JPH06105084B2 - 二相流体発振素子 - Google Patents
二相流体発振素子Info
- Publication number
- JPH06105084B2 JPH06105084B2 JP61121508A JP12150886A JPH06105084B2 JP H06105084 B2 JPH06105084 B2 JP H06105084B2 JP 61121508 A JP61121508 A JP 61121508A JP 12150886 A JP12150886 A JP 12150886A JP H06105084 B2 JPH06105084 B2 JP H06105084B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jet
- phase fluid
- jet flow
- flow
- supply nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、洗浄水の噴射により、食器や人体を洗浄する
洗浄装置や散水装置の噴射ノズルに利用される流体発振
素子に関するものである。
洗浄装置や散水装置の噴射ノズルに利用される流体発振
素子に関するものである。
従来の技術 従来の発振素子を第６図に示す。この素子は供給流路1
5、供給ノズル16、前記供給ノズル16下流両側に噴流付
着壁17、18、供給ノズル16と噴流付着壁17、18間には制
御口19、20とを有すると共に、前記各制御口19、20は、
噴流付着壁17、18に設けたフィードバック口21、22とフ
ィードバック流路23、24を介して連通された構成となっ
ている。
5、供給ノズル16、前記供給ノズル16下流両側に噴流付
着壁17、18、供給ノズル16と噴流付着壁17、18間には制
御口19、20とを有すると共に、前記各制御口19、20は、
噴流付着壁17、18に設けたフィードバック口21、22とフ
ィードバック流路23、24を介して連通された構成となっ
ている。
上記構成に於て供給流路15より流入した流体は供給ノズ
ル16より噴出する。この噴流はコアンダ効果により一方
の噴流付着壁に付着する。まず噴流付着壁17に付着した
と仮定する。付着した噴流は噴流付着壁17に沿って出口
25から噴出する。この時、噴流の１部はフィードバック
口21に入り、フィードバック流路23を通り制御口19に戻
る。制御口19に戻った流れは、供給ノズル16からの主噴
流を付着壁17から付着壁18側に切り換える。以後、噴流
は上記作動を繰返す。
ル16より噴出する。この噴流はコアンダ効果により一方
の噴流付着壁に付着する。まず噴流付着壁17に付着した
と仮定する。付着した噴流は噴流付着壁17に沿って出口
25から噴出する。この時、噴流の１部はフィードバック
口21に入り、フィードバック流路23を通り制御口19に戻
る。制御口19に戻った流れは、供給ノズル16からの主噴
流を付着壁17から付着壁18側に切り換える。以後、噴流
は上記作動を繰返す。
この結果、供給ノズル16からの主噴流は付着壁17、18を
交互に付着して噴出する発振噴流となる。
交互に付着して噴出する発振噴流となる。
発明が解決しようとする問題点 上記従来の発振素子はフィードバック流路等の信号伝達
流路を設けるため、この流路が塞がれ動作不良を起した
り、また、フィードバック口、フィードバック流路条件
により発振が大きく影響されるため、発振が安定する設
計許容値が非常に狭く、安定した素子製造が困難である
等の欠点を有していた。
流路を設けるため、この流路が塞がれ動作不良を起した
り、また、フィードバック口、フィードバック流路条件
により発振が大きく影響されるため、発振が安定する設
計許容値が非常に狭く、安定した素子製造が困難である
等の欠点を有していた。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために、フィードバック流路を設
けることなく、噴流噴射用供給ノズル、大気へ連通する
開口を有した誘引室、側壁とで構成し、噴射流の偏向発
振を行おうとするものである。
けることなく、噴流噴射用供給ノズル、大気へ連通する
開口を有した誘引室、側壁とで構成し、噴射流の偏向発
振を行おうとするものである。
作用 素子の供給ノズルから噴射する噴流が誘引室を通過する
時に生ずる低圧により、大気から空気を誘引すると共
に、誘引室に流入した空気の作用により左右の誘引室間
に差圧を発生させ、噴射流の予偏向を行わせ、更に側壁
の噴流への壁効果による偏向とを加え噴流を噴射口より
噴射させる。この噴流偏向は誘引室へ誘引される空気に
より生ずる誘引室左右のランダム的に変わる圧力差で交
互に偏向され、発振噴射が行われるものである。
時に生ずる低圧により、大気から空気を誘引すると共
に、誘引室に流入した空気の作用により左右の誘引室間
に差圧を発生させ、噴射流の予偏向を行わせ、更に側壁
の噴流への壁効果による偏向とを加え噴流を噴射口より
噴射させる。この噴流偏向は誘引室へ誘引される空気に
より生ずる誘引室左右のランダム的に変わる圧力差で交
互に偏向され、発振噴射が行われるものである。
実施例 以下本発明の二相流体発振素子の一実施例を第１図〜第
５図に基づいて説明する。
