JPH0535282B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0535282B2 JPH0535282B2 JP59161749A JP16174984A JPH0535282B2 JP H0535282 B2 JPH0535282 B2 JP H0535282B2 JP 59161749 A JP59161749 A JP 59161749A JP 16174984 A JP16174984 A JP 16174984A JP H0535282 B2 JPH0535282 B2 JP H0535282B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jet
- flow
- supply nozzle
- port
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 18
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
- F15C—FLUID-CIRCUIT ELEMENTS PREDOMINANTLY USED FOR COMPUTING OR CONTROL PURPOSES
- F15C1/00—Circuit elements having no moving parts
- F15C1/22—Oscillators
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、洗浄水の噴射により食器や人体等を
洗浄する洗浄装置や、散水装置等の噴射ノズルに
利用される流体発振素子に関する。
洗浄する洗浄装置や、散水装置等の噴射ノズルに
利用される流体発振素子に関する。
従来例の構成とその問題点
従来の発振素子を第７図に示す。この素子は流
入口１、供給ノズル２、この供給ノズル２の下流
両側に設けた噴流付着壁３，４、前記供給ノズル
２と前記噴流付着壁３，４間には各々制御口５，
６を有すると共に、この制御口５，６は噴流付着
壁３，４に設けたフイードバツグ口７，８とフイ
ードバツグ流路９，１０を介して連通された構成
となつている。上記構成において流入口１より流
入した流体は供給ノズル２より噴出する。この噴
流はコアンダ効果によりいずれか一方の付着壁に
付着する。今、噴流が付着壁３に付着したと仮定
する。付着した噴流は付着壁３に沿つて出口１１
から大気中に噴出されるが一部はフイードバツグ
口７に入り、フイードバツグ流路９を通り制御口
５に戻る。制御口５に入つた流れは噴流の付着
を、付着壁３から付着壁４側に変える。以後、前
記動作が付着壁４側で発生し、供給ノズル２から
の噴流は付着壁３，４を交互に付着して大気中に
噴出し、噴流は発振する。
入口１、供給ノズル２、この供給ノズル２の下流
両側に設けた噴流付着壁３，４、前記供給ノズル
２と前記噴流付着壁３，４間には各々制御口５，
６を有すると共に、この制御口５，６は噴流付着
壁３，４に設けたフイードバツグ口７，８とフイ
ードバツグ流路９，１０を介して連通された構成
となつている。上記構成において流入口１より流
入した流体は供給ノズル２より噴出する。この噴
流はコアンダ効果によりいずれか一方の付着壁に
付着する。今、噴流が付着壁３に付着したと仮定
する。付着した噴流は付着壁３に沿つて出口１１
から大気中に噴出されるが一部はフイードバツグ
口７に入り、フイードバツグ流路９を通り制御口
５に戻る。制御口５に入つた流れは噴流の付着
を、付着壁３から付着壁４側に変える。以後、前
記動作が付着壁４側で発生し、供給ノズル２から
の噴流は付着壁３，４を交互に付着して大気中に
噴出し、噴流は発振する。
上記従来例の発振素子はフイードバツグ流路等
の信号伝達流路を設けるため、この流路が塞がれ
動作不良を起こし易い。また発振、停止の切換え
をおこなう場合、発振停止状態となる安定領域が
なく、安定した固定噴流を得ることが困難であつ
た。
の信号伝達流路を設けるため、この流路が塞がれ
動作不良を起こし易い。また発振、停止の切換え
をおこなう場合、発振停止状態となる安定領域が
なく、安定した固定噴流を得ることが困難であつ
た。
発明の目的
本発明は洗浄装置、散水装置等の噴射流パター
ンを発振噴流と非発振噴流とに容易に選択できる
二相流体発振素子の提供を目的とする。
ンを発振噴流と非発振噴流とに容易に選択できる
二相流体発振素子の提供を目的とする。
発明の構成
上記目的を達成するために、本発明は供給ノズ
ル、側壁、流出口からなる純流体素子の前記流出
口に絞り部を設け、且つ、前記側壁部の一方にバ
イアス用ポート、他方に大気と連通する制御室を
設け、特に前記制御室開口を液滴が形成されるの
を防止できる構成にしたものである。この構成に
て、制御室と大気との連通を制御することにより
純流体素子の発振と非発振との切換えを可能にし
たものである。
ル、側壁、流出口からなる純流体素子の前記流出
口に絞り部を設け、且つ、前記側壁部の一方にバ
イアス用ポート、他方に大気と連通する制御室を
設け、特に前記制御室開口を液滴が形成されるの
を防止できる構成にしたものである。この構成に
て、制御室と大気との連通を制御することにより
純流体素子の発振と非発振との切換えを可能にし
