JPH06114314A - ペースト塗布機 - Google Patents
ペースト塗布機Info
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- JPH06114314A JPH06114314A JP4266125A JP26612592A JPH06114314A JP H06114314 A JPH06114314 A JP H06114314A JP 4266125 A JP4266125 A JP 4266125A JP 26612592 A JP26612592 A JP 26612592A JP H06114314 A JPH06114314 A JP H06114314A
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 所望のペーストパターンを正確に塗布描画す
ることのできるペースト塗布機を提供する。 【構成】 Ｘ軸およびＹ軸テーブル２０，２１によって
水平方向に駆動される吸着盤１９に清掃装置１１を設
け、この清掃装置１１に備えられる吸収体１１ａをモー
タ１１ｇで回転させつつ、Ｚ軸テーブル２２を駆動して
シリンダ１３とノズル１５を吸収体１１ａに向けて下降
させ、ノズル１５の先端と吸収体１１ａとを相互に摩擦
させた。 【構成】 ノズルの先端に付着したペーストを吸収体に
よって確実に除去することができる。
ることのできるペースト塗布機を提供する。 【構成】 Ｘ軸およびＹ軸テーブル２０，２１によって
水平方向に駆動される吸着盤１９に清掃装置１１を設
け、この清掃装置１１に備えられる吸収体１１ａをモー
タ１１ｇで回転させつつ、Ｚ軸テーブル２２を駆動して
シリンダ１３とノズル１５を吸収体１１ａに向けて下降
させ、ノズル１５の先端と吸収体１１ａとを相互に摩擦
させた。 【構成】 ノズルの先端に付着したペーストを吸収体に
よって確実に除去することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ノズルからペーストを
基板上に塗布描画することによって、ハイブリッド印刷
回路の抵抗体や液晶表示装置のパネルシール材などを形
成するペースト塗布機に係り、特に、ノズル先端に付着
したペーストを除去する清掃装置に関するものである。
基板上に塗布描画することによって、ハイブリッド印刷
回路の抵抗体や液晶表示装置のパネルシール材などを形
成するペースト塗布機に係り、特に、ノズル先端に付着
したペーストを除去する清掃装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ペースト塗布機は、シリンダ（ペースト
収納筒）内に充填されたペーストを該シリンダの先端に
設けたノズルから基板上に吐出し、これらシリンダと基
板とを水平方向に相対的に移動させ、基板にうねりがあ
る場合には更に垂直方向にも相対的に移動させることに
より、該基板上に所望のパターンのペースト膜を塗布描
画するようになっている。ここで、ペーストの吐出量は
シリンダに掛ける流体圧を加圧あるいは負圧状態にする
ことで制御されるが、ペーストは粘性を有するため、塗
布後にノズルの先端部にペーストが付着している（以
下、この付着しているペーストを残渣と呼ぶ）ことが多
い。
収納筒）内に充填されたペーストを該シリンダの先端に
設けたノズルから基板上に吐出し、これらシリンダと基
板とを水平方向に相対的に移動させ、基板にうねりがあ
る場合には更に垂直方向にも相対的に移動させることに
より、該基板上に所望のパターンのペースト膜を塗布描
画するようになっている。ここで、ペーストの吐出量は
シリンダに掛ける流体圧を加圧あるいは負圧状態にする
ことで制御されるが、ペーストは粘性を有するため、塗
布後にノズルの先端部にペーストが付着している（以
下、この付着しているペーストを残渣と呼ぶ）ことが多
い。
【０００３】残渣が固化してノズルが目詰りをおこす
と、次の塗布描画作業が困難になるので、清掃装置を設
けて残渣を除去するようにしたペースト塗布機が実開平
３ー９８９７１号公報において提案されている。同公報
に記載された清掃装置は、ノズルに針状体を備えたアク
チュエータを配置し、この針状体をノズル内で移動させ