５図に基づいて説明する。
第１図において、二相流体発振素子１は素子基盤２、上
板３、パッキン４の積層構造で、素子基盤２には供給流
路管５が取り付けてある。
板３、パッキン４の積層構造で、素子基盤２には供給流
路管５が取り付けてある。
第２図は素子基盤２に形成された流路パターンを示し、
６は供給流路、７は供給ノズル、８は供給ノズル７の下
流に位置し、噴流流路に略垂直な方向に外気に連通する
気体導入口９を有し下流端が絞り部10形状の誘引室、1
1、12は絞り部10の下流両側に設けた側壁、13は前記側
壁11、12の下流開口端で形成された噴出口である。又、
側壁11、12は絞り部10に対しセットバック量14を有し配
設され、側壁と噴流間での低圧渦の発生を容易にしてい
る。
６は供給流路、７は供給ノズル、８は供給ノズル７の下
流に位置し、噴流流路に略垂直な方向に外気に連通する
気体導入口９を有し下流端が絞り部10形状の誘引室、1
1、12は絞り部10の下流両側に設けた側壁、13は前記側
壁11、12の下流開口端で形成された噴出口である。又、
側壁11、12は絞り部10に対しセットバック量14を有し配
設され、側壁と噴流間での低圧渦の発生を容易にしてい
る。
第３図、第４図、第５図は素子の作動状態を示し、Fiは
噴射流、Foは噴出流、VL、VRは気体導入口９より誘引さ
れ誘引室８内に発生する気体渦、AL、ARは噴流の流体巻
込み作用により噴流と側壁11、12間に発生する低圧渦、
Ｂは誘引室８から流出した気体をしめす。
噴射流、Foは噴出流、VL、VRは気体導入口９より誘引さ
れ誘引室８内に発生する気体渦、AL、ARは噴流の流体巻
込み作用により噴流と側壁11、12間に発生する低圧渦、
Ｂは誘引室８から流出した気体をしめす。
上記構成に基づく作動について説明する。
供給流路６に流入した液体は供給ノズル７から噴射す
る。この噴射流は誘引室８で高速流となるため、誘引室
８は大気圧以下になる。即ち、大気に対し負圧となるた
め空気が気体導入口９を通り誘引室８内に誘引され噴射
流Fi1の両側に気体渦VL1、VL2を形成する。この気体渦V
L1、VR1は流体の乱れの性質で圧力差が生じる。仮に、上
側の気体渦VL1が下側の気体渦VR1より低くなった状態と
すると、噴射流Fi1は上側に予偏向される。予偏向され
た噴射流Fi1は絞り部10と、噴射流Fi1と側壁11との壁効
果により低圧渦AL1を発生、側壁11に付着又は付着に近
い状態となり上側により偏向されて、噴出口13からFo1
となって噴出する（以上第３図に示す状態となる）。次
に、噴射流Fi2によって形成された気体渦VL2の１部が噴
射流Fi2と共に誘引室８から気泡Ｂとなって流出、低圧
渦AL2部に流入し、噴射流Fi2と側壁11間の低圧状態を破
壊する。その結果、噴射流Fi2は側壁11から剥離し、直
進する噴出流Fo2となって、噴出口13から噴出する（以
上第４図に示す状態となる）。次に、噴流付着剥離時に
生ずる慣性、噴流の不安定性により噴射流Fi3は反対側
の側壁12に付着し低圧渦AR3を発生、側壁12に付着又は
付着に近い状態となり下側により偏向されて、噴出口13
からFo3となって噴出する（以上第５図に示す状態とな
る）。以後、上記側壁11側で説明した付着剥離現象が側
壁12側で発生し、噴射流は側壁11、12間を交互に付着し
た発振流となる。
る。この噴射流は誘引室８で高速流となるため、誘引室
８は大気圧以下になる。即ち、大気に対し負圧となるた
め空気が気体導入口９を通り誘引室８内に誘引され噴射
流Fi1の両側に気体渦VL1、VL2を形成する。この気体渦V
L1、VR1は流体の乱れの性質で圧力差が生じる。仮に、上
側の気体渦VL1が下側の気体渦VR1より低くなった状態と
すると、噴射流Fi1は上側に予偏向される。予偏向され
た噴射流Fi1は絞り部10と、噴射流Fi1と側壁11との壁効
果により低圧渦AL1を発生、側壁11に付着又は付着に近
い状態となり上側により偏向されて、噴出口13からFo1
となって噴出する（以上第３図に示す状態となる）。次
に、噴射流Fi2によって形成された気体渦VL2の１部が噴
射流Fi2と共に誘引室８から気泡Ｂとなって流出、低圧
渦AL2部に流入し、噴射流Fi2と側壁11間の低圧状態を破
壊する。その結果、噴射流Fi2は側壁11から剥離し、直
進する噴出流Fo2となって、噴出口13から噴出する（以
上第４図に示す状態となる）。次に、噴流付着剥離時に
生ずる慣性、噴流の不安定性により噴射流Fi3は反対側
の側壁12に付着し低圧渦AR3を発生、側壁12に付着又は
付着に近い状態となり下側により偏向されて、噴出口13
からFo3となって噴出する（以上第５図に示す状態とな
る）。以後、上記側壁11側で説明した付着剥離現象が側
壁12側で発生し、噴射流は側壁11、12間を交互に付着し
た発振流となる。
発明の効果 （１）以上のように、フィードバック流路等の信号路を
有しない流路構成であるため、流路がシンプルとなる。
そのため、信号路のつまりによるトラブルがなく、作動
が安定すると共に、素子製造が容易となる。
有しない流路構成であるため、流路がシンプルとなる。
そのため、信号路のつまりによるトラブルがなく、作動
が安定すると共に、素子製造が容易となる。
（２）噴出流が誘引された空気の作用により、発振する
