JPH0611959U - 回転割出式ウエーハ面取部研磨装置 - Google Patents

回転割出式ウエーハ面取部研磨装置

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JPH0611959U JP050005U JP5000592U JPH0611959U JP H0611959 U JPH0611959 U JP H0611959U JP 050005 U JP050005 U JP 050005U JP 5000592 U JP5000592 U JP 5000592U JP H0611959 U JPH0611959 U JP H0611959U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 信頼性の高い回転割出式ウエーハ面取部研磨
装置を提供すること。 【構成】 所定の角度ずつ割り出されて回転する回転体
5に複数のウエーハ吸着盤22A〜22Dを回転自在に
配するとともに、回転体5と一体的に回転する回転体6
に真空ポンプ18を固設し、静止側に真空ポンプ駆動モ
ータ15とウエーハ駆動モータ10A〜10Dを固設
し、真空ポンプ駆動モータ15から真空ポンプ18への
動力伝達及びウエーハ駆動モータ10A〜10Dからウ
エーハ吸着盤22A〜22Dへの動力伝達をギヤ伝動機
構によって行なう。本考案によれば、真空ポンプ駆動モ
ータ15とウエーハ駆動モータ10A〜10Dへの電力
供給のためのスリップリングが不要となり、更に真空ポ
ンプ18とウエーハ吸着盤22A〜22Dをバキューム
配管21,27A〜27Dによって直接接続することが
できるため、従来要していた気密保持のためのシール機
構が不要となり、ウエーハWの回転及び吸着に高い信頼
性が確保される。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、回転割出式ウエーハ面取部研磨装置、特に該装置におけるウエーハ 吸着盤の駆動機構に関する。
【0002】
【従来の技術】
ウエーハ面取部の研磨においては、生産性の向上、ウエーハの汚染や傷、欠け の発生等の防止を考慮すると、ウエーハを一旦吸着した後は、全工程が終了する まで該ウエーハをそのまま同一保持部にて吸着保持しておくことが望ましい。
【0003】 そこで、回転割出式ウエーハ面取部研磨装置が提案されるが、該装置は、回転 体上に複数のウエーハ吸着盤を回転自在に配し、回転体を所定角度ずつ割出回転 させ、ウエーハの吸着から研磨、洗浄を経て排出に至る一連の工程が終了するま で、ウエーハを同じ吸着盤に吸着させておくものである。
【0004】 而して、斯かる回転割出式ウエーハ面取部研磨装置によれば、複数のウエーハ に対して各工程が平行して進められ、しかもウエーハの受け渡し動作が不要とな るため、作業能率が高められるとともに、ウエーハの汚染や傷、欠けの発生が最 小限に抑えられる。
【0005】 ところで、回転割出式ウエーハ面取部研磨装置においては、ウエーハ吸着盤の 回転とウエーハ吸着のための負圧発生が不可欠であり、このために駆動モータを 回転体に固設し、真空ポンプを静止側に固設し、駆動モータによってウエーハ吸 着盤を回転駆動するとともに、ウエーハ吸着盤を回転軸等に形成された真空路を 介して真空ポンプで真空引きすることが行なわれていた。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
而して、従来の回転割出式ウエーハ面取部研磨装置にあっては、駆動モータが 回転側に設けられていたため、該駆動モータへの電力供給はスリップリングを介 して行なわなければならなかった。又、ウエーハ吸着盤を真空引きするための真 空路は回転側と静止側に亘って形成されていたため、回転側と静止側との接続部 に気密を保つためのシール機構が必要であった。
【0007】 ところが、上記スリップリングやシール機構は作動安定性に乏しく、しばしば トラブル発生の原因となり、ウエーハ面取部研磨装置には高い信頼性が確保され 得ないという問題があった。
【0008】 本考案は上記問題に鑑みてなされたもので、その目的とする処は、信頼性の高 い回転割出式ウエーハ面取部研磨装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく本考案は、所定角度ずつ割り出されて回転する円板状の 回転体に複数のウエーハ吸着盤を等角度ピッチで回転自在に配するとともに、真 空ポンプを固設し、回転体外の静止側に真空ポンプ駆動モータとウエーハ駆動モ ータを固設し、真空ポンプ駆動モータから真空ポンプへの動力伝達、及びウエー ハ駆動モータからウエーハ吸着盤への動力伝達を、ギヤ伝動機構によって行なう ことを特徴とする。
