CN219442731U - 一种静电吸盘清洁装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种静电吸盘清洁装置，用于对静电吸盘表面进行清洁颗粒污染物，包括：进气机构与排气机构；进气机构产生的气流在经过静电吸盘表面后从排气机构排出。本公开的静电吸盘清洁装置，在静电吸盘的周围设置进气机构与排气机构，可以利用气流的冲击，很大程度的清除静电吸盘上的颗粒污染物，从而使得晶圆在放置到静电吸盘上后尽可能少的沾染上污染物，有利于晶圆稳定的吸附在静电吸盘表面，降低晶圆发生位置偏移的风险。

Description

一种静电吸盘清洁装置

技术领域

本公开涉及静电吸盘领域，尤其涉及一种静电吸盘清洁装置。

背景技术

在半导体工艺中，静电吸盘常见于物理气相沉积和刻蚀设备中，用于承载晶圆。在晶圆被静电吸盘夹紧后，气体可以流向晶圆的背面，从而进行热传递。由于芯片制程工序较多，导致晶圆背面会携带颗粒污染物，这些污染物在与静电吸盘表面接触时，会黏附残留在静电吸盘表面，从而影响气流在晶圆背面的稳定性。静电吸盘和晶圆之间是通过静电吸附接触的，污染物导致的气流不稳定，会导致晶圆背面的压力不稳定，从而造成晶圆难以稳定的吸附在静电吸盘表面，进而导致晶圆发生位置偏移的风险增加。

所以在将晶圆放置到静电吸盘之前，亟需能够对静电吸盘进行有效清洁的装置。

实用新型内容

本公开的主要目的在于提供一种静电吸盘清洁装置，以至少解决现有技术中存在的以上技术问题。

为了实现上述目的，本公开提供了一种静电吸盘清洁装置，用于对静电吸盘表面进行清洁颗粒污染物，包括：进气机构与排气机构；所述进气机构产生的气流在经过静电吸盘表面后从所述排气机构排出。

在一可实施方式中，所述进气机构与排气机构可同步升降地设置在所述静电吸盘的外围。

在一可实施方式中，包括控制器，所述进气机构的底部设置第一升降机构，所述排气机构的底部设置第二升降机构，所述第一升降机构和所述第二升降机构均与所述控制器通讯连接。

在一可实施方式中，所述进气机构与排气机构可旋转地设置在所述静电吸盘的外围。

在一可实施方式中，所述静电吸盘的底部设置旋转动力机构，所述旋转动力机构包括行星齿轮架、主轴与设置在主轴周围的多个副轴，所述行星齿轮架通过支撑柱支撑，所述支撑柱与行星齿轮架底部滚动连接，所述主轴上同轴设置主传动齿轮，副轴上同轴设置副传动齿轮，所有的副传动齿轮均同时啮合主传动齿轮与行星齿轮架，所述主轴通过齿轮箱连接电机。

在一可实施方式中，所述第一升降机构和所述第二升降机构均设置在所述行星齿轮架上。

在一可实施方式中，所述进气机构包括吹气口，所述排气机构包括接气口，所述吹气口与所述接气口相向设置，所述吹气口与所述接气口均设置成弧形口。

在一可实施方式中，所述吹气口与所述接气口均设置成180°弧度角的弧形口。

在一可实施方式中，所述吹气口设置成小于180°弧度角的弧形口，所述接气口设置成大于180°弧度角的弧形口。

在一可实施方式中，所述吹气口与所述接气口均斜向下设置斜切角，所述吹气口吹出的气流经所述静电吸盘反射后进入至所述接气口中。

本公开的静电吸盘清洁装置，在静电吸盘的周围设置进气机构与排气机构，可以利用气流的冲击，很大程度的清除静电吸盘上的颗粒污染物，从而使得晶圆在放置到静电吸盘上后尽可能少的沾染上污染物，有利于晶圆稳定的吸附在静电吸盘表面，降低晶圆发生位置偏移的风险。

应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

附图说明

通过参考附图阅读下文的详细描述，本公开示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本公开的若干实施方式，其中：