と共に、流れの断続化が促進され、粒子状に成長する。
その結果、噴流の衝突力が高まり洗浄効果が向上する。
と共に、流れの断続化が促進され、粒子状に成長する。
その結果、噴流の衝突力が高まり洗浄効果が向上する。
第１図は本発明の一実施例を示す二相流体発振素子の斜
視図、第２図は同二相流体発振素子の流路パターン図、
第３図、第４図、第５図は同二相流体発振素子の作動を
示す動作状態図、第６図は従来の発振素子の流路パター
ン図である。 ６……供給流路、７……供給ノズル、８……誘引室、９
……気体導入口、10……絞り部、11、12……側壁、13…
…噴出口、14……セットバック量。
視図、第２図は同二相流体発振素子の流路パターン図、
第３図、第４図、第５図は同二相流体発振素子の作動を
示す動作状態図、第６図は従来の発振素子の流路パター
ン図である。 ６……供給流路、７……供給ノズル、８……誘引室、９
……気体導入口、10……絞り部、11、12……側壁、13…
…噴出口、14……セットバック量。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 国本 啓次郎 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 米国特許3398758（ＵＳ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】供給流路、供給ノズル、供給ノズル下流に
位置し、噴流流路に略垂直な方向に外気に連通する気体
導入口を有し下流端が絞り部形状の誘引室、及び前記絞
り部下流両側に下流開口端を噴出口とする側壁とで構成
され、前記供給流路より流入する液体が制御室に流入す
る気体の作用により発振噴出する二相流体発振素子。 - 【請求項２】側壁は、噴流と壁間で低圧領域又は低圧渦
領域の形成を促進する絞り部に対しセットバック量を有
し配設された特許請求の範囲第１項記載の二相流体発振
素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61121508A JPH06105084B2 (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 二相流体発振素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61121508A JPH06105084B2 (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 二相流体発振素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62278305A JPS62278305A (ja) | 1987-12-03 |
| JPH06105084B2 true JPH06105084B2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=14812930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61121508A Expired - Lifetime JPH06105084B2 (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 二相流体発振素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06105084B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7020001B2 (ja) * | 2017-08-31 | 2022-02-16 | 株式会社デンソー | 車載センサ洗浄装置 |
| US11679422B2 (en) | 2017-08-15 | 2023-06-20 | Denso Corporation | On-board sensor cleaning device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3398758A (en) | 1965-09-30 | 1968-08-27 | Mattel Inc | Pure fluid acoustic amplifier having broad band frequency capabilities |
-
1986
- 1986-05-27 JP JP61121508A patent/JPH06105084B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3398758A (en) | 1965-09-30 | 1968-08-27 | Mattel Inc | Pure fluid acoustic amplifier having broad band frequency capabilities |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62278305A (ja) | 1987-12-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |