CN217577136U - 真空吸附及翻转装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种真空吸附及翻转装置，其特征在于，包括：水平基座、旋转电机及吸附臂，所述旋转电机固定端固连所述水平基座，旋转端固连所述吸附臂，且旋转轴垂直于所述水平基座；其中，所述吸附臂吸附晶圆，所述旋转电机驱动所述旋转端带动所述吸附臂及所述晶圆水平翻转。通过吸附臂吸附晶圆，旋转电机翻转所述吸附臂及所述晶圆，具有结构简单，操作便捷，翻转精度高等优点。

Description

真空吸附及翻转装置

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，更具体地，涉及一种真空吸附及翻转装置。

背景技术

随着集成电路产业的迅猛发展，对设备处理多种规格半导体晶圆的能力提出了更高更严格的要求。在半导体晶圆生产制作及传输过程中，需要对半导体晶圆正反两面进行检测观察，保证工艺要求及其品质质量。此外，半导体晶圆既有Notch的又有Flat的，这种不规则的圆形，这对半导体晶圆翻转提出了更高的要求。

在实现本实用新型的过程中，发现目前现有技术存在以下问题没有得到很好的解决：

1.传统的半导体晶圆翻转装置，夹持间距难以调节，难以应对多种规格半导体晶圆；

2.传统的半导体晶圆翻转装置，夹持点一般是放在半导体晶圆的四等分点上，难以应对不规则的半导体晶圆夹持。

3.传统的半导体晶圆翻转装置，在夹持过程中，容易对半导体晶圆造成划伤破损，影响正常的使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种真空吸附及翻转装置。

为实现上述目的，本实用新型提供一种真空吸附及翻转装置，其特征在于，包括：水平基座、旋转电机及吸附臂，所述旋转电机固定端固连所述水平基座，旋转端固连所述吸附臂，且旋转轴垂直于所述水平基座；其中，所述吸附臂吸附晶圆，所述旋转电机驱动所述旋转端带动所述吸附臂及所述晶圆水平翻转。

优选地，所述水平基座包括若干调平顶丝、底板及支撑组件，所述支撑组件固设于所述底板上，所述调平顶丝之间绕所述底板的中心，且沿所述底板的周向对称设置；其中，所述旋转电机的固定端垂直相连所述支撑组件，所述调平顶丝调整所述底板以平行于水平面。

优选地，所述底板为矩形板，4个调平顶丝对应分设于所述矩形板的四角。

优选地，还包括：联轴器，固设于吸附臂及所述旋转端之间，所述支撑组件包括左/右侧板、及前/背侧板；其中，所述左/右侧板及所述背侧板固设于所述底板上，所述左/右侧板相对分设于所述背侧板的两侧，前侧板相对所述背侧板，并两侧分别固连所述左/右侧板；所述旋转电机的固定端固连所述背侧板，旋转端设于所述前/背侧板之间，所述联轴器的一端固连所述旋转端，并穿过所述前侧板，另一端固连所述吸附臂。

优选地，还包括：左/右限位装置，均固连所述前侧板，且对称分设于所述旋转电机的两侧，并限制所述旋转电机于预设角度内旋转。

优选地，所述预设角度为0°至180°。

优选地，所述左/右限位装置均包括带聚氨酯止动螺栓。

优选地，还包括：左/右传感器，分别对应所述左/右限位装置，并对称分设于所述旋转电机的两侧，且检测所述旋转电机的旋转角度。

优选地，还包括：与所述吸附臂气路相连的压块、定块及真空阀，所述定块固连所述旋转轴，并旋转地连接所述真空阀，所述压块下压所述吸附臂的一端于所述定块上，所述吸附臂的另一端设有若干吸附孔；其中，所述真空阀开启，所述吸附孔吸附所述晶圆，所述旋转电机带动所述定块、所述压块及所述吸附臂相对于所述真空阀旋转；所述真空阀关闭，所述吸附孔释放所述晶圆。

优选地，所述吸附臂还设有若干平行间隔的刻画线，各所述刻画线相隔所述吸附孔的距离对应所述晶圆的半径。

本实用新型通过吸附臂吸附晶圆，翻转单元固设于水平基座上，并翻转所述吸附臂及所述晶圆，具有结构简单，操作便捷，翻转精度高等优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