【0010】
【作用】
本考案によれば、真空ポンプ駆動モータとウエーハ駆動モータが静止側に固設 され、両駆動モータの回転動力はギヤ伝達機構によってウエーハ吸着盤、真空ポ ンプにそれぞれ確実に伝達されるため、両駆動モータへの電力供給のためのスリ ップリングが不要となり、両駆動モータへの電力供給が安定的に行なわれて、ウ エーハ吸着盤の回転及び真空ポンプの駆動に高い信頼性が確保される。
【0011】 又、真空ポンプは回転体に固設され、ウエーハ吸着盤と共に一体的に回転する ため、両者をバキューム配管によって接続することができる。従って、従来要し ていた気密保持のためのシール機構が不要となり、ウエーハ吸着盤のウエーハ吸 着に高い信頼性が確保される。
【0012】
【実施例】
以下に本考案の一実施例を添付図面に基づいて説明する。
【0013】 図1は本考案に係る回転割出式ウエーハ面取部研磨装置の縦断面図、図2は図 1のX−X線断面図である。
【0014】 図1において、1はハウジングであって、該ハウジング1の上壁1aと底壁1 b間には回転軸2がその上下端を軸受3,4によって回転自在に支承されて垂直 に配されている。そして、この回転軸2の中間高さ位置には大径円板状の回転体 5と小径円板状の回転体6が上下2段に亘って結着されている。
【0015】 又、上記回転軸2上の回転体5の上方位置には4組のアイドルギヤGA ,GB ,GC ,GD が互いに独立に自由回転自在に支承されている。即ち、各アイドル ギヤGA ,GB ,GC は上下一対のギヤGA1とGA2、GB1とGB2、GC1とGC2を スリーブ7,8,9で連結一体化して構成されている。そして、アイドルギヤGA のスリーブ7の外周にアイドルギヤGB が自由回転自在に嵌合しており、該ア イドルギヤGB のスリーブ8の外周のアイドルギヤGC が自由回転自在に嵌合し ており、該アイドルギヤGC のスリーブ9の外周にアイドルギヤGD が自由回転 自在に嵌合している。
【0016】 ところで、ハウジング1の上壁1aには4基のウエーハ駆動モータ10A,1 0B,10C,10Dが固設されており、該ウエーハ駆動モータ10A,10B ,10C,10Dの各出力軸端に各々結着されたギヤ11A,11B,11C, 11DはアイドルギヤGA (GA1),GB (GB1),GC (GC1),GD に噛合 している。
【0017】 一方、回転軸2上の前記回転体6の下方位置にはアイドルギヤ12が自由回転 自在に支承され、該アイドルギヤ12の下方にはギヤ13が結着されている。尚 、上記アイドルギヤ12は上下一対のギヤ12Aと12Bを一体化して構成され ている。
【0018】 ところで、ハウジング1の底壁1b上にはタクト駆動モータ14と真空ポンプ 駆動モータ15が固設されており、タクト駆動モータ14の出力軸端に結着され たギヤ16は前記ギヤ13に噛合している。又、真空ポンプ駆動モータ15の出 力軸端に結着されたギヤ17は前記アイドルギヤ12の下側のギヤ12Bに噛合 している。
【0019】 更に、前記回転体6上には真空ポンプ18と真空制御器19が固設されており 、真空ポンプ18の出力軸端に結着されたギヤ20は前記アイドルギヤ12の上 側のギヤ12Aに噛合している。そして、真空ポンプ18と真空制御器19とは 1本のバキューム配管21によって接続されている。
【0020】 他方、前記回転体5の外周部には4つのウエーハ吸着盤22A,22B,22 C,22Dが等角度ピッチ(90°ピッチ)で回転自在に配されている。即ち、 ウエーハ吸着盤22A,22B,22C,22Dは、回転体5の外周部に回転自 在に支承された各回転軸23A,23B,23C,23Dの下端にそれぞれ結着 されており、各回転軸23A,23B,23C,23Dの上端にはギヤ24A, 24B,24C,24Dがそれぞれ結着されている。そして、これら各ギヤ24 A,24B,24C,24Dと前記各アイドルギヤGA (GA2),GB (GB2) ,GC (GC2),GD とは回転体5上に放射状に配列されたギヤ25A,26A 、25B,26B、25C,26C、25D,26Dを介して互いに噛合してい る。
【0021】 ところで、前記真空制御器19からは4本のバキューム配管27A,27B, 27C,27Dが導出しており、これらの配管27A,27B,27C,27D は回転体5に穿設された貫通孔5aを通って前記回転軸23A,23B,23C ,23Dに形成された不図示の真空路に接続されている。
【0022】 又、図2に示すように、回転体5の外周に沿う4箇所には、ウエーハ吸着部A 、1段研磨加工部B、2段研磨加工部C及びウエーハ排出部Dがそれぞれ等角度 ピッチ(90°ピッチ)で配設されている。
