JPH06112299A - 基板搬送装置及びプローブ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板を載置台との間で受け渡すにあたって、
載置台が垂直や下向きの状態でも確実に基板を受け渡す
こと。 【構成】 吸気路１１を備えた載置台１と、通気路２１
を備えた搬送保持台２と、バネ３３を介して気体吹き付
け部４を取り付けた搬送部３とを用いる。搬送部３の周
縁に溝５を形成しこの中を真空引きして搬送保持台２を
搬送部３に吸着すると共に気体吹き付け部４から空気を
吹き出してウエハＷを搬送保持台２に押し付け、こうし
て搬送保持台２と共にウエハＷを載置台１に搬送する。
載置台１の吸気路１１内を真空引きすることにより搬送
保持台２が載置台１に吸着し、また搬送保持台２内通気
路２１も負圧になるのでウエハＷが搬送保持台２を介し
て載置台１に固定される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板搬送装置及びプロ
ーブ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造装置や半導体検査装置におい
ては、半導体ウエハの搬送工程が多く、例えば処理ステ
ーション間の搬送、入出力ポートに置かれたウエハキャ
リアと処理部（あるいは検査部）との間の搬送、処理部
内での搬送などが行われる。従来このような搬送を行う
ためには、ベルトにウエハを載せて搬送したり、あるい
はアームにウエハを載せて搬送したりするなどの方法が
用いられていた。

【０００３】例えばプローブ装置は、水平に配置される
と共にＸ、Ｙ、Ｚ、θ方向に移動可能なウエハ載置台の
上方側に、前記ＩＣチップの電極パッド配列に対応して
配列されたプローブ針を備えたプローブカードを配置
し、プローブ針と電極パッドとを接触させることにより
各ＩＣチップに対して電気的測定を行うものであるが、
このプローブ装置では、オートローダ部のウエハキャリ
ア内からアームによりウエハを取り出し、プリアライメ
ントステージを介してウエハ保持台上に搬送するように
している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで半導体を製造
あるいは検査する場合、装置の占有面積を狭くする要請
やレイアウトの都合上からウエハの載置台が垂直または
逆さに設置されることが考えられる。例えばプローブ装
置の場合例えばウエハの周縁部の９０度づつずれた４ヶ
所についてプローブ針に対する位置合わせを行わなけれ
ばならないのでウエハ載置台の移動領域がかなり広い。
一方マイクロプロセッサやＤＳＰなどのＬＳＩでは２０
ＭＨｚ以上の高速で動作するものが主流となりつつある
ため、高周波テストを可能にするテストヘッドが開発さ
れている。このためテストヘッドの重量が増加し、大型
のものでは３００Ｋｇ〜５００Ｋｇもの大重量になって
いるが、このようにテストヘッドが大重量化すると現状
のヒンジ機構では支えられなくなり、テストヘッドの支
持機構が追いつかなくなるという問題がある。

【０００５】そこで装置の占有面積を小さくし、またテ
ストヘッドを空中で支持しなくて済むようにウエハ載置
台を垂直にすることが検討されている。

【０００６】このようなウエハ載置台に対してウエハを
搬送するためには、アームを用いる場合にはウエハの裏
面を吸着する方法、ウエハの表面を吸着する方法が考え
られるが、前者の方法はウエハの受け渡し時に落下のお
それがあるし、後者の方法はゴミの付着という問題が残
る。またベルトによる搬送は、現状では実現性のない方
法である。

【０００７】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、基板載置台が垂直や逆さの
状態に配置されている場合にも基板載置台との間で基板
を確実に受け渡すことのできる基板搬送装置及びプロー
ブ装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は載置台
との間で基板の受け渡しを行う基板搬送装置において、
基板を載せて搬送するための搬送保持台と、この搬送保
持台を離脱自在に保持すると共に前記基板を当該搬送保
持台に固定させ、搬送保持台と共に基板を載置台に対し
て受け渡しする搬送部と、この搬送部により前記搬送保
持台を載置台上に搬送したときに基板及び搬送保持台を
載置台上に固定する固定手段と、を設けたことを特徴と
する。

