JPH01179112A - 半導体レーザー装置 - Google Patents
半導体レーザー装置Info
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- JPH01179112A JPH01179112A JP63002160A JP216088A JPH01179112A JP H01179112 A JPH01179112 A JP H01179112A JP 63002160 A JP63002160 A JP 63002160A JP 216088 A JP216088 A JP 216088A JP H01179112 A JPH01179112 A JP H01179112A
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- lens
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 4
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は半導体レーザー装置に関し、より詳細にはファ
クシミリ、印刷機等の記録装置の走査用光源に適用しつ
る半導体レーザー装置に関するものである。
クシミリ、印刷機等の記録装置の走査用光源に適用しつ
る半導体レーザー装置に関するものである。
(従来技術)
各種記録装置の走査手段として、光源たる半導体レーザ
ーの光軸上にコリメーターレンズ及び走査ビーム整形用
スリット板を順次配置している半導体レーザー装置が知
られている。
ーの光軸上にコリメーターレンズ及び走査ビーム整形用
スリット板を順次配置している半導体レーザー装置が知
られている。
従来の半導体レーザー装置の構成例を説明した第5図な
いし第7図において、半導体レーザー1はベース2の係
合穴に押さえ板3により押圧されて取り付けられている
。
いし第7図において、半導体レーザー1はベース2の係
合穴に押さえ板3により押圧されて取り付けられている
。
そして、押さえ抜3の背部は駆動ボード4により押圧さ
れて保持されている。駆動ボード4はねじ5によりボー
ドホルダ6に止められている。ボードホルダ6はプレー
ト7に図示省略のねじで固定されている。そして、プレ
ート7はねじ8によりベース2に取付けられている。駆
動ボード4には半導体レーザー駆動用の電気回路が付設
されている。半導体レーザー1の足は押さえ板3を貫通
して駆動ボード4上の上記電気回路の端子に半田付けさ
れている。プレート7にはコリメーターレンズ9を内蔵
したレンズホルダlOが螺合されておリ、これら両者間
にはバックラッシュ除去用の波形ワッシャ11が介装さ
れている。
れて保持されている。駆動ボード4はねじ5によりボー
ドホルダ6に止められている。ボードホルダ6はプレー
ト7に図示省略のねじで固定されている。そして、プレ
ート7はねじ8によりベース2に取付けられている。駆
動ボード4には半導体レーザー駆動用の電気回路が付設
されている。半導体レーザー1の足は押さえ板3を貫通
して駆動ボード4上の上記電気回路の端子に半田付けさ
れている。プレート7にはコリメーターレンズ9を内蔵
したレンズホルダlOが螺合されておリ、これら両者間
にはバックラッシュ除去用の波形ワッシャ11が介装さ
れている。
プレート7の前面にはアパーチャホルダ12が被せられ
、ねじ13でプレート7に固定されている。
、ねじ13でプレート7に固定されている。
アパーチャホルダ12の円筒部12Aであってその出口
端には2枚の爪12A−1,12A−2が対向して形成
されていて、かつ、縁部には切欠12A−3が1円筒内
部には段部12A−4がそれぞれ形成されている。
端には2枚の爪12A−1,12A−2が対向して形成
されていて、かつ、縁部には切欠12A−3が1円筒内
部には段部12A−4がそれぞれ形成されている。
スリット板14は、その中央にビーム整形用のスリット
14Aと、その外周にそって円筒部12Aの円径にそう
係合縁部14[1−1,148−2,14[1−3と、
切欠に係合する凸部14Cをそれぞれ有し、爪12A−
1゜12A−2の間隔より若干広い幅を有している。
14Aと、その外周にそって円筒部12Aの円径にそう
係合縁部14[1−1,148−2,14[1−3と、
切欠に係合する凸部14Cをそれぞれ有し、爪12A−
1゜12A−2の間隔より若干広い幅を有している。
このスリット板14は、凸部14cを切欠12A−3に