在附图中，相同或对应的标号表示相同或对应的部分。

图1是本公开一个实施例的静电吸盘清洁装置处于非使用状态的结构示意图；

图2是本公开一个实施例的静电吸盘清洁装置处于使用状态的结构示意图；

图3是本公开一个实施例的从行星齿轮架底部向上斜视的部分结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

1、进气机构；11、吹气口；2、排气机构；21、接气口；3、静电吸盘；41、第一升降机构；42、第二升降机构；5、旋转动力机构；51、行星齿轮架；52、主轴；53、副轴；54、主传动齿轮；55、副传动齿轮；56、电机；57、支撑柱；58、滚珠；59、滚动凹槽。

具体实施方式

为使本公开的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而非全部实施例。基于本公开中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

参照图1和图2，本公开提供一种静电吸盘清洁装置，用于在将晶圆放置到静电吸盘3之前，对静电吸盘3表面进行清洁颗粒污染物，该静电吸盘清洁装置包括：进气机构1与排气机构2，进气机构1产生的气流在经过静电吸盘3表面后能够从排气机构2排出。

在本公开的实施例中，进气机构1与排气机构2可旋转地设置在静电吸盘3的外围。

具体的，在静电吸盘3的底部设置旋转动力机构5，旋转动力机构5为行星齿轮传动机构，旋转动力机构5包括行星齿轮架51、主轴52与设置在主轴52周围的多个副轴53，行星齿轮架51通过支撑柱57支撑，支撑柱57与行星齿轮架51底部滚动连接，主轴52上同轴设置主传动齿轮54，副轴53上同轴设置副传动齿轮55，所有的副传动齿轮55均同时啮合主传动齿轮54与行星齿轮架51。主轴52通过齿轮箱连接电机56，从而可以通过电机56带动主轴52的旋转，副传动齿轮55与副轴53之间均可以产生相对转动，从而在主轴52产生转动后，可以带动主传动齿轮54的转动，继而带动副传动齿轮55的旋转，再通过副传动齿轮55带动行星齿轮架51的转动，将进气机构1与排气机构2均设置在行星齿轮架51上，则可以达到带动进气机构1与排气机构2围绕静电吸盘3旋转的目的。

参照图1-图3，在本公开的实施例中，支撑柱57与行星齿轮架51底部滚动连接，进一步设置为，在行星齿轮架51的底部设置滚动凹槽59，滚动凹槽59设置成圆环状，滚动凹槽59与行星齿轮架51的旋转中心线重合，支撑柱57的顶部嵌设有滚珠58，滚珠58的一部分凸出于支撑柱57的上顶面，且滚珠58凸出的部分设置在滚动凹槽59内，则支撑柱57起到支撑行星齿轮架51的同时，还能保证行星齿轮架51相对于支撑柱57产生旋转。

在本公开的实施例中，副轴53可以用于对静电吸盘3底部的支撑。

在本公开的实施例中，进气机构1与排气机构2可同步升降地设置在静电吸盘3的外围。

具体的，进气机构1与行星齿轮架51间设置第一升降机构41，排气机构2与行星齿轮架51间设置第二升降机构42，第一升降机构41与第二升降机构42可以但不限于是电缸，第一升降机构41与第二升降机构42的主体部分固定设置在行星齿轮架51上，第一升降机构41的输出轴连接进气机构1，第二升降机构42的输出轴连接排气机构2。

在本公开的实施例中，静电吸盘清洁装置包括控制器，驱动主轴52的电机56、第一升降机构41和第二升降机构42均与控制器通讯连接，从而可以通过控制器控制进气机构1和排气机构2的旋转和升降。

在本公开的实施例中，进气机构1包括吹气口11，排气机构2包括接气口21，进气机构1与排气机构2包括使用状态与非使用状态，当进气机构1与排气机构2处于使用状态时，进气机构1与排气机构2均升起使得吹气口11和接气口21高于静电吸盘3的上表面，当进气机构1与排气机构2处于非使用状态时，进气机构1与排气机构2均下降使得吹气口11和接气口21处于静电吸盘3的外周侧。吹气口11与接气口21相向设置，吹气口11与接气口21均设置成180°弧度角的弧形口，从而使得吹气口11具有比较大的吹气面积，更好地提高对静电吸盘3的清洁效果。

