JPH06107332A - 真空チャック装置による平板状被吸着体の吸着方法 - Google Patents

真空チャック装置による平板状被吸着体の吸着方法

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JPH06107332A
JPH06107332A JP25943392A JP25943392A JPH06107332A JP H06107332 A JPH06107332 A JP H06107332A JP 25943392 A JP25943392 A JP 25943392A JP 25943392 A JP25943392 A JP 25943392A JP H06107332 A JPH06107332 A JP H06107332A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum chuck
wafer
chuck device
sucked
rubber piece
Prior art date
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Pending
Application number
JP25943392A
Other languages
English (en)
Inventor
Kuniaki Horie
邦明 堀江
Isao Aoki
功 青木
Masami Watanabe
正美 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 平板状被吸着体を確実に吸着する。 【構成】 真空チャック2を軟質ゴムピース7だけを介
して上下動及び横行自在なアーム10に取付けた真空チ
ャック装置1を、ウエハWに対し吸着面3aを向けた後
傾姿勢で横行接近し、ゴムピース7の変形により吸着面
3aをウエハWの面にスムーズに一致させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空チャック装置によ
る平板状被吸着体の吸着方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば半導体ウエハを真空チャックで吸
着して搬送する場合、吸着を確実にするためには、ウエ
ハ面と真空チャックの吸着面とが容易に合致することが
好ましい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ウエハがキャ
リヤ等に格納されていない場合、あるいはキャリアに格
納されていてもキャリアのウエハ保持方式によってはウ
エハは若干傾いている場合が多い。
【0004】この傾いているウエハに真空チャックを側
方から接近して吸着すると、吸着不良でウエハをつかめ
ない、落とす等の問題があり、またウエハがキャリヤに
対しずれてダストが発生し、不良発生の原因ともなる。
したがって、ウエハ及び真空チャックは、両者が弾性が
大きく、両者の面が合致し易いことが望まれる。
【0005】これに対し、真空チャックは、一般にアル
ミナやSiC等のセラミックスで作られており、弾性が
小さい。また、ウエハ自体は、周知のように弾性が小さ
く、6インチウエハから8インチウエハに移行するに伴
い、ウエハの厚さが厚くなって弾性がますます小さくな
ってきている。したがって、吸着時のウエハ及び真空チ
ャックの両面の合致は、ますます困難になっている。
【0006】これに対し図4に示すように、真空チャッ
ク20の上端部を、一対の弾性体21を介して真空チャ
ック取付アーム23に取付けたものが知られているが、
フレキシビリティが小さく実用に適しない。
【0007】本発明は、平板状被吸着体を確実に吸着す
る真空チャック装置による平板状被吸着体の吸着方法を
提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による方法は、下
端に平板状の吸着面を備えた真空チャックの上端を弾性
体だけを介して上下動及び横行自在な真空チャック取付
アームに取付けた真空チャック装置を、平板上被吸着体
に対し前記吸着面を向けた後傾姿勢で横行接近させるこ
とを特徴としている。
【0009】上記弾性体には、例えば非常に軟らかいゴ
ムピースを用いるのが好ましい。
【0010】また、後傾姿勢の角度は、平板状被吸着体
の予想される最大傾角より大きく形成する。
【0011】
【作用】本発明によれば、平板状被吸着体が鉛直であっ
ても傾いていても、後傾姿勢で横行接近する真空チャッ
クの下部が最初に被吸着体に当接する。すると、弾性体
が変形してスムーズに吸着面が被吸着面に合致し、確実
に被吸着体を吸着する。
【0012】
【実施例】以下図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。
【0013】図1には、本発明で使用される全体を符号
1で示す真空チャック装置が示されている。
【0014】その装置1は、真空チャック2と、上下動
及び横行自在な真空チャック取付アーム10と、両者
2、10の間に介装された弾性体である軟質ゴムピース
7とから構成されている。
【0015】前記真空チャック2の本体3は、セラミッ
クスで平板状に形成され、その下端部には、吸着孔4を
備えた吸着面3aが形成されてるい。この吸着孔4は、
小孔5を介してエルボ6に接続され、そのエルボ6は、
図示しない真空源に接続されている。
【0016】前記軟質ゴムピース7は、巾が本体2と同
じで、厚さが本体2の厚さの略2倍に形成され、下部に
は、深さが本体2の厚さの段部8が形成されている。そ
の段部8の一面は、本体2に固着され、他面には、エル
ボ6の取付ナット9が固着されている。
【0017】前記真空チャック取付アーム10は、図示
しない手段で、上下動と横行が自在に支持され、下面の
スリット11には、軟質ゴムピース7が固着されてい
る。
【0018】この様に構成され、図1に示すように、ウ
エハWの面が鉛直である場合は、鉛直姿勢の真空チャッ
ク装置1を下動し、左行させれば、ウエハWの面と吸着
面3aとが合致し、ウエハWは確実に吸着される。しか
し、ウエハWを鉛直に格納することは、極めて困難で、
前記した問題が発生する。
【0019】そこで、本発明においては、真空チャック
装置1をウエハWに対し吸着面3aを向けた後傾姿勢で
横行接近させるようにしている。
【0020】図2には、ウエハWが図中で右側に角αだ
け傾いている状態が示され、真空チャック装置1は、ウ
エハWに対し吸着面3aを向けて角度βだけ後傾されて
いる。この角度βは、予想される最大傾角より大きく形
成されている。
【0021】この装置を矢印aのように下動し、矢印b
のように左行させると、本体3の下縁部Pが、先ずウエ
ハWの面に当接する。次いで、装置1の左行により軟質
ゴムピース7が後傾側にわずかに彎曲変形し、吸着面3
aがウエハWの面に合致し、ウエハWを確実に吸着す
る。
【0022】図3には、ウエハWが左側に角度αだけ傾
いている状態が示されている。この場合は、前述と同様
に下縁部Pが、先ずウエハWの面に当接したのち、軟質
ゴムピース7がピース7Aのように大きく後傾側に彎曲
変形し、吸着面3aがウエハWの面に合致し、ウエハW
を確実に吸着する。
【0023】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、軟質ゴムピースの変形により吸着面をウエ
ハの面にスムーズに合致させ、ウエハを確実に吸着する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に使用する真空チャック装置を示す側断
面図。
【図2】本発明の吸着の一態様を示す側面図。
【図3】本発明の吸着の他の態様を示す側断面図。
【図4】従来の真空チャックの一例を示す側面図。
【符号の説明】
P・・・本体の下縁部 W・・・ウエハ 1・・・真空チャック装置 2、20・・・真空チャック 3・・・本体 3a・・・吸着面 4・・・吸着孔 5・・・小孔 6・・・エルボ 7・・・軟質ゴムピース 8・・・段部 9・・・取付ナット 10、23・・・真空チャック取付アーム 11・・・スリット 21・・・弾性体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B65H 29/24 Z H01L 21/68 B 8418−4M