【０００９】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、搬送部は、基板の表面に気体を吹き付けて当該基板
を搬送保持台に押し付けて保持させる気体吹き付け部を
備えてなる特徴とする。

【００１０】請求項３の発明は、請求項２の発明におい
て、気体吹き付け部は、弾性体を介して搬送部本体に取
り付けられ、基板に気体を吹き付けたときに前記弾性体
の復元力に抗して基板から浮上することを特徴とする。

【００１１】請求項４の発明は、請求項１の発明におい
て、固定手段は、載置台に形成された吸気路を含み、こ
の吸気路からの負圧によって基板を搬送保持台と共に載
置台に吸着させることを特徴とする。

【００１２】請求項５の発明は、請求項１の発明におい
て、搬送部は載置台に対する搬送保持台の押し付け方向
の力を緩衝するための緩衝機構が組み合わせられている
ことを特徴とする。

【００１３】請求項６の発明は、請求項１の発明におい
て、搬送部に吸気路を形成すると共に、基板が載置され
る領域以外の領域に一端が開口しかつ基板が載置される
領域に他端が開口する通気路を搬送保持内に形成し、搬
送部の吸気路と搬送保持台内の通気路とを連通させるこ
とにより、搬送保持台を搬送部に吸着させると共に基板
を搬送保持台に吸着させることを特徴とする。

【００１４】請求項７の発明は、載置台上の被検査体の
電極パッドにテストユニットの接触手段を接触させて被
検査体の電気的測定を行うプローブ装置において、被検
査体を載せて搬送するための搬送保持台と、この搬送保
持台を離脱自在に保持すると共に前記基板を当該搬送保
持台に固定させ、搬送保持台と共に被検査体を載置台に
対して受け渡しする搬送部と、この搬送部により前記搬
送保持台を載置台上に搬送したときに被検査体及び搬送
保持台を載置台上に固定する固定手段と、を設けたこと
を特徴とする。

【００１５】

【作用】先ず予め基板を搬送保持台に載せ、搬送部によ
り基板を搬送保持台に固定しながら当該搬送保持台を保
持し、載置台まで搬送する。搬送保持台が載置台上に載
置された後基板及び搬送保持台を載置台上に固定し、搬
送部を搬送保持台から離脱させる。

【００１６】従って載置台が垂直や逆さの状態に配置さ
れていても搬送部と載置台との間で基板を確実に受け渡
すことができる。例えばプローブ装置では載置台を垂直
に配置できるのでテストヘッドを縦置きにすることがで
きる。また載置台が水平な装置に適用すれば、脆い基板
であっても搬送保持台ごと基板を運ぶので損傷のおそれ
がなくなる。

【００１７】

【実施例】図１は、本発明の基板搬送装置の実施例を示
す断面図及びその概観を示す斜視図であり、この装置
は、載置台１に対して、基板例えば半導体ウエハＷを搬
送保持台２に載せて搬送保持台２ごと搬送部３により受
け渡しを行うものである。前記載置台１は、例えばプロ
ーブ装置におけるウエハ載置台などに相当し、この例で
は垂直に配設されている。この載置台１には多数の吸気
路１１が載置面に開口して形成されており、図示しない
真空ポンプにより吸引されて載置面に負圧が生じるよう
に構成されている。前記搬送保持台２は、例えばウエハ
Ｗよりもひとまわり大きい円板状に形成されると共に、
この搬送保持台２には、通気路２１が貫通して形成され
ており、この通気路２１については、前記載置台１の載
置面における吸気路１１の開口部を経由して気体を吸気
し、この吸気を更に通気路２１を経由して行うものであ
る。なお吸気路１１と通気路２１とは互いに対応した位
置でなくともよい。この通気路２１は、後述のように搬
送保持台２が載置台１上に搬送されたときに前記吸気路
１１からの負圧によってウエハＷ及び搬送保持台２を載
置台１上に吸着固定するための固定手段の一部をなすも
のである。