係合させ、かつ爪12A−1,12A−2の弾性を利用
してこれらを通過し、係合縁14[1−1,148−2
,14[1−3を円筒12Aの円径部に嵌合させること
により、円筒12Aに位置決めされる。
係合させ、かつ爪12A−1,12A−2の弾性を利用
してこれらを通過し、係合縁14[1−1,148−2
,14[1−3を円筒12Aの円径部に嵌合させること
により、円筒12Aに位置決めされる。
かかる半導体レーザー装置においては、コリメーターレ
ンズ9は半導体レーザー1から出射する発散光を平行光
化するために用いられており、この平行光化の機能を有
効に実現するために従来、2種の調整が必要である。
ンズ9は半導体レーザー1から出射する発散光を平行光
化するために用いられており、この平行光化の機能を有
効に実現するために従来、2種の調整が必要である。
上記2種の調整の中の一つは、半導体レーザーの発光光
軸とコリメーターレンズ光軸とを一致させる光@調整で
あり、もう一つは半導体レーザー発光点をコリメーター
レンズ焦点位置に一致させるコリメート調整である。
軸とコリメーターレンズ光軸とを一致させる光@調整で
あり、もう一つは半導体レーザー発光点をコリメーター
レンズ焦点位置に一致させるコリメート調整である。
これらのmuは何れも非常に時間を要し、組立コスト低
減の大きな障害となっている。
減の大きな障害となっている。
例えば、上記光軸調整に関しては、第5図において、半
導体レーザー1が装着されたベース2とレンズホルダ1
0が装着されたプレート7とを相対的にずらしつつ光軸
調整した後、2個所のねじ8(1個所は図示されず)を
締め付けて固定しているがこの:[1!操作は極めて煩
雑である。
導体レーザー1が装着されたベース2とレンズホルダ1
0が装着されたプレート7とを相対的にずらしつつ光軸
調整した後、2個所のねじ8(1個所は図示されず)を
締め付けて固定しているがこの:[1!操作は極めて煩
雑である。
(目 的)
従って、本発明の目的は、煩雑な光軸調整を不要とする
ことのできる半導体レーザー装置を提供することにある
。
ことのできる半導体レーザー装置を提供することにある
。
(構 成)
本発明は上記目的を達成させるため、貫通した開口を有
する一体の取付部材を設けると共に上記開口の一端側に
半導体レーザー取付部、上記開口の他端側にコリメータ
ーレンズ取付部を同心上にそれぞれ形成し、上記半導体
レーザー取付部には半導体レーザー、上記コリメーター
レンズ取付部にはコリメーターレンズをそれぞれ取付け
たことを特徴としたものである。
する一体の取付部材を設けると共に上記開口の一端側に
半導体レーザー取付部、上記開口の他端側にコリメータ
ーレンズ取付部を同心上にそれぞれ形成し、上記半導体
レーザー取付部には半導体レーザー、上記コリメーター
レンズ取付部にはコリメーターレンズをそれぞれ取付け
たことを特徴としたものである。
以下、本発明の一実施例に基づいて具体的に説明する。
第2図において符号40はつば廿日筒状のレンズホルダ
ーを示し、コリメーターレンズを保持すると共に光軸調
整上の機能を果すように形成されている。
ーを示し、コリメーターレンズを保持すると共に光軸調
整上の機能を果すように形成されている。
このレンズホルダーの内径部40−1はコリメーターレ
ンズの外径に合わせて精密に加工されていて、コリメー
ターレンズ41はその外径部を上記内径部に接触しかつ
レンズ面をホルダー底面40−2に直接又は間接に接触
するようにして固定位置決めされる。
ンズの外径に合わせて精密に加工されていて、コリメー
ターレンズ41はその外径部を上記内径部に接触しかつ
レンズ面をホルダー底面40−2に直接又は間接に接触
するようにして固定位置決めされる。
この状態の下でコリメーターレンズ41の光軸は内径部
40−1の中心と合致している。
40−1の中心と合致している。
ホルダー底面40−2の中心部は光が透過できるように
細口40−3が形成されている。
細口40−3が形成されている。
レンズホルダー40の他端側はフランジ部40−4が形
成されていて、このフランジ部40−4にはねじ込み工
具用の溝40−6が直径方向に2個所形成されている。
成されていて、このフランジ部40−4にはねじ込み工
具用の溝40−6が直径方向に2個所形成されている。
フランジ部40−4よりもホルダー底面寄りの外周部に
はおねじ40−5が形成されていおり、その途中から末
端にかけては内径部40−1と同心に精密加工された圧
入部40−7を有していて縁部は圧入時の便宜を考慮し