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下端に平板状の吸着面を備えた真空チャ
    ックの上端を弾性体だけを介して上下動及び横行自在な
    真空チャック取付アームに取付けた真空チャック装置
    を、平板上被吸着体に対し前記吸着面を向けた後傾姿勢
    で横行接近させることを特徴とする真空チャック装置に
    よる平板状被吸着体の吸着方法。
JP25943392A 1992-09-29 1992-09-29 真空チャック装置による平板状被吸着体の吸着方法 Pending JPH06107332A (ja)

Priority Applications (1)

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JP25943392A JPH06107332A (ja) 1992-09-29 1992-09-29 真空チャック装置による平板状被吸着体の吸着方法

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JPH06107332A true JPH06107332A (ja) 1994-04-19

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ID=17334025

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003086917A1 (fr) * 2002-04-18 2003-10-23 Olympus Corporation Dispositif de transport de substrat
US9890222B2 (en) 2014-09-22 2018-02-13 Kureha Corporation Polyarylene sulfide production device provided with baffle and baffle support

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WO2003086917A1 (fr) * 2002-04-18 2003-10-23 Olympus Corporation Dispositif de transport de substrat
KR100848228B1 (ko) * 2002-04-18 2008-07-24 올림푸스 가부시키가이샤 기판 반송 장치
KR100848229B1 (ko) * 2002-04-18 2008-07-24 올림푸스 가부시키가이샤 기판 반송 장치
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