ることによって、ノズル開孔部の残渣を押出して目詰り
を解消するようになっている。
と、次の塗布描画作業が困難になるので、清掃装置を設
けて残渣を除去するようにしたペースト塗布機が実開平
３ー９８９７１号公報において提案されている。同公報
に記載された清掃装置は、ノズルに針状体を備えたアク
チュエータを配置し、この針状体をノズル内で移動させ
ることによって、ノズル開孔部の残渣を押出して目詰り
を解消するようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従
来の清掃装置にあっては、ノズルの先端外側に残渣が付
着したままでノズル先端部が太くなることがあり、その
場合、次の塗布描画時に基板上に描かれたペーストの幅
が所望の幅より大きくなり、所望のペーストパターンの
塗布描画が得られないという問題があった。また、ノズ
ル先端の残渣にペーストが付着して暫く落下せず、塗布
開始部が温度計の下端部のような形状になる、所謂、泣
きだし現象が発生するため、この点からもペーストパタ
ーンの正確性に問題があった。
来の清掃装置にあっては、ノズルの先端外側に残渣が付
着したままでノズル先端部が太くなることがあり、その
場合、次の塗布描画時に基板上に描かれたペーストの幅
が所望の幅より大きくなり、所望のペーストパターンの
塗布描画が得られないという問題があった。また、ノズ
ル先端の残渣にペーストが付着して暫く落下せず、塗布
開始部が温度計の下端部のような形状になる、所謂、泣
きだし現象が発生するため、この点からもペーストパタ
ーンの正確性に問題があった。
【０００５】それゆえ本発明の目的は、上記した従来技
術の課題を解消し、所望のペーストパターンを正確に塗
布描画することのできるペースト塗布機を提供すること
にある。
術の課題を解消し、所望のペーストパターンを正確に塗
布描画することのできるペースト塗布機を提供すること
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ノズルの先端からペーストを基板上に吐
出し、これらノズルと基板とを相対的に移動させること
により、該基板上に所望のペーストパターンを描画する
ようにしたペースト塗布機において、前記ノズルの先端
にペーストを塗布可能な吸収体を押し当て、これらノズ
ルの先端と吸収体とを相互に摩擦させる清掃装置を設け
た。
に、本発明は、ノズルの先端からペーストを基板上に吐
出し、これらノズルと基板とを相対的に移動させること
により、該基板上に所望のペーストパターンを描画する
ようにしたペースト塗布機において、前記ノズルの先端
にペーストを塗布可能な吸収体を押し当て、これらノズ
ルの先端と吸収体とを相互に摩擦させる清掃装置を設け
た。
【０００７】
【作用】ノズルの先端にスポンジやフェルトなどの吸収
体を押し当て、該吸収体を直線運動あるいは回転運動す
ると、ノズルの先端は吸収体で摩擦され、ノズルに付着
している残渣は拭き取られる。ここで、吸収体が清掃時
にノズルを破損させないようにするためには、吸収体は
ノズルよりも弾性に富み、かつ、柔らかなものが良い。
また、吸収体にペーストの溶剤を含浸させておくと、残
渣が固化している場合でも、溶剤で軟化させて拭き取る
ことができる。
体を押し当て、該吸収体を直線運動あるいは回転運動す
ると、ノズルの先端は吸収体で摩擦され、ノズルに付着
している残渣は拭き取られる。ここで、吸収体が清掃時
にノズルを破損させないようにするためには、吸収体は
ノズルよりも弾性に富み、かつ、柔らかなものが良い。
また、吸収体にペーストの溶剤を含浸させておくと、残
渣が固化している場合でも、溶剤で軟化させて拭き取る
ことができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図に基づいて説明す
る。図１は本発明によるペースト塗布機の一実施例を示
す斜視図で、１０は基板、１１は清掃装置、１３はシリ
ンダ、１５はノズル、１９は吸着盤、２０はＸ軸テーブ
ル、２１はＹ軸テーブル、２２はＺ軸テーブル、２３は
ベースである。
る。図１は本発明によるペースト塗布機の一実施例を示
す斜視図で、１０は基板、１１は清掃装置、１３はシリ