【００１８】前記搬送部３は、上面に支持枠３２が架設
されているリング状の搬送部本体３１を備え、前記支持
枠３２の中央部の内方側には、弾性体例えば周方向に４
ヶ所等間隔に配置されたバネ３３を介して気体吹き付け
部４が取り付けられている。この気体吹き付け部４は、
一端側が開口している筒状部４１を備え、この筒状部４
１の他端側中央部には、送気管４２に連通する通気路４
３が形成されると共に筒状部４１の他端側外面に前記バ
ネ３３の一端が取り付けられている。

【００１９】前記筒状部４１の開口部には、例えば６イ
ンチウエハを搬送する場合直径約１００ｍｍの気体吹き
付け板４４が当該開口部を塞いで内方側に通気室４０を
形成するように設けられており、この気体吹き付け板４
４には、図３（ａ）、（ｂ）に示すように例えば内面側
口径ａ１が３ｍｍ、外面側（吹き出し側）口径ａ２が
０．５ｍｍの吹き出し穴４５が例えば周方向に等間隔に
８個形成されている。

【００２０】前記気体吹き付け部４は搬送保持台２上の
ウエハＷに気体例えば空気を吹き付けて当該ウエハＷを
搬送保持台２に押し付けて固定する役割を果たすもので
あり、搬送保持台２が搬送部３に保持されていないとき
には、図４に示すように気体吹き付け板４４の外面（図
４中左側の面）が搬送部本体３１の下面よりも突出し、
また搬送保持台２が搬送部３に保持されていてウエハＷ
に対して圧力４Ｋｇｆ／ｃｍ^２の気体が吹き付けられて
いるときにはウエハＷの表面よりも例えば６０〜１６０
μｍ程度浮上する（内方側に位置する）ようにバネ３３
の強さ及び気体の吹き出し速度が設定される。なお図で
は見えないが、筒状部４１からバネ３３の軸方向にガイ
ドピンが突出しており、このガイドピンが搬送部本体３
１内に軸方向に動くように挿入され、これにより気体吹
き付け部４がバネ３３の軸方向にのみ動くように、つま
り気体吹き付け部４が搬送保持台２に対して傾かないよ
うになっている。

【００２１】前記搬送部本体３１の周縁下面には搬送保
持台吸引用の溝５が円周上に沿って形成されており、こ
の溝５は、搬送部本体３１内に形成された吸気路５１に
連通している。吸気路５１は図示しない真空ポンプに接
続され、真空ポンプにより吸引することにより溝５の開
口面に搬送保持台２の周縁部が真空吸着されることとな
る。

【００２２】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず図示しない搬送保持台載置台上に搬送保持台２を載
せ、この搬送保持台２の上にウエハＷを載せた後、搬送
部３をウエハＷ側から搬送保持台２に接近させ、搬送保
持台２を覆うようにして接触させる。続いて搬送部３の
吸気路５１に接続された例えば図示しないバルブをオン
にし、搬送保持台２の周縁を真空吸着して保持すると共
に、送気管４２より空気例えば圧力４Ｋｇｆ／ｃｍ^２の
気体吹き付け部４の通気室４０内に吹き込んで吹き出し
穴４５から吹き出した後、ウエハＷに近づける。更にウ
エハＷの表面と気体吹き付け板４４との間の空気圧によ
り気体吹き付け部４がバネ３３の復元力に抗して働くの
でウエハＷの表面に接触することはない。この結果ウエ
ハＷが搬送保持台２の表面に押し付けられて固定され
る。こうしてウエハＷが搬送保持台２に固定された状態
で搬送保持台２が搬送部３に保持される。

【００２３】次いで搬送部３により搬送保持台２ごとウ
エハＷを図５ａに示すように載置台（ウエハ載置台）１
に向けて搬送し、図５（ｂ）に示すように搬送保持台２
を載置台１上に載せると共に載置台１の吸気路１１に接
続されている図示しないバルブをオンにして吸気路１１
内を負圧にする。これによって搬送保持台２が載置台１
上に真空吸着されると共に、搬送保持台２の通気路２１
が吸気路１１と連通するので（図４参照）ウエハＷも搬
送保持台２を介して載置台１に真空吸着される。

【００２４】更に搬送部３側の吸気路５１の真空引きを
停止し気体吹き付け部４による気体の吹き付けを行いな
がら搬送部３を搬送保持台２から離し、こうして搬送部
３から載置台１へウエハＷが搬送保持台２ごと受け渡さ
れる。なお載置台１から搬送部３へ搬送保持台２を受け
渡す場合には逆の動作を行えばよい。

【００２５】このような実施例によれば、載置台１が垂
直に配置されている場合であっても、搬送部３によりウ
エハＷを搬送保持台２に押し付けて固定しながら搬送保
持台２ごと載置台１に受け渡し、また搬送保持台２から
受け取るため、ウエハＷを落下させることなく載置台１
との間でウエハの搬送を行うことができる。また搬送保
持台２ごとウエハＷを搬送しているので、ウエハＷが例
えばガリウム−ヒ素半導体ウエハのように脆いものであ
っても破損するおそれがない。

【００２６】そして搬送部３が搬送保持台２を保持した
ときに、気体の吹き出しにより気体吹き付け板４４がバ
ネ３３の復元力に抗してウエハＷ表面から浮上するた
め、ウエハＷの厚さにばらつきがあっても（例えば２０
０〜８００μｍの厚さのばらつきがある）気体吹き付け
板４４の浮上量、つまり空気層の厚さが一定になるた
め、一定の圧力でウエハＷを搬送保持台２側に押し付け
ることができ、ウエハＷを確実に保持することができ
る。

【００２７】そしてまた載置台１に形成した吸気路１１
と搬送保持台２に形成した通気路２１とを介して真空引
きによりウエハＷを搬送保持台２と共に載置台１に吸着
するようにしているため、簡単な構造により確実にウエ
ハＷと搬送保持台２とを載置台１に固定することができ
る。

【００２８】以上において載置台１は垂直に限らず下向
きあるいは上向きに配置されていてもよい。更に搬送部
３においては、図６に示すように搬送アームの先端部分
３０に緩衝機構例えば板バネ３０ａを介して搬送部本体
３１を取り付けるようにしてもよく、このようにすれば
載置台１に対する搬送保持台２の押し付け方向の力が板
バネ３０ａにより緩衝されるため、搬送部３が搬送保持
台２を受け取りに行くときに搬送部本体３１の下面を搬
送保持台２に密接させることができるので確実に搬送保
持台２を受け取ることができ、また搬送保持台２を載置
台１に受け渡すときに搬送保持台２の下面が載置台１の
載置面に密接させることができるので搬送保持台２を載
置台１に確実に受け渡すことができる。

【００２９】また本発明では、図７に示すように搬送ア
ーム６の先端に搬送部３を設けると共にこのアーム６の
基端部の両面を、緩衝機構をなすバネ６１を介してアー
ム駆動部６２、例えば．Ｘ、Ｙ、θ、Ｚ方向あるいは
θ、Ｚ方向に駆動可能なアーム駆動部６２に取り付ける
ようにしてもよく、この例においても図６に例で設けた
板バネ３３の場合と同様の効果がある。

【００３０】そして載置台１に搬送保持台２及びウエハ
Ｗを真空吸着するにあたっては、例えば図８に示すよう
に載置台１の吸気路１１の開口している面を、搬送保持
台２の載置面よりも凹ませて凹部１２を形成すれば、載
置台１に対する搬送保持台２の保持位置に高い精度を要
求しなくとも確実に吸着できる。

【００３１】そしてまた載置台１と搬送保持台２の構造
については、図９に示すように例えば搬送保持台２を、
外枠リングの中に線状部材を介して内枠リングを取り付
けた構造にすると共に、載置台１側に搬送保持台２の形
状に対応する溝１３を形成して搬送保持台２が載置台１
の載置面よりも沈み込むように構成してもよく、この場
合にはウエハＷが直接載置台１の載置面に真空吸着され
るので、ウエハＷを載置台１に内蔵した温度調整手段で
加熱、冷却する場合に好ましい。

【００３２】更にまた搬送部３に搬送保持台２及びウエ
ハＷを吸着するためには図１０に示す構成としてもよ
い。即ち図１０に示す例では、搬送保持台２内に吸気路
２２を形成し、ウエハＷが載置される領域以外の領域例
えば搬送保持台２の周縁の半周上に吸気路２２の開口部
２３を形成すると共に、吸気路２２の他端側をウエハＷ
が載置される領域例えば搬送保持台２の中央部上面４ヶ
所に開口している。一方搬送部３側には搬送保持台２の
前記開口部２３と対応するように吸気路５１の開口部を
形成し、搬送部３側の吸気路５１内を図示しない真空ポ
ンプで吸引することによりウエハＷの裏面が搬送保持台
２の吸気路２２の負圧により搬送保持台２の表面に真空
吸着され、従ってウエハＷが搬送保持台２に固定された
状態で搬送部３により搬送保持台２を搬送することがで
きる。このようにすれば吸気系のみで搬送保持台２の保
持とウエハＷの固定とを同時に行うことができるので構
造が簡単である。

【００３３】なお本発明では、搬送部３による搬送保持
台２の保持は、真空吸着以外の方法、例えばマグネット
吸着や静電吸着を利用してもよく、また搬送保持台２及
びウエハＷを載置台１に保持させるためには静電吸着な
どを単独であるいは真空吸着と併用して用いてもよい。

【００３４】次に既述した搬送装置をプローブ装置に適
用した例について図１１を参照しながら説明する。図１
１において載置台（ウエハ載置台）１は、垂直面に沿っ
て縦方向（Ｚ方向）、横方向（Ｘ方向）に移動可能でか
つ厚さ方向（Ｙ方向）に移動可能であり、さらにＹ軸の
まわりに回転できるように駆動機構７１に組み合わせて
設けられている。この載置台１と対向する位置には、
（図では分解して示してある）プローブ針７２ａを備え
たプローブカードやテストヘッドなどからなるテストユ
ニット７２が例えばＸ方向に退避自在に配設されてい
る。

【００３５】搬送部３は、搬送アーム７３の先端に取り
付けられており、この搬送アーム７３は、例えばＹ、Ｚ
方向に駆動可能でかつ搬送アーム７３自体をスウィング
させるように（Ｘ軸まわりに回動できるように）駆動機
構７４に設けられている。なおこの駆動機構７４は、搬
送アームをθ回転させたり、伸縮させたりするものであ
ってもよく、その機能は装置のレイアウトに対応して決
めればよい。

【００３６】更にこのプローブ装置には、搬送保持台２
上に検査前のウエハを載置しまたは搬送保持台２から検
査済みのウエハＷを受け渡すための搬送保持台載置台７
５と、ウエハＷのオリフラ（オリエンテーションフラッ
ト）及び中心位置を合わせるためのプリアライメントス
テージ７６と、前記搬送保持台載置台７５とプリアライ
メントステージ７６との間でウエハＷを搬送するために
θ方向に移動自在なハンドラー７７と、ウエハキャリア
Ｃが載置されるキャリアステージ７８とが設置されてい
る。

【００３７】前記搬送保持台載置台７５は、ウエハＷの
裏面を保持する例えば３本のピンが搬送保持台２内を貫
通して突出自在に設けられると共にウエハＷを真空吸着
するための吸気路が設けられており、例えば搬送保持台
２上にウエハＷを受け渡す場合、図１２に示すように３
本のピンＰが搬送保持台２よりも上方側に突出し、ウエ
ハＷがこれらピンＰにより保持された後ピンＰを下方側
に没入させてウエハＷを搬送保持台２上に載置し、吸気
路を介して吸引することによりウエハＷを真空吸着する
ように構成される。なおウエハＷを搬送保持台２から受
け取る場合には逆の動作が行われる。