附图1为本实用新型实施例的真空吸附及翻转装置的轴视结构示意图；

附图2为本实用新型实施例的真空吸附及翻转装置的正视结构示意图；

附图3为本实用新型实施例的真空吸附及翻转装置的俯视结构示意图。

图中：101底板；102左侧板；103右侧板；104前侧板；105调平顶丝；201旋转电机；202右限位装置；203左限位装置；204右传感器；205左传感器；206联轴器；301定块；302压块；303吸附臂； 304气管。

具体实施方式

为使本实用新型的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本实用新型的内容作进一步说明。当然本实用新型并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本实用新型的保护范围内。

需要说明的是，在下述的具体实施方式中，在详述本实用新型的实施方式时，为了清楚地表示本实用新型的结构以便于说明，特对附图中的结构不依照一般比例绘图，并进行了局部放大、变形及简化处理，因此，应避免以此作为对本实用新型的限定来加以理解。

本实用新型的真空吸附及翻转装置，包括水平基座、旋转电机及吸附臂。

如图1所示，所述旋转电机201的固定端固连所述水平基座，旋转端固连所述吸附臂，且旋转轴垂直于所述水平基座。所述吸附臂吸附晶圆(未图示)，所述旋转电机201驱动所述旋转端带动所述吸附臂及晶圆水平翻转。

所述晶圆的尺寸可以是2寸、3寸、4寸、6寸及12寸中的一种或多种。

所述水平基座包括若干调平顶丝、底板及支撑组件。所述支撑组件固设于所述底板上，所述旋转电机201的固定端垂直相连所述支撑组件，所述调平顶丝之间绕所述底板的中心，且沿所述底板的周向对称设置。

本实施例中，底板101为矩形板，所述支撑组件垂直于底板101。所述支撑组件为立式柜体，并包括左侧板102、右侧板103、前侧板 104及背侧板。

左侧板102、右侧板103及背侧板固设于所述底板上，左侧板102、右侧板103相对分设于所述背侧板的两侧，前侧板104相对所述背侧板，并两侧分别固连左侧板102及右侧板103。

4个调平顶丝105分设于底板101的四角。调平顶丝105调整底板101以平行于水平面，以确保所述支撑组件垂直于水平面形成水平基座。

如图3所示，旋转电机201设于前侧板104及背侧板之间，且固定端固连背侧板，旋转端设于前侧板104及背侧板之间，可以通过背侧板上的调节顶丝对旋转电机201的位置进行调整，从而使旋转电机 201的旋转轴平行于底板101。

本实施例中，联轴器206穿过所述前侧板104，并一端固连所述旋转端，另一端固连所述吸附臂。

如图3所示，联轴器206套设于旋转轴并使用顶丝(未图示)固定锁紧。旋转电机201驱动所述旋转端带动联轴器206，传动所述吸附臂及所述晶圆翻转。

本实施例中，所述吸附臂设于前侧板104的前侧，并自所述晶圆的圆心吸附所述晶圆，所述晶圆支撑于吸附臂303上，通过设计吸附臂303的尺寸，可以应对多种尺寸的晶圆，提高真空吸附及翻转装置的适用性。

吸附孔设于吸附臂303的端部，并对应所述晶圆的圆心，吸附臂 303上还设有对应不同尺寸的晶圆的刻画线，所述刻画线相隔所述吸附孔的距离为对应尺寸的晶圆的半径。本实用新型采用真空吸附晶圆，避免由于机械夹持造成的晶圆划伤及损坏，而且，吸附孔对应所述晶圆的圆心，适用于不规则的晶圆。

本实施例中，自吸附孔向外，依次设有3寸晶圆刻画线、4寸晶圆刻画线及6寸晶圆刻画线。本实用新型可实现多种规格的晶圆自动翻转，大大增加了装置的实用性。

如图2所示，左限位装置203及右限位装置202对称分设于所述旋转电机201的两侧，并限制所述旋转电机201于预设角度内旋转。

本实施例中，所述预设角度为0°至180°。所述旋转电机201 及所述吸附臂均垂直架设于所述支撑组件上，所述旋转电机201翻转所述吸附臂，带动所述晶圆平行于所述底板翻转。

左限位装置203及右限位装置202均包括带聚氨酯止动螺栓，在180°位置(如图2所示右侧)和0°位置(如图2所示左侧)各安装一个带聚氨酯止动螺栓，限制旋转电机201在所述预设角度内旋转。

左传感器205及右传感器204分别对应左限位装置203及右限位装置202，并对称分设于所述旋转电机201的两侧，用于检测所述旋转电机201的旋转角度，实时监测旋转电机201的位置。

