最終的なアライメン
トを行なっていた。しかしながらこの方法では、ガラス
板は照射光が平行でない場所に置かれるので、収差が発
生し正確なスポットが得られないばかりか、ガラス板に
よってゴースト像が発生し誤った測定を行なう欠点を有
している。更にガラス板の傾きに対し照射位置が敏感に
反応するため微細な調整は困難である。また照射位置に
微小なレーザスポットが必要なときには、照射光学系の
焦点距離は短くなり照射光学系と照射領域の間隔が狭く
なるので両者の間にガラス板を置くのが困難になること
もある。
【0029】そこで本実施例では、レーザ出力ミラー近
傍と照射領域を共役になるように照射光学系を構成しか
つレーザ出力ミラーと照射光学系の間に可変の光路偏位
手段を設けることによりレーザ光照射位置のアライメン
トを高精度に行なうものである。
【0030】第3の実施例を図面を用いて詳細に説明す
る。図6(A)、図6(B)は本発明をフローサイトメ
ータの照射光学系に応用した光学系の図面であり、第2
の実施例と同様に図6(A)は細胞の流路に平行に切っ
た断面図、図6(B)は垂直に切った断面図である。該
両図面に置いて61はレーザ発光部、62はレーザ出力ミラ
ー、63は子線方向焦点距離f3 =50mmのシリンドリカル
レンズ、64は焦点距離f4 =20mmの凸レンズ、65はフロ
ーセル、66は照射領域、67は平行平板である。67を除い
て第2の実施例と同じ構成であるので重複する部分につ
いては説明を省略する。
【0031】ここで図6(A)、図6(B)に示したよ
うにレーザ出力ミラー62とシリンドリカルレンズ63の間
に角度可変の平行平板67を挿入したときの効果について
述べる。先ず流路に平行な断面即ち図6(B)において
は平行平板67はレーザ光がほぼ平行である部分に挿入さ
れ、またパワーを持ったレンズは凸レンズ64のみであり
該レンズを介して照射領域66と無限遠が共役であるか
ら、平行平板67の角度を変えても照射位置でのレーザ光
の角度は変化するが、凸レンズ64の収差が無視できる範
囲でレーザ光照射位置は動かない。一方、流路に垂直な
断面即ち図6(A)においてはやはり平行平板67はレー
ザ光がほぼ平行である部分に挿入されるが、レーザ出力
ミラー62と照射領域66は倒れ補正光学系を介して共役で
あり両者は物と像の関係にあるから、平行平板67の角度
を変えると像の位置即ちレーザ照射位置は平行移動す
る。したがって平行平板67の角度を変化させることで照
射領域66でのレーザ照射位置を調整することができる。
また平行平板67はレーザ光がほぼ平行である部分に挿入
されるので平行平板67の角度を変化させても収差は変化
せず照射領域66に有害なゴースト像も発生しない。さら
に一般に照射光学系は縮小系であるので平行平板67の角
度変化に対し照射位置66でのレーザ照射位置の変化も縮
小されるので高精度のアライメントが可能になる。しか
もこの方向では照射光学系は倒れ補正照射光学系になっ
ているから、平行平板67を一度固定すればレーザ光の指
向性変動があってもレーザ光照射位置は変化しなくな
る。
【0032】以上述べたように、流路に直交する方向の
照射光学系に倒れ補正照射系を採用し更に光源であるレ
ーザの出力ミラーと該照射光学系との間に角度可変の平
行平板を挿入することで、収差や有害なゴースト像を発
生させることなく流路に直交する方向の高精度なアライ
メント調整ができ、しかも平行平板を固定すればレーザ
光の指向性が変動してもレーザ光照射位置が変動しない
照射光学系を実現できる。しかも平行平板の角度を変化
させても流路に平行な方向にはレーザ光照射位置は移動
しないので、アライメントの際にレーザ光照射位置の意
図しない変化を抑制することができる。
【0033】なお本実施例では偏位手段として平行平板
を用いたが、これに限らず同等の機能を有する素子であ
れば同様の効果が得られる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、測定装置のエネル
ギ照射系にエネルギ指向性変動の支点(例えばレーザ出
力ミラー)とエネルギ照射領域とを共役にする倒れ補正
照射系を採用することで、エネルギ指向性変動に起因す
るエネルギ照射位置変動が抑制された高精度の測定装置
を実現できる。
【0035】また披検物が流路を流れる測定装置におい
て特に流路に直交する方向に倒れ補正照射系を採用する
ことで、高精度の測定装置を実現できる。
【0036】更に上記倒れ補正照射系を用いた測定装置
において、エネルギ指向性変動の支点と照射光学系の間
にエネルギ偏位手段を設けることで高精度のアライメン
ト調整を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザ光(ガウスビーム)の結像状態を表わす
説明図である。
【図2】倒れ補正照射光学系の説明図である。
【図3】フローサイトメータの全体構成図である。
【図4】本発明の第1実施例のフローサイトメータ照射
光学系の構成図である。
【図5】第2実施例の照射光学系の構成図である。
【図6】第3実施例の照射光学系の構成図である。
【符号の説明】
1、31、41、61 レーザ発光部 2、32、42、62 レーザ出力ミラー 3、4、33、34、44、64 凸レンズ 43、63 シリンドリカルレンズ 45、65 フローセル 6、35、46、66 照射領域 67 平行平板

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エネルギ放射源と、該エネルギ放射源か
    らの放射エネルギを披検物に照射する照射手段と、該披
    検物の特性を検知する検知手段とを有し、 該照射手段は該放射エネルギの指向性変動の支点と該披
    検物が放射エネルギで照射される照射領域とを略共役に
    することを特徴とする測定装置。
  2. 【請求項2】 前記エネルギ放射源と照射手段との間
    に、該放射エネルギの位置を偏位させる偏位手段を有す
    る請求項1の測定装置。
  3. 【請求項3】 前記エネルギ放射源は光源を有し、前記
    放射エネルギは光である請求項1の測定装置。
  4. 【請求項4】 前記光源はレーザ光源である請求項3の
    測定装置。
  5. 【請求項5】 前記照射光の指向性変動の支点はレーザ
    出力ミラー近傍であり、該出力ミラー近傍と前記照射領
    域とを略共役にする請求項4の測定装置。
  6. 【請求項6】 前記披検領域にレーザ光のビームウェス
    トを形成する請求項4の測定装置。
  7. 【請求項7】 前記披検物の特性は散乱光及び/又は蛍
    光を含む光学的特性であり、前記検知手段は光検知器を
    有する請求項3の測定装置。
  8. 【請求項8】 前記披検物は流路を流れる粒子である請
    求項1の測定装置。
  9. 【請求項9】 前記流路の流れ方向に直交する方向にお
    いて、前記放射エネルギの指向性変動の支点と照射領域
    とを共役にする請求項8の測定装置。
  10. 【請求項10】 前記照射手段はアナモルフィック光学
    系を含む請求項9の測定装置。
JP4149469A 1992-06-09 1992-06-09 測定装置 Pending JPH05340865A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4149469A JPH05340865A (ja) 1992-06-09 1992-06-09 測定装置
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