て面取りが施されている。
はおねじ40−5が形成されていおり、その途中から末
端にかけては内径部40−1と同心に精密加工された圧
入部40−7を有していて縁部は圧入時の便宜を考慮し
て面取りが施されている。
次に、このレンズホルダー40が装着されるべき半導体
レーザー装置の要部断面構成を示した第1図に即して説
明する。
レーザー装置の要部断面構成を示した第1図に即して説
明する。
図において符号21はレンズホルダー40を介してコリ
メーターレンズ41を取付けるための取付部材たるフラ
ンジを示し一体の部材として構成されている。
メーターレンズ41を取付けるための取付部材たるフラ
ンジを示し一体の部材として構成されている。
このフランジ21はその中央部に貫通した開口21−1
を有する。この間口21−1の一端側、つまりフランジ
面側には座グリによる段状部が形成され、この段状部を
半導体レーザー取付部21−2と称する。
を有する。この間口21−1の一端側、つまりフランジ
面側には座グリによる段状部が形成され、この段状部を
半導体レーザー取付部21−2と称する。
この半導体レーザー取付部21−2は半導体レーザー1
の取付部外径に合わせて精密加工されていて、軸方向の
深さも所定寸法に形成されており。
の取付部外径に合わせて精密加工されていて、軸方向の
深さも所定寸法に形成されており。
半導体レーザー1を圧入することにより位置決めされる
。この位置決め状態において半導体レーザー1の光軸は
半導体レーザー取付部21−2の軸心と合致する。
。この位置決め状態において半導体レーザー1の光軸は
半導体レーザー取付部21−2の軸心と合致する。
上記圧入の後、半導体レーザー1は裏側より保持部材2
3で押圧されるようにしてねじ42にて締付は固定され
ている。
3で押圧されるようにしてねじ42にて締付は固定され
ている。
一方、開口21−1の他端側にはコリメーターレンズ取
付部21−5が設けである。このコリメーターレンズ取
付部21−5は、出口部に形成されためねじ21−3と
奥部に形成された滑らかな周面の内径部21−4からな
る。
付部21−5が設けである。このコリメーターレンズ取
付部21−5は、出口部に形成されためねじ21−3と
奥部に形成された滑らかな周面の内径部21−4からな
る。
めねじ21−3は、レンズホルダー40のおねじ40−
5と螺合し得るねじとして形成されており、内径部21
−4はレンズホルダー40の圧入部40−7が圧入され
得る径で、かつ半導体レーザー取付部21−2と同心に
精密加工されている。
5と螺合し得るねじとして形成されており、内径部21
−4はレンズホルダー40の圧入部40−7が圧入され
得る径で、かつ半導体レーザー取付部21−2と同心に
精密加工されている。
従って、レンズホルダー40をコリメーターレンズ取付
部21−5に螺合し、溝40−6を利用して工具でねじ
込めば、やがて圧入部40−7が内径部21−4に圧入
されてその時点で、半導体レーザー1の光軸とコリメー
ターレンズ41の光軸は合致することになる。
部21−5に螺合し、溝40−6を利用して工具でねじ
込めば、やがて圧入部40−7が内径部21−4に圧入
されてその時点で、半導体レーザー1の光軸とコリメー
ターレンズ41の光軸は合致することになる。
変形実施例としては、レンズホルダー40を介さずにコ
リメーターレンズを直接内径部21−4に装着するか或
いはレンズとホルダーを一体化して装着することも可能
である。
リメーターレンズを直接内径部21−4に装着するか或
いはレンズとホルダーを一体化して装着することも可能
である。
単にねじ込みだけならば光軸の合致は必ずしも保証され
ないが圧入部40−7により位置決めされる本例では部
材の加工精度さえでておれば光Ii!I調整は不要とな
る。
ないが圧入部40−7により位置決めされる本例では部
材の加工精度さえでておれば光Ii!I調整は不要とな
る。
なお、フランジ部40−4をフランジ21に突き当てる
ようにすれば、コリメーターレンズ41と半導体レーザ
ー1との間の寸法も定まるのでコリメート調整も不要と
する余地がある。
ようにすれば、コリメーターレンズ41と半導体レーザ
ー1との間の寸法も定まるのでコリメート調整も不要と
する余地がある。
さらに、本例では圧入によって位置保持されるので第6
図の従来技術との比較ではバックラッシュ除去用の波形
ワッシャ11は不要となり、その他、ベース2とプレー
ト7を一体化した如き構成のフランジ21としたので部