所述吸附臂303的一端设有若干吸附孔，如图1所示，两个吸附孔设于吸附臂303的端部的上表面，另一端固连连接组件并设有若干排气孔，所述排气孔对应所述连接组件的进气孔，所述连接组件固连所述旋转端，且出气孔旋转连接所述真空阀。

如图1所示，所述连接组件包括气路相连的压块302及定块301，所述进气孔设于所述压块302，所述出气孔设于所述定块301，气管 304将压块302及定块301气路相连。

所述定块301通过联轴器206固连所述旋转轴，所述压块302下压所述吸附臂303的一端，通过压块302固连所述定块301及吸附臂 303。定块301设有若干螺纹孔(未图示)，所述螺纹孔分设于吸附臂303的上、下、左及右，顶丝(未图示)通过所述螺纹孔对吸附臂 303进行位置调整。

吸附臂303的一端的上表面设有吸附孔，另一端的排气孔通过O 型密封圈与压块302的进气孔相连通，定块301的出气孔旋转连接所述真空阀，从而形成真空吸附气路。

此外，还可以在所述真空吸附气路设置真空压力控制阀(未图示)，用于调节吸附晶圆的吸附力，还可以设置真空压力检测阀(未图示)，以判断晶圆是否被正常吸附。

所述真空阀开启，吸附孔吸附晶圆，旋转电机的旋转轴传动联轴器，带动所述连接组件传动所述吸附臂及所述晶圆水平翻转。所述真空阀关闭，所述吸附孔释放所述晶圆。

本实用新型通过吸附臂吸附晶圆，翻转单元固设于水平基座上，并翻转所述吸附臂及所述晶圆，具有结构简单，操作便捷，翻转精度高等优点。吸附臂的兼容性强，调节方便，适用行业范围广泛，即可应用于IC行业，也可应用于LED等其他泛半导体行业。

以上所述的仅为本实用新型的优选实施例，所述实施例并非用以限制本实用新型的专利保护范围，因此凡是运用本实用新型的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本实用新型的保护范围内。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种真空吸附及翻转装置，其特征在于，包括：水平基座、旋转电机及吸附臂，所述旋转电机固定端固连所述水平基座，旋转端固连所述吸附臂，且旋转轴垂直于所述水平基座；其中，

所述吸附臂吸附晶圆，所述旋转电机驱动所述旋转端带动所述吸附臂及所述晶圆水平翻转。

2.如权利要求1所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述水平基座包括若干调平顶丝、底板及支撑组件，所述支撑组件固设于所述底板上，所述调平顶丝之间绕所述底板的中心，且沿所述底板的周向对称设置；其中，

所述旋转电机的固定端垂直相连所述支撑组件，所述调平顶丝调整所述底板以平行于水平面。

3.如权利要求2所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述底板为矩形板，4个调平顶丝对应分设于所述矩形板的四角。

4.如权利要求2所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，还包括：联轴器，固设于吸附臂及所述旋转端之间，所述支撑组件包括左/右侧板、及前/背侧板；其中，

所述左/右侧板及所述背侧板固设于所述底板上，所述左/右侧板相对分设于所述背侧板的两侧，前侧板相对所述背侧板，并两侧分别固连所述左/右侧板；

所述旋转电机的固定端固连所述背侧板，旋转端设于所述前/背侧板之间，所述联轴器的一端固连所述旋转端，并穿过所述前侧板，另一端固连所述吸附臂。

5.如权利要求4所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，还包括：左/右限位装置，均固连所述前侧板，且对称分设于所述旋转电机的两侧，并限制所述旋转电机于预设角度内旋转。

6.如权利要求5所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述预设角度为0°至180°。

7.如权利要求5所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述左/右限位装置均包括带聚氨酯止动螺栓。

8.如权利要求5所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，还包括：左/右传感器，分别对应所述左/右限位装置，并对称分设于所述旋转电机的两侧，且检测所述旋转电机的旋转角度。

9.如权利要求1所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，还包括：与所述吸附臂气路相连的压块、定块及真空阀，所述定块固连所述旋转轴，并旋转地连接所述真空阀，所述压块下压所述吸附臂的一端于所述定块上，所述吸附臂的另一端设有若干吸附孔；其中，

所述真空阀开启，所述吸附孔吸附所述晶圆，所述旋转电机带动所述定块、所述压块及所述吸附臂相对于所述真空阀旋转；所述真空阀关闭，所述吸附孔释放所述晶圆。

10.如权利要求9所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述吸附臂还设有若干平行间隔的刻画线，各所述刻画线相隔所述吸附孔的距离对应所述晶圆的半径。

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