ンダ、１５はノズル、１９は吸着盤、２０はＸ軸テーブ
ル、２１はＹ軸テーブル、２２はＺ軸テーブル、２３は
ベースである。
【０００９】図１において、ベース２３上にはＸ軸テー
ブル２０とＹ軸テーブル２１および吸着盤１９が下から
順に設置されており、この吸着盤１９上には基板１０が
真空吸着されている。これらＸ軸およびＹ軸テーブル２
０，２１は図示省略した制御装置によって駆動されるよ
うになっており、制御装置で両テーブル２０，２１を図
のＸ軸およびＹ軸方向にそれぞれ任意の距離だけ移動さ
せると、吸着盤１９に吸着された基板１０がベース２３
に平行な水平面内を移動する。また、前記ベース２３に
はＺ軸テーブル２２が設置されており、このＺ軸テーブ
ル２２にシリンダ１３が取り付けられている。このシリ
ンダ１３内にはペーストが充填されており、シリンダ１
３の下端部にノズル１５が設けられている。このＺ軸テ
ーブル２２も前述した制御装置によって駆動されるよう
になっており、制御装置でＺ軸テーブル２２を任意の距
離だけ移動させると、シリンダ１３がＺ軸方向（上下方
向）に移動し、基板１０とノズル１５の間隙が調節され
る。また、前記基板１０が載置された吸着盤１９の脇に
は後述する清掃装置１１が設けられている。
ブル２０とＹ軸テーブル２１および吸着盤１９が下から
順に設置されており、この吸着盤１９上には基板１０が
真空吸着されている。これらＸ軸およびＹ軸テーブル２
０，２１は図示省略した制御装置によって駆動されるよ
うになっており、制御装置で両テーブル２０，２１を図
のＸ軸およびＹ軸方向にそれぞれ任意の距離だけ移動さ
せると、吸着盤１９に吸着された基板１０がベース２３
に平行な水平面内を移動する。また、前記ベース２３に
はＺ軸テーブル２２が設置されており、このＺ軸テーブ
ル２２にシリンダ１３が取り付けられている。このシリ
ンダ１３内にはペーストが充填されており、シリンダ１
３の下端部にノズル１５が設けられている。このＺ軸テ
ーブル２２も前述した制御装置によって駆動されるよう
になっており、制御装置でＺ軸テーブル２２を任意の距
離だけ移動させると、シリンダ１３がＺ軸方向（上下方
向）に移動し、基板１０とノズル１５の間隙が調節され
る。また、前記基板１０が載置された吸着盤１９の脇に
は後述する清掃装置１１が設けられている。
【００１０】前記基板１０上にペーストを塗布描画する
に際しては、各テーブル２０，２１，２２を所定の原点
位置に位置決めし、吸着盤１９上に基板１０を真空吸着
した後、シリンダ１３内に充填されたペーストをノズル
１５の先端から基板１０上に吐出させつつ、Ｘ軸および
Ｙ軸テーブル２０，２１を駆動して基板１０を水平面内
でＸーＹ両軸方向に移動させることにより、所望のペー
ストパターンを直接描画する。また、基板１０にうねり
や細かな凹凸がある場合は、Ｚ軸テーブル２２を駆動し
てシリンダ１３を上下動させることにより、基板１０と
ノズル１５の間隙を調整し、形成されるパターンの凹凸
を防止する。そして、ペーストを塗布した後にノズル１
５の先端部に付着した残渣は、清掃装置１１によって除
去される。
に際しては、各テーブル２０，２１，２２を所定の原点
位置に位置決めし、吸着盤１９上に基板１０を真空吸着
した後、シリンダ１３内に充填されたペーストをノズル
１５の先端から基板１０上に吐出させつつ、Ｘ軸および
Ｙ軸テーブル２０，２１を駆動して基板１０を水平面内
でＸーＹ両軸方向に移動させることにより、所望のペー
ストパターンを直接描画する。また、基板１０にうねり
や細かな凹凸がある場合は、Ｚ軸テーブル２２を駆動し
てシリンダ１３を上下動させることにより、基板１０と
ノズル１５の間隙を調整し、形成されるパターンの凹凸
を防止する。そして、ペーストを塗布した後にノズル１
５の先端部に付着した残渣は、清掃装置１１によって除
去される。
【００１１】図２は前記清掃装置１１を拡大して示す断
面図、図３はその清掃装置１１とシリンダ１３の位置関
係を示す構成図、図４はその清掃装置１１でノズル１５
を清掃する状況を示す説明図である。
面図、図３はその清掃装置１１とシリンダ１３の位置関
係を示す構成図、図４はその清掃装置１１でノズル１５
を清掃する状況を示す説明図である。