【0023】 上記1段研磨加工部BはウエーハWのオリエンテーション・フラット部(以下 、OF部と略称す)を研磨する部分であって、これは不図示のバフを含んで構成 されている。
【0024】 又、前記2段研磨加工部CはウエーハWのOF部以外の外周面取部を研磨する 部分であって、その構成は図1に示される。即ち、2段研磨加工部Cは、上方が 開口する円筒バフ28を有しており、該円筒バフ28はバフ駆動部29によって 所定速度で回転駆動されるとともに、昇降動せしめられ、更には図示のようにウ エーハ吸着盤22Cに吸着されたウエーハWに所定圧で押圧される。
【0025】 次に、本回転割出式ウエーハ面取部研磨装置の作用を説明する。
【0026】 ウエーハ吸着盤22A,22B,22C,22Dが図2に示すようにウエーハ 吸着部A、1段研磨加工部B、2段研磨加工部C、ウエーハ排出部Dにそれぞれ 位置しているとき、ウエーハ吸着部22Aにおいては、カセット30に収納され たウエーハWが1枚ずつ取り出されてウエーハ吸着盤22Aに吸着される。即ち 、このとき真空ポンプ駆動モータ15が駆動されてこれの回転がギヤ17、アイ ドルギヤ12及びギヤ20を経て真空ポンプ18に伝達され、該真空ポンプ18 が駆動されている。このとき、真空制御器19に外部からLED光、電波等によ る真空吸着ON信号が入力されると、該真空制御器19はウエーハ吸着盤22A を真空ポンプ18に連通せしめ、ウエーハ吸着盤22Aはバキューム配管27A ,21を介して真空ポンプ18によって真空引きされ、該ウエーハ吸着盤22A にウエーハWが真空吸着される。
【0027】 又、1段研磨加工部Bにおいても、ウエーハ吸着盤22Bには別のウエーハ( ウエーハ吸着部Aにて既に吸着されたウエーハ)Wが吸着されて保持されており 、ウエーハ駆動モータ10Bが駆動されてウエーハWは所定の角度範囲で回動せ しめられ、そのOF部が回転駆動される不図示のバフによって研磨(1段研磨) される。即ち、ウエーハ駆動モータ10Bの回転はギヤ11B、アイドルギヤGB 、ギヤ25B,26B,24Bを経て回転軸23Bに伝達され、該回転軸23 B、ウエーハ吸着盤22B及びウエーハWが一体的に回転駆動され、ウエーハW は所定の角度範囲(OF部が全長に亘って研磨され得る角度範囲)で回動せしめ られてそのOF部が不図示のバフによって研磨される。
【0028】 更に、2段研磨加工部Cにおいても、ウエーハ吸着盤22Cには更に別のウエ ーハ(ウエーハ吸着部Aにて吸着され、1段研磨加工部BにてOF部が研磨され たウエーハ)Wが吸着されて保持されており、ここではウエーハ駆動モータ10 Cが駆動されてウエーハWが所定の速度で回転駆動され、その外周面取部が同じ く回転駆動される円筒バフ28によって研磨(2段研磨)される(図1参照)。 即ち、ウエーハ駆動モータ10Cの回転はギヤ11C、アイドルギヤGC 、ギヤ 25C,26C,24Cを経て回転軸23Cに伝達され、該回転軸23C、ウエ ーハ吸着盤22C及びウエーハWが一体的に回転駆動され、ウエーハWは所定の 速度で回転駆動されてその外周面取部が円筒バフ28によって研磨される。
【0029】 又、ウエーハ排出部Dにおいては、更に別のウエーハ(ウエーハ吸着部Aで吸 着され、1段研磨加工部B、2段研磨加工部Cでの研磨加工が終了したウエーハ )Wが保持されており、該ウエーハ排出部Dにおいては、ウエーハWの非吸着部 が洗浄される。そして、真空制御器19に外部より真空吸着OFF信号が入力さ れると、ウエーハ吸着盤22Dの真空ポンプ18との連通が遮断され、研磨の終 了したウエーハWがウエーハ吸着盤22Dから離脱せしめられ、離脱したウエー ハWは不図示の搬送手段によってカセット31内に収納される。
【0030】 而して、ウエーハ吸着部A、1段研磨加工部B、2段研磨加工部C、ウエーハ 排出部Dでの上記各動作がそれぞれ終了すると、タクト駆動モータ14が駆動さ れ、これの回転がギヤ16,13を経て回転軸2に伝達されると、該回転軸2及 びこれに結着された回転体5,6が所定角度(90°)だけ割り出されて回転せ しめられ、ウエーハ吸着部Aにて吸着されたウエーハWは1段加工研磨部Bに移 動し、同様に1段研磨加工部Bにて研磨されたウエーハWは2段研磨加工部Cに 移動し、2段研磨加工部Cにて研磨されたウエーハWはウエーハ排出部Dに移動 し、それぞれのウエーハWは1段研磨加工部B、2段研磨加工部C、ウエーハ排 出部Dで各々前記と同様の処理を受ける。
【0031】 又、ウエーハ排出部DでウエーハWを排出した空のウエーハ吸着盤22Dは、 ウエーハ吸着部Aに移動して新たなウエーハWを吸着する。