品点数も減少する。
図の従来技術との比較ではバックラッシュ除去用の波形
ワッシャ11は不要となり、その他、ベース2とプレー
ト7を一体化した如き構成のフランジ21としたので部
品点数も減少する。
半導体レーザー用の駆動ボード43はアパーチャホルダ
ー20と一体の足20Bにねじ止めされている。
ー20と一体の足20Bにねじ止めされている。
次にアパーチャの取付でであるがそれは次のようにして
行なわれている。
行なわれている。
第3図において、アパーチャホルダ20と一体的に円筒
部2OAが突出している。そして、このアパーチャホル
ダ20の背部にはフランジ21がねじ22により固定さ
れている。そしてフランジ21にベース(図示されず)
が固定されている。
部2OAが突出している。そして、このアパーチャホル
ダ20の背部にはフランジ21がねじ22により固定さ
れている。そしてフランジ21にベース(図示されず)
が固定されている。
前述の如く本例では足20[1が対角位置に2本、アパ
ーチャホルダ20と一体−に突出しており、このアパー
チャホルダ20に駆動ボード40が取り付けられている
。
ーチャホルダ20と一体−に突出しており、このアパー
チャホルダ20に駆動ボード40が取り付けられている
。
第3図の配置において、座標軸2方向は半導体レーザー
の光軸方向であり、X方向は光軸に直交する方向であり
、Y方向はX方向と直交する方向である。そして、光の
利用効率及び他の光学系等の配置から、スリットの長平
方向はY方向に、スリットの短手方向はX方向にそれぞ
れ合致すべきものとする。
の光軸方向であり、X方向は光軸に直交する方向であり
、Y方向はX方向と直交する方向である。そして、光の
利用効率及び他の光学系等の配置から、スリットの長平
方向はY方向に、スリットの短手方向はX方向にそれぞ
れ合致すべきものとする。
符号24で示したのがスリット板である。図示の状態で
、このスリット板24は正規の装着態位よりX方向に平
行移動して示されている。
、このスリット板24は正規の装着態位よりX方向に平
行移動して示されている。
スリッ、ト仮24は矩形状の平板部24Aを有し、この
平板部24Aの中央にスリット24A−1が形成されて
いる。ちなみに、そのスリット24A−1はその長手方
向Y方向、短手方向がX方向にそれぞれ合致している。
平板部24Aの中央にスリット24A−1が形成されて
いる。ちなみに、そのスリット24A−1はその長手方
向Y方向、短手方向がX方向にそれぞれ合致している。
この平板部24AのY方向上に対向する一対の対向辺か
らそれぞれ直立折曲されて、同一形状大きさの二つの切
起片24B−1,248−2が形成されてぃる、そして
、さらにこれらの切起片24[1−1,24B−2の自
由端は細かい鋸歯状に形成されている。
らそれぞれ直立折曲されて、同一形状大きさの二つの切
起片24B−1,248−2が形成されてぃる、そして
、さらにこれらの切起片24[1−1,24B−2の自
由端は細かい鋸歯状に形成されている。
ここで、切起片24B−1,2413−2相互間の幅寸
法は平板部24Aの幅寸法と合致している。この幅寸法
をWとする。
法は平板部24Aの幅寸法と合致している。この幅寸法
をWとする。
次に、平板部24AのX方向上端はL字状に折曲されて
把持部24Cが形成されている。さらに、この把持部2
4Cに対向する対向縁は円筒部20Aの内周にそう円弧
状に形成されてストッパ一部24Dを構成している。
把持部24Cが形成されている。さらに、この把持部2
4Cに対向する対向縁は円筒部20Aの内周にそう円弧
状に形成されてストッパ一部24Dを構成している。
一方、円筒部2OAには、前記平板部24Aの幅寸法W
に合わせて形成された一対の対向面2OA−1。
に合わせて形成された一対の対向面2OA−1。
20A −2がある。これらの対向面はX方向と2方向
とで囲まれる平面と平行であり1回り止め部を構成する
。
とで囲まれる平面と平行であり1回り止め部を構成する
。
さらに、円筒部20Aには、切起片24B−1,241
3−2の直立方向での寸法より若干水さい間隔でZ方向
に略対向して平面20A−3,20A−4が形成されて
いる。この中、平面20A −3は対向面20A−1に
直立して連続する平面である。
3−2の直立方向での寸法より若干水さい間隔でZ方向
に略対向して平面20A−3,20A−4が形成されて
いる。この中、平面20A −3は対向面20A−1に
直立して連続する平面である。
平面20A −4は間隔をおいて対向する2つの爪状部