【００１２】図２に示すように、前記清掃装置１１は吸
収体１１ａと、プーリ１１ｂ、回転軸１１ｃ、ネジ１１
ｄ、ベルト１１ｅ、プーリ１１ｆおよびモータ１１ｇな
どで構成されている。吸収体１１ａはスポンジあるいは
フェルトなどのペーストを塗布可能な材質からなり、こ
の吸収体１１ａはプーリ１１ｂに固定されている。回転
軸１１ｃは前記吸着盤１９に回転自在に軸支されてお
り、前記プーリ１１ｂはこの回転軸１１ｃに固定され、
ネジ１１ｄで高さ調節ができるようになっている。ま
た、前記吸着盤１９の側方にはブラケット１９ａを介し
てモータ１１ｇが固定されており、このモータ１１ｇの
軸に固定されたプーリ１１ｆと前記プーリ１１ｂとの間
にはベルト１１ｅが巻回されている。従って、モータ１
１ｇを回転させると、プーリ１１ｆとベルト１１ｅおよ
びプーリ１１ｂを介して吸収体１１ａも回転する。
収体１１ａと、プーリ１１ｂ、回転軸１１ｃ、ネジ１１
ｄ、ベルト１１ｅ、プーリ１１ｆおよびモータ１１ｇな
どで構成されている。吸収体１１ａはスポンジあるいは
フェルトなどのペーストを塗布可能な材質からなり、こ
の吸収体１１ａはプーリ１１ｂに固定されている。回転
軸１１ｃは前記吸着盤１９に回転自在に軸支されてお
り、前記プーリ１１ｂはこの回転軸１１ｃに固定され、
ネジ１１ｄで高さ調節ができるようになっている。ま
た、前記吸着盤１９の側方にはブラケット１９ａを介し
てモータ１１ｇが固定されており、このモータ１１ｇの
軸に固定されたプーリ１１ｆと前記プーリ１１ｂとの間
にはベルト１１ｅが巻回されている。従って、モータ１
１ｇを回転させると、プーリ１１ｆとベルト１１ｅおよ
びプーリ１１ｂを介して吸収体１１ａも回転する。
【００１３】このように構成された清掃装置１１を用い
てノズル１５の清掃を行うに際しては、まず、図３およ
び図４（ａ）に示すように、Ｘ軸およびＹ軸テーブル２
０，２１を駆動して吸着盤１９を水平面内でＸーＹ両軸
方向に移動させることにより、ノズル１５の中心と吸収
体１１ａの回転中心とを一致させ、しかる後、吸収体１
１ａをモータ１１ｇで回転させつつ、Ｚ軸テーブル２２
を駆動してシリンダ１３とノズル１５を吸収体１１ａに
向けて下降させ、図４（ｂ）に示すようにノズル１５の
先端を吸収体１１ａに接触させる。次いで、図４（ｃ）
に示すように、Ｚ軸テーブル２２を更に下降させ、ノズ
ル１５の先端が吸収体１１ａに喰いこむ程度まで吸収体
１１ａを弾性変形させてから、図４（ｄ）に示すように
Ｚ軸テーブル２２を上昇させ、ノズル１５の先端を吸収
体１１ａから離す。すると、ノズル１５の先端に付着し
た残渣Ｋは、ノズル１５と吸収体１１ａとの摩擦で吸収
体１１ａに拭き取られ、ノズル１５の清掃が完了する。
なお、汚れた吸収体１１ａは洗って再使用し、また、吸
収体１１ａの吸収能力が衰えたらプーリ１１ｂに新たな
吸収体１１ａを固定すれば良い。さらに、ノズル１５の
先端に付着した残渣Ｋが固化していると思われる場合に
は、吸収体１１ａに溶剤を滲みこませておくと残渣Ｋは
溶剤で軟化され、残渣Ｋの拭き取りが容易になる。
てノズル１５の清掃を行うに際しては、まず、図３およ
び図４（ａ）に示すように、Ｘ軸およびＹ軸テーブル２
０，２１を駆動して吸着盤１９を水平面内でＸーＹ両軸
方向に移動させることにより、ノズル１５の中心と吸収
体１１ａの回転中心とを一致させ、しかる後、吸収体１
１ａをモータ１１ｇで回転させつつ、Ｚ軸テーブル２２
を駆動してシリンダ１３とノズル１５を吸収体１１ａに
向けて下降させ、図４（ｂ）に示すようにノズル１５の
先端を吸収体１１ａに接触させる。次いで、図４（ｃ）
に示すように、Ｚ軸テーブル２２を更に下降させ、ノズ
ル１５の先端が吸収体１１ａに喰いこむ程度まで吸収体
１１ａを弾性変形させてから、図４（ｄ）に示すように
Ｚ軸テーブル２２を上昇させ、ノズル１５の先端を吸収
体１１ａから離す。すると、ノズル１５の先端に付着し
た残渣Ｋは、ノズル１５と吸収体１１ａとの摩擦で吸収
体１１ａに拭き取られ、ノズル１５の清掃が完了する。
なお、汚れた吸収体１１ａは洗って再使用し、また、吸
収体１１ａの吸収能力が衰えたらプーリ１１ｂに新たな
吸収体１１ａを固定すれば良い。さらに、ノズル１５の
先端に付着した残渣Ｋが固化していると思われる場合に