【００３８】このようなプローブ装置の作用について述
べると、先ず図示しない搬送機構によりキャリアＣ内か
らウエハＷを取り出してプリアライメントステージ７６
に搬送し、ここでウエハＷのプリアライメントを行った
後ハンドラー７７により当該ウエハＷを搬送保持台載置
台７５上の搬送保持台２に受け渡す。しかる後搬送部３
を下降させて、既述したように搬送保持台載置台７５上
の搬送保持台２ごとウエハＷを保持し、搬送部３をスイ
ングさせて垂直に向け、Ｙ方向に移動させて載置台１上
に受け渡す。次いでテストユニット７２のプローブ針７
２ａに対するウエハＷの位置合わせを行った後プローブ
針７２ａとウエハＷ上のＩＣチップの電極パッドとを接
触させて所定の電気的測定を行う。

【００３９】このようにウエハ載置台１を垂直に立てた
プローブ装置によれば、テストヘッドをヒンジ機構など
により空中で支持しなくて済むのでテストヘッドの大重
量化に対応しやすく、またウエハ載置台１による占有面
積を、水平に設置した場合に比べて格段に小さくするこ
とができるのでスペース効率が向上する。

【００４０】また搬送保持台２の上にウエハＷを載せた
状態で搬送保持台２を載置台１に固定する場合には、例
えば搬送保持台２に対してウエハＷを正確に載置してお
いて、載置台１上でウエハＷの位置合わせを行うときに
は搬送保持台２とプローブ針とを位置合わせするように
してもよい。

【００４１】そしてまた本発明のプローブ装置は、載置
台１を垂直に配置する場合に限らず下向きまたは斜めに
配置してもよいし、あるいは図１３に示すように水平に
配置してもよい。載置台１を水平に配置した場合には、
搬送保持台２を用いなくともウエハＷが落下するおそれ
はないが既述のようにガリウム−ヒ素半導体ウエハなど
のように脆いウエハに対して、搬送保持台２と共に載置
台１に対して受け渡しを行うので破損のおそれがない。

【００４２】以上において搬送部３については、搬送保
持台２の表面側を覆うようにして搬送保持台２を保持す
る構成に限らず、例えば搬送保持台２の周縁を保持し、
搬送保持台２内の吸気路によりウエハＷを搬送保持台２
側に吸着した状態で搬送するなど種々の構成を採用でき
る。更にまた本発明は、プローブ装置以外の搬送に適用
してもよいし、基板についても半導体ウエハに限らずＬ
ＣＤ基板などであってもよい。

【００４３】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、基板を搬送保
持台に載せて搬送保持台ごと載置台に対して受け渡しす
るようにしているため、載置台が斜め、垂直あるいは下
向きに配置されていても基板を落下させることなく確実
に受け渡すことができ、装置構成の自由度が拡がる。

【００４４】請求項２の発明によれば、基板の表面に気
体を吹き付けて搬送保持台に基板を押し付けるようにし
ているため、簡単な構造にして基板を安定したクリ−ン
な状態で搬送保持台に保持させることができる。この場
合請求項３の発明のように気体吹き付け部を弾性体に取
り付けることにより基板の厚さにばらつきがあっても基
板を一定の保持力で確実に保持できる。

【００４５】請求項４の発明によれば、真空吸着により
載置台に基板及び搬送保持台を固定しているので、搬送
保持台にメカニカルな固定手段を用いないのでゴミの発
生の少ない状態で基板及び搬送保持台を載置台に固定す
ることができる。

【００４６】請求項５の発明によれば、搬送部に緩衝機
構が組み合わせられているため、搬送部と搬送保持台と
を密接させた状態での基板の受け渡しが可能となり、確
実な基板の保持と受け渡しができる。