の各内側面であり、これらの面に対し、X方向に位置ず
れした状態で平面20A −3が対向している。
の各内側面であり、これらの面に対し、X方向に位置ず
れした状態で平面20A −3が対向している。
ここで、平面20A−3,20A−4を挟圧部と称する
。
。
そして、これら対向面20A−1,20A−2および平
面20A−3,20A−4で囲まれた空間を想定したと
きそのX方向上の下方は円筒部20Aの内周で塞がれた
如き状態にあり、この壁面状の部位を位置決め部20E
と称する。
面20A−3,20A−4で囲まれた空間を想定したと
きそのX方向上の下方は円筒部20Aの内周で塞がれた
如き状態にあり、この壁面状の部位を位置決め部20E
と称する。
かかる構成において1円筒部20Aにスリット板24を
装着するには、把持部24Cを指でつまみ、X方向に下
降させる。すると、先ず平板部24Aが回り止め部たる
対向面20A−1,20A−2間に嵌合ガイドされ、然
る後、平板部24Dが平面20A −3に圧接され同時
に切起片2413−1.24B−2m歯状部が平面20
A −4に食い込み、ストッパ一部24Dが位置決め部
201に当接した状態でスリット板24は円筒部20A
に不動状に位置決め保持される。
装着するには、把持部24Cを指でつまみ、X方向に下
降させる。すると、先ず平板部24Aが回り止め部たる
対向面20A−1,20A−2間に嵌合ガイドされ、然
る後、平板部24Dが平面20A −3に圧接され同時
に切起片2413−1.24B−2m歯状部が平面20
A −4に食い込み、ストッパ一部24Dが位置決め部
201に当接した状態でスリット板24は円筒部20A
に不動状に位置決め保持される。
この取付状態において、スリット24^−1は光軸上に
正しく位置決めされる。
正しく位置決めされる。
本例に係る半導体レーザー装置は1例えば第4図に示す
光書込系に適用される。
光書込系に適用される。
図において、半導体レーザー装[30からの出射ビーム
はシリンダーレンズ32を通り、回転多面鏡33に入射
する。回転多面鏡33で偏向されたビームは、fθレン
ズ341反射鏡35.シリンドリカルレンズ36を経て
ベルト状感光体37上に走査スポットを結像する。
はシリンダーレンズ32を通り、回転多面鏡33に入射
する。回転多面鏡33で偏向されたビームは、fθレン
ズ341反射鏡35.シリンドリカルレンズ36を経て
ベルト状感光体37上に走査スポットを結像する。
ビームは記録信号により変調されており1回転多面鏡3
3の回転により感光体37の軸方向に主走査を行ない、
感光体37の回転により副走査が行なわれる。感光体3
7の表面は予め所定極性に一様に帯電させられており、
走査スポットが照射された部分の電荷が選択的に消散さ
れて、再現又は記録すべき画像に対応した静電iQ像が
そこに順次形成される。これを可視像化したのち1紙の
如き記録体に転写して最終画像を得る。
3の回転により感光体37の軸方向に主走査を行ない、
感光体37の回転により副走査が行なわれる。感光体3
7の表面は予め所定極性に一様に帯電させられており、
走査スポットが照射された部分の電荷が選択的に消散さ
れて、再現又は記録すべき画像に対応した静電iQ像が
そこに順次形成される。これを可視像化したのち1紙の
如き記録体に転写して最終画像を得る。
半導体レーザー装置において光軸調整はレーザーユニッ
トの光路長が長い場合には振り子の原理から誤差が拡大
するので必要不可欠とされていたが、近年光路長が非常
に短縮される傾向にありその構成によっては厳密な調整
は不必要となる場合もあるとされる。
トの光路長が長い場合には振り子の原理から誤差が拡大
するので必要不可欠とされていたが、近年光路長が非常
に短縮される傾向にありその構成によっては厳密な調整
は不必要となる場合もあるとされる。
このような状況からみても1本例の如く加工精度の範囲
で簡易に光軸が合致する手段はきわめて有効といえる。
で簡易に光軸が合致する手段はきわめて有効といえる。
(効 果)
本発明によれば、煩雑な光軸調整を不要とすることがで
き好都合である。
き好都合である。
第1図は本発明の一実施例を説明した半導体レーザー装
置の断面図、第2図はレンズホルダーの断面図、第3図
は本発明に係る半導体レーザー装置の分解斜視図、第4
図は本発明の実施に適する図である。 21・・・・フランジ、40・・・・レンズホルダー、
41・・・・コリメーターレンズ、21−1・・・・関
口、21−2・・・・半導体レーザー取付部、21−5
・・・・・コリメーターレンズ取付部。 32 図 Δσ−4
置の断面図、第2図はレンズホルダーの断面図、第3図
は本発明に係る半導体レーザー装置の分解斜視図、第4
図は本発明の実施に適する図である。 21・・・・フランジ、40・・・・レンズホルダー、
41・・・・コリメーターレンズ、21−1・・・・関
口、21−2・・・・半導体レーザー取付部、21−5
・・・・・コリメーターレンズ取付部。 32 図 Δσ−4
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光源たる半導体レーザーの光軸上にコリメーターレンズ
を配置してなる半導体レーザー装置において、 貫通した開口を有する一体の取付部材を設けると共に上
記開口の一端側に半導体レーザー取付部、上記開口の他
端側にコリメーターレンズ取付部を同心上にそれぞれ形
成し、上記半導体レーザー取付部には半導体レーザー、
上記コリメーターレンズ取付部にはコリメーターレンズ
をそれぞれ取付けたことを特徴とする半導体レーザー装
置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63002160A JPH01179112A (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 半導体レーザー装置 |
US07/485,825 US5048050A (en) | 1988-01-08 | 1990-02-27 | Semiconductor laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63002160A JPH01179112A (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 半導体レーザー装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01179112A true JPH01179112A (ja) | 1989-07-17 |
Family
ID=11521604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63002160A Pending JPH01179112A (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 半導体レーザー装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5048050A (ja) |
JP (1) | JPH01179112A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0625817U (ja) * | 1992-09-02 | 1994-04-08 | 株式会社三協精機製作所 | レーザ光走査装置 |
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---|---|---|---|---|
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JPS61175617A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-07 | Ricoh Co Ltd | 半導体レ−ザ装置 |
-
1988
- 1988-01-08 JP JP63002160A patent/JPH01179112A/ja active Pending
-
1990
- 1990-02-27 US US07/485,825 patent/US5048050A/en not_active Expired - Lifetime
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---|---|---|---|---|
JPH0625817U (ja) * | 1992-09-02 | 1994-04-08 | 株式会社三協精機製作所 | レーザ光走査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5048050A (en) | 1991-09-10 |
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