は、吸収体１１ａに溶剤を滲みこませておくと残渣Ｋは
溶剤で軟化され、残渣Ｋの拭き取りが容易になる。
【００１４】図５はペーストＰの塗布開始状況を示す説
明図であり、図中、Ｓ１は前記清掃装置１１によって残
渣が除去された場合の書き出し部、Ｓ２はノズル１５の
先端に残渣が残っている場合の書き出し部をそれぞれ示
している。図５に示すように、基板１０を図の右方向に
移動させ、ノズル１５が相対的に図の左方に向かって移
動した場合を想定すると、基板１０上に塗布描画される
ペーストパターンＰＰの形状は、清掃で残渣が完全に拭
き取られた本実施例によれば、書き出し部Ｓ１がノズル
１５の先端の太さを持っているのに対し、残渣がノズル
１５の先端に残っている従来例によれば、書き出し部Ｓ
２が温度計の下端部のようにノズル１５の先端より太く
なる。従って、本実施例によれば、ペーストＰの塗布開
始部に泣きだし現象は発生せず、所望のペーストパター
ンＰＰが得られる。
明図であり、図中、Ｓ１は前記清掃装置１１によって残
渣が除去された場合の書き出し部、Ｓ２はノズル１５の
先端に残渣が残っている場合の書き出し部をそれぞれ示
している。図５に示すように、基板１０を図の右方向に
移動させ、ノズル１５が相対的に図の左方に向かって移
動した場合を想定すると、基板１０上に塗布描画される
ペーストパターンＰＰの形状は、清掃で残渣が完全に拭
き取られた本実施例によれば、書き出し部Ｓ１がノズル
１５の先端の太さを持っているのに対し、残渣がノズル
１５の先端に残っている従来例によれば、書き出し部Ｓ
２が温度計の下端部のようにノズル１５の先端より太く
なる。従って、本実施例によれば、ペーストＰの塗布開
始部に泣きだし現象は発生せず、所望のペーストパター
ンＰＰが得られる。
【００１５】このように、上記した実施例によれば、ノ
ズル１５の先端に付着した残渣Ｋを清掃装置１１を用い
て確実に除去することができるが、この実施例以外にも
種々の変形例が可能である。
ズル１５の先端に付着した残渣Ｋを清掃装置１１を用い
て確実に除去することができるが、この実施例以外にも
種々の変形例が可能である。
【００１６】すなわち、ノズル１５と吸収体１１ａとの
摩擦は回転に限らず、例えば、ノズル１５の先端を吸収
体１１ａに押し当てた後、吸収体１１ａを上下方向ある
いは水平方向に移動させて残渣を拭き取ることも可能で
ある。
摩擦は回転に限らず、例えば、ノズル１５の先端を吸収
体１１ａに押し当てた後、吸収体１１ａを上下方向ある
いは水平方向に移動させて残渣を拭き取ることも可能で
ある。
【００１７】また、吸収体１１ａとノズル１５とはＺ軸
方向（上下方向）に相対的に移動できれば良く、例え
ば、シリンダ１３を固定すると共に、清掃装置１１をＺ
軸テーブル側に設置し、Ｚ軸テーブルによって吸収体１
１ａを上昇させてノズル１５に接触させることも可能で
ある。
方向（上下方向）に相対的に移動できれば良く、例え
ば、シリンダ１３を固定すると共に、清掃装置１１をＺ
軸テーブル側に設置し、Ｚ軸テーブルによって吸収体１
１ａを上昇させてノズル１５に接触させることも可能で
ある。
【００１８】また、ノズル１５と吸収体１１ａのそれぞ
れの中心を容易に一致させるために、上面中央が漏斗状
に窪んだ形状の吸収体１１ａを用い、ノズル１５の先端
が吸収体１１ａの漏斗状傾斜面に当った場合は、それぞ
れの中心が不一致であると判断し、その場合は、Ｘ軸お
よびＹ軸テーブル２０，２１を駆動してノズル１５の先
端が吸収体１１ａの中心に当るようにすれば良い。
れの中心を容易に一致させるために、上面中央が漏斗状
に窪んだ形状の吸収体１１ａを用い、ノズル１５の先端
が吸収体１１ａの漏斗状傾斜面に当った場合は、それぞ
れの中心が不一致であると判断し、その場合は、Ｘ軸お
よびＹ軸テーブル２０，２１を駆動してノズル１５の先
端が吸収体１１ａの中心に当るようにすれば良い。
【００１９】また、ノズル１５の清掃中に基板１０が吸
着盤１９上にある必要はないため、清掃装置１１を吸着
盤１９の脇以外の場所に設置することも可能である。例
えば、吸着盤１９における基板１０が載置される部分の
中央付近に清掃装置１１を設置すれば、清掃装置１１の
設置面積分だけ吸着盤１９を小型化することができ、ベ
ース２３に清掃装置１１を設置すれば、清掃装置１１を
吸着盤１９に設置した場合に比べると、清掃装置１１の
重量分だけテーブル２０、２１の駆動力が低減されるた
め、省力化が図れる。
着盤１９上にある必要はないため、清掃装置１１を吸着
盤１９の脇以外の場所に設置することも可能である。例
えば、吸着盤１９における基板１０が載置される部分の
中央付近に清掃装置１１を設置すれば、清掃装置１１の
設置面積分だけ吸着盤１９を小型化することができ、ベ
ース２３に清掃装置１１を設置すれば、清掃装置１１を
吸着盤１９に設置した場合に比べると、清掃装置１１の
重量分だけテーブル２０、２１の駆動力が低減されるた
め、省力化が図れる。
【００２０】また、ノズル１５先端の汚れを目視点検で
確かめて清掃を開始しても良いが、一定回数の塗布描画
をカウンタで計数する手段を設け、この計数結果に基づ
いて警告アラームを出したり、警告灯を点灯あるいは点
滅させても良い。
確かめて清掃を開始しても良いが、一定回数の塗布描画
をカウンタで計数する手段を設け、この計数結果に基づ
いて警告アラームを出したり、警告灯を点灯あるいは点
滅させても良い。
【００２１】また、塗布描画後に一定時間以上塗布描画
をしない場合には、警告アラームや警告灯によって次の
塗布時に清掃を促すようにしても良く、あるいは、かか
る時間経過をタイマで監視しても良い。
をしない場合には、警告アラームや警告灯によって次の
塗布時に清掃を促すようにしても良く、あるいは、かか
る時間経過をタイマで監視しても良い。
【００２２】また、超精細なペーストパターンを塗布描
画するもので、塗布のたびに清掃を必要とする場合は、
塗布作業指令信号と清掃作業指令信号とが交互に出され
るようにするインターロック制御部を設け、清掃作業が
放置され続けて塗布作業指令信号が出されたら、塗布描
画を不可能にするだけでなく、警告アラームや警告灯に
よって清掃を促すようにすると良い。
画するもので、塗布のたびに清掃を必要とする場合は、
塗布作業指令信号と清掃作業指令信号とが交互に出され
るようにするインターロック制御部を設け、清掃作業が
放置され続けて塗布作業指令信号が出されたら、塗布描
画を不可能にするだけでなく、警告アラームや警告灯に
よって清掃を促すようにすると良い。
【００２３】さらに、これらのことをノズル１５先端の
汚れについてのみならず、吸収体１１ａの汚れについて
施すこともできる。
汚れについてのみならず、吸収体１１ａの汚れについて
施すこともできる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ノズルの先端に付着したペーストを確実に除去すること
ができるため、所望のペーストパターンを基板上に正確
に塗布描画することが可能となる。
ノズルの先端に付着したペーストを確実に除去すること
ができるため、所望のペーストパターンを基板上に正確
に塗布描画することが可能となる。
【図１】本発明によるペースト塗布機の一実施例を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】図１の清掃装置を拡大して示す断面図である。
【図３】図２の清掃装置とシリンダの位置関係を示す構
成図である。
成図である。
【図４】図２の清掃装置でノズルを清掃する状況を示す
説明図である。
説明図である。
【図５】ペーストの塗布開始状況を示す説明図である。
１０ 基板 １１ 清掃装置 １１ａ 吸収体 １１ｂ，１１ｆ プーリ １１ｃ 回転軸 １１ｄ ネジ １１ｅ ベルト １１ｇ モータ １３ シリンダ １５ ノズル １９ 吸着盤 １９ａ ブラケット ２０ Ｘ軸テーブル ２１ Ｙ軸テーブル ２２ Ｚ軸テーブル ２３ ベース
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米田 福男 茨城県竜ケ崎市向陽台５丁目２番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内 (72)発明者 石田 茂 茨城県竜ケ崎市向陽台５丁目２番 日立テ クノエンジニアリング株式会社開発研究所 内
Claims (1)
- 【請求項１】 ノズルの先端からペーストを基板上に吐
出し、これらノズルと基板とを相対的に移動させること
により、該基板上に所望のペーストパターンを描画する
ようにしたペースト塗布機において、前記ノズルの先端
にペーストを塗布可能な吸収体を押し当て、これらノズ
ルの先端と吸収体とを相互に摩擦させる清掃装置を設け
たことを特徴とするペースト塗布機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4266125A JPH06114314A (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | ペースト塗布機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4266125A JPH06114314A (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | ペースト塗布機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06114314A true JPH06114314A (ja) | 1994-04-26 |
Family
ID=17426679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4266125A Pending JPH06114314A (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | ペースト塗布機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06114314A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11108849A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Ntn Corp | ペースト塗布修正装置 |
| WO2006079913A1 (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-03 | Smart Res S.R.L. | Apparatus and method for making an antenna for a radiofrequency identifying device |
| JP2007283240A (ja) * | 2006-04-18 | 2007-11-01 | Komuratekku:Kk | クリーニングパッド |
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| JP2011173056A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Nec Corp | 塗布装置、及び液溜まり除去方法 |
| JP2017148742A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 東レエンジニアリング株式会社 | ノズル清掃装置 |
-
1992
- 1992-10-05 JP JP4266125A patent/JPH06114314A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8397377B2 (en) | 2005-01-28 | 2013-03-19 | Smart Res S.P.A. | Apparatus for making an antenna for wire transponders of electrically conductive material |
| KR100937849B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2010-01-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 노즐 세정장치 및 세정방법 |
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