【００４７】請求項６の発明によれば、搬送保持台の吸
気路が、搬送部による搬送保持台の保持と基板の保持と
を兼用しているので構成が簡単である。

【００４８】請求項７の発明によれば、載置台を例えば
垂直に配置しても基板の受け渡しを確実に行うことがで
きるので、垂直な載置台を採用することができ、テスト
ヘッドの大重量化に容易に対応でき、またプローブ装置
の占有面積を小さくすることができるなどの効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る搬送装置の実施例を示す断面図で
ある。

【図２】上記実施例の概観を示す斜視図である。

【図３】気体吹き付け板の全体及び一部拡大を示す図で
ある。

【図４】上記実施例の別の状態を示す断面図である。

【図５】上記実施例の作用を示す説明図である。

【図６】本発明に係る搬送装置の搬送部の他の例を示す
断面図である。

【図７】搬送部を搬送アームに設けた例を示す断面図で
ある。

【図８】載置台の他の例を示す断面図である。

【図９】搬送保持台及び載置台の他の例を示す概観斜視
図である。

【図１０】搬送保持台及び搬送保持台の他の例を示す図
である。

【図１１】本発明に係るプローブ装置の実施例を示す概
観斜視図である。

【図１２】搬送保持台載置台の一例の作用を示す説明図
である。

【図１３】本発明に係るプローブ装置の他の実施例を示
す概観斜視図である。

【符号の説明】

１ 載置台 １１、２２ 吸気路 ２ 搬送保持台 ３ 搬送保持部 ３３、６１ 緩衝機構をなすバネ ４ 気体吹き付け部 ５ 溝 ７１、７４ 駆動機構 ７２ テストユニット ７５ 搬送保持台載置台

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 載置台との間で基板の受け渡しを行う基
   板搬送装置において、 基板を載せて搬送するための搬送保持台と、 この搬送保持台を離脱自在に保持すると共に前記基板を
   当該搬送保持台に固定させ、搬送保持台と共に基板を載
   置台に対して受け渡しする搬送部と、 この搬送部により前記搬送保持台を載置台上に搬送した
   ときに基板及び搬送保持台を載置台上に固定する固定手
   段と、 を設けたことを特徴とする基板搬送装置。
2. 【請求項２】 搬送部は、基板の表面に気体を吹き付け
   て当該基板を搬送保持台に押し付けて保持させる気体吹
   き付け部を備えてなる請求項１記載の基板搬送装置。
3. 【請求項３】 気体吹き付け部は、弾性体を介して搬送
   部本体に取り付けられ、基板に気体を吹き付けたときに
   前記弾性体の復元力に抗して基板から浮上することを特
   徴とする請求項２記載の基板搬送装置。
4. 【請求項４】 固定手段は、載置台に形成された吸気路
   を含み、この吸気路からの負圧によって基板を搬送保持
   台と共に載置台に吸着させることを特徴とする請求項１
   記載の基板搬送装置。
5. 【請求項５】 搬送部は、載置台に対する搬送保持台の
   押し付け方向の力を緩衝するための緩衝機構が組み合わ
   せられていることを特徴とする請求項１記載の基板搬送
   装置。
6. 【請求項６】 搬送部に吸気路を形成すると共に、基板
   が載置される領域以外の領域に一端が開口しかつ基板が
   載置される領域に他端が開口する通気路を搬送保持台内
   に形成し、 搬送部の吸気路と搬送保持台内の通気路とを連通させる
   ことにより、搬送保持台を搬送部に吸着させると共に基
   板を搬送保持台に吸着させることを特徴とする請求項１
   記載の基板搬送装置。
7. 【請求項７】 載置台上の被検査体の電極パッドにテス
   トユニットの接触手段を接触させて被検査体の電気的測
   定を行うプローブ装置において、 被検査体を載せて搬送するための搬送保持台と、 この搬送保持台を離脱自在に保持すると共に前記被検査
   体を当該搬送保持台に固定させ、搬送保持台と共に被検
   査体を載置台に対して受け渡しする搬送部と、 この搬送部により前記搬送保持台を載置台上に搬送した
   ときに被検査体及び搬送保持台を載置台上に固定する固
   定手段と、 を設けたことを特徴とするプローブ装置。