【0032】 以上の動作を繰り返せば、1つのウエーハ吸着盤(例えば、22A)が1回転 すると、1枚のウエーハWに対する吸着から1段及び2段研磨加工を経て排出に 至る一連の作業が終了し、全体としては、研磨の終了したウエーハWが回転体5 ,6の1/4回転毎に次々と排出されてカセット31に収納される。
【0033】 以上において、本実施例によれば、真空ポンプ駆動モータ15とウエーハ駆動 モータ10A,10B,10C,10Dが静止側に固設され、両駆動モータ15 と10A〜10Dの回転動力はギヤ伝達機構によって真空ポンプ18、ウエーハ 吸着盤22A〜22Dにそれぞれ確実に伝達されるため、両駆動モータ15,1 0A〜10Dへの電力供給のためのスリップリングが不要となり、両駆動モータ 15,10A〜10Dへの電力供給が安定的に行なわれてウエーハ吸着盤22A 〜22Dの回転及び真空ポンプ18の駆動に高い信頼性が確保される。
【0034】 又、真空ポンプ18は回転体6に固設され、ウエーハ吸着盤22A〜22Dと 共に一体的に回転するため、両者をバキューム配管21,27A〜27Dによっ て接続することができる。従って、従来要していた気密保持のためのシール機構 が不要となり、ウエーハ吸着盤22A〜22Dの回転及びウエーハWの吸着に高 い信頼性が確保される。
【0035】
【考案の効果】
以上の説明で明らかな如く、本考案によれば、所定角度ずつ割り出されて回転 する円板状の回転体に複数のウエーハ吸着盤を等角度ピッチで回転自在に配する とともに、真空ポンプを固設し、回転体外の静止側に真空ポンプ駆動モータとウ エーハ駆動モータを固設し、真空ポンプ駆動モータから真空ポンプへの動力伝達 、及びウエーハ駆動モータからウエーハ吸着盤への動力伝達を、ギヤ伝動機構に よって行なうようにしたため、信頼性の高い回転割出式ウエーハ面取部研磨装置 を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る回転割出式ウエーハ面取部研磨装
置の縦断面図である。
【図2】図1のX−X線断面図である。
【符号の説明】
2 回転軸 5,6 回転体 10A〜10D ウエーハ駆動モータ 15 真空ポンプ駆動モータ 18 真空ポンプ 19 真空制御器 22A〜22D ウエーハ吸着盤 GA 〜GD アイドルギヤ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 黒田 泰嘉 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150番地信越半導体株式会社半導体白河研 究所内

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定角度ずつ割り出されて回転する円板
    状の回転体に複数のウエーハ吸着盤を等角度ピッチで回
    転自在に配するとともに、真空ポンプを固設し、回転体
    外の静止側に真空ポンプ駆動モータとウエーハ駆動モー
    タを固設し、真空ポンプ駆動モータから真空ポンプへの
    動力伝達、及びウエーハ駆動モータからウエーハ吸着盤
    への動力伝達を、ギヤ伝動機構によって行なうことを特
    徴とする回転割出式ウエーハ面取部研磨装置。
  2. 【請求項2】 前記ギヤ伝動機構は、前記回転体の回転
    軸上に自由回転自在に配され、静止側に固設された前記
    真空ポンプ駆動モータ、ウエーハ駆動モータの回転を回
    転側に設けられた前記真空ポンプ、ウエーハ吸着盤にそ
    れぞれ伝達するアイドルギヤを含んで構成されることを
    特徴とする請求項1記載の回転割出式ウエーハ面取部研
    磨装置。
  3. 【請求項3】 前記ウエーハ駆動モータからウエーハ吸
    着盤への動力伝達は、前記回転体の回転軸上に互いに独
    立に自由回転自在に配された複数のアイドルギヤと、該
    アイドルギヤから回転体の径方向外方に放射状に配列さ
    れた複数のギヤを介してなされることを特徴とする請求
    項1又は2記載の回転割出式ウエーハ面取部研磨装置。
  4. 【請求項4】 前記真空ポンプとウエーハ吸着盤の間に
    設けられる真空制御器を回転体上に固設し、該真空制御
    器への真空吸着ON/OFF信号の入力を外部から行な
    うことを特徴とする請求項1,2又は3記載の回転割出
    式ウエーハ面取部研磨装置。
JP1992050005U 1992-07-16 1992-07-16 回転割出式ウエーハ面取部研磨装置 Expired - Lifetime JP2598661Y2 (ja)

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