在本公开的实施例中，因为接气口21需要尽可能地接收被吹气口11吹起的颗粒污染物，防止被吹起的颗粒污染物没被及时接收又折返掉落到静电吸盘3上，所以接气口21的接气面积不能小于吹气口11。所以吹气口11可以设置成小于180°弧度角的弧形口，接气口21可以设置成大于180°弧度角的弧形口。

在本公开的实施例中，为了增大吹气压力，吹气口11与接气口21可以斜向下设置斜切角，吹气口11吹出的气流经静电吸盘3折射后进入至接气口21中。

综上，本公开的静电吸盘清洁装置，在静电吸盘3的周围设置可升降与旋转的进气机构1与排气机构2，可以利用气流的冲击，很大程度的清除静电吸盘3上的颗粒污染物，从而使得晶圆在放置到静电吸盘3上后尽可能少的沾染上污染物，有利于晶圆稳定的吸附在静电吸盘3表面，降低晶圆发生位置偏移的风险。

应该理解，可以使用上面所示的各种形式的流程，重新排序、增加或删除步骤。例如，本公开中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行，只要能够实现本公开公开的技术方案所期望的结果，本文在此不进行限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或隐含地包括至少一个该特征。有涉及“第一方向”、“第二方向”等方向性的术语，均代指某直线方向，除非另有明确具体的限定。在本公开的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种静电吸盘清洁装置，用于对静电吸盘表面进行清洁颗粒污染物，其特征在于，包括：

进气机构(1)；

排气机构(2)；

所述进气机构(1)产生的气流在经过静电吸盘(3)表面后从所述排气机构(2)排出。

2.根据权利要求1所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述进气机构(1)与排气机构(2)可同步升降地设置在所述静电吸盘(3)的外围。

3.根据权利要求2所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，包括控制器，所述进气机构(1)的底部设置第一升降机构(41)，所述排气机构(2)的底部设置第二升降机构(42)，所述第一升降机构(41)和所述第二升降机构(42)均与所述控制器通讯连接。

4.根据权利要求1所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述进气机构(1)与排气机构(2)可旋转地设置在所述静电吸盘(3)的外围。

5.根据权利要求3所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述静电吸盘(3)的底部设置旋转动力机构(5)，所述旋转动力机构(5)包括行星齿轮架(51)、主轴(52)与设置在主轴(52)周围的多个副轴(53)，所述行星齿轮架(51)通过支撑柱(57)支撑，所述支撑柱(57)与行星齿轮架(51)底部滚动连接，所述主轴(52)上同轴设置主传动齿轮(54)，副轴(53)上同轴设置副传动齿轮(55)，所有的副传动齿轮(55)均同时啮合主传动齿轮(54)与行星齿轮架(51)，所述主轴(52)通过齿轮箱连接电机(56)。

6.根据权利要求5所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述第一升降机构(41)和所述第二升降机构(42)均设置在所述行星齿轮架(51)上。

7.根据权利要求1所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述进气机构(1)包括吹气口(11)，所述排气机构(2)包括接气口(21)，所述吹气口(11)与所述接气口(21)相向设置，所述吹气口(11)与所述接气口(21)均设置成弧形口。

8.根据权利要求7所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述吹气口(11)与所述接气口(21)均设置成180°弧度角的弧形口。

9.根据权利要求7所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述吹气口(11)设置成小于180°弧度角的弧形口，所述接气口(21)设置成大于180°弧度角的弧形口。

10.根据权利要求7所述的静电吸盘清洁装置，其特征在于，所述吹气口(11)与所述接气口(21)均斜向下设置斜切角，所述吹气口(11)吹出的气流经所述静电吸盘(3)反射后进入至所述接气口(21)中。