たものである。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について第１図〜第６図
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
第１図において、二相流体発振素子１２は素子
基盤１３、上板１４、パツキン１５の積層構造
で、この素子基盤１３には主流路管１６、制御信
号管１７が取付けてある。
基盤１３、上板１４、パツキン１５の積層構造
で、この素子基盤１３には主流路管１６、制御信
号管１７が取付けてある。
第２図は素子基盤１３に形成された流路パター
ンを示し、１８は供給路、１９は供給ノズル、２
０，２１は供給ノズル１９の下流両側に設けた側
壁、２２は噴流流出口で、側壁２０，２１の開口
端部で絞り部２３を有している。側壁２０には大
気と連通するバイアス用ポート２４が設けてあ
る。他方の側壁２１には制御室２５が設けられ、
前記制御室２５は制御ポート２６を通り、更に前
記制御信号管１７を介し大気と連通している。
ンを示し、１８は供給路、１９は供給ノズル、２
０，２１は供給ノズル１９の下流両側に設けた側
壁、２２は噴流流出口で、側壁２０，２１の開口
端部で絞り部２３を有している。側壁２０には大
気と連通するバイアス用ポート２４が設けてあ
る。他方の側壁２１には制御室２５が設けられ、
前記制御室２５は制御ポート２６を通り、更に前
記制御信号管１７を介し大気と連通している。
第３図、第４図、第５図は素子の作動状態を示
し、Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３は噴射流、Fa１，Fa２，
Fa３はバイアス用ポート２４から流入する空気
流、Fb１は、制御ポート２６から流入する空気
流、Fc１，Fc２は主噴流が絞り部２３に当り、
制御室２５に戻るフイードバツグ流を示す。
し、Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３は噴射流、Fa１，Fa２，
Fa３はバイアス用ポート２４から流入する空気
流、Fb１は、制御ポート２６から流入する空気
流、Fc１，Fc２は主噴流が絞り部２３に当り、
制御室２５に戻るフイードバツグ流を示す。
第６図は、制御室２５の開口が小さい場合の作
動状態で、Ｆ４は噴射流、Ｖは付着渦を示す。
動状態で、Ｆ４は噴射流、Ｖは付着渦を示す。
上記構成に基づく作動について説明する。
まず制御信号管１７の開口を開いた場合は、主
流路管１６から供給路１８に流入した液体は供給
ノズル１９から噴出する（第３図Ｆ１）。この噴
流Ｆ１は供給ノズル１９下流のバイアス用ポート
２４、制御用ポート２６共大気と連通状態となつ
て大気流入Fa１，Fb１が起り、噴流両側共圧力
がほぼ大気圧に等しくなるため直進する。
流路管１６から供給路１８に流入した液体は供給
ノズル１９から噴出する（第３図Ｆ１）。この噴
流Ｆ１は供給ノズル１９下流のバイアス用ポート
２４、制御用ポート２６共大気と連通状態となつ
て大気流入Fa１，Fb１が起り、噴流両側共圧力
がほぼ大気圧に等しくなるため直進する。
次に、制御信号管１７の開口を閉じた場合は、
主流路管１６から供給路１８に流入した液体は、
供給ノズル１９から噴出する。この噴流は周囲流
体を巻き込むが、バイアス用ポート２４は大気と
連通しているため大気流入流Fa２が発生し、側
壁２０側の圧力はほぼ大気圧となる。噴流の反対
側の制御室２５は噴流の巻き込み作用により大気
圧以下となる。そのため噴流は側壁２１側に偏向
される（第４図Ｆ２）。偏向された噴流Ｆ２の一
部は流出口２２の絞り部２３に当り、上流側への
還流Fc１を起こす。更に噴出が続くと、還流は
制御室２５に達し（第５図Fc２）、制御室２５の
圧力を高める。この結果、噴流の両側の圧力はほ
ぼ等しくなり、噴流は直進する（第５図Ｆ３）。
上記、噴流の直進、偏向が繰返され噴流は発振流
となる。
主流路管１６から供給路１８に流入した液体は、
供給ノズル１９から噴出する。この噴流は周囲流
体を巻き込むが、バイアス用ポート２４は大気と
連通しているため大気流入流Fa２が発生し、側
壁２０側の圧力はほぼ大気圧となる。噴流の反対
側の制御室２５は噴流の巻き込み作用により大気
圧以下となる。そのため噴流は側壁２１側に偏向
される（第４図Ｆ２）。偏向された噴流Ｆ２の一
部は流出口２２の絞り部２３に当り、上流側への
還流Fc１を起こす。更に噴出が続くと、還流は
制御室２５に達し（第５図Fc２）、制御室２５の
圧力を高める。この結果、噴流の両側の圧力はほ
ぼ等しくなり、噴流は直進する（第５図Ｆ３）。
上記、噴流の直進、偏向が繰返され噴流は発振流
となる。
特に本実施例においては、制御室２５の開口を
大きくしているが、制御室２５開口を小さくした
場合は、還流が制御室２５の開口に達した時開口
を水滴で満たしてしまう（第６図Ｗ）。その結果、
付着渦Ｖが形成され、噴流は側壁２１に付着した
流れとなつて流出口２２から噴出する流れは大き
く偏向された流れとなる（第６図Ｆ４）。
大きくしているが、制御室２５開口を小さくした
場合は、還流が制御室２５の開口に達した時開口
を水滴で満たしてしまう（第６図Ｗ）。その結果、
付着渦Ｖが形成され、噴流は側壁２１に付着した
流れとなつて流出口２２から噴出する流れは大き
く偏向された流れとなる（第６図Ｆ４）。
発明の効果
本発明によれば、以下の効果が得られる。
(1) 流体発振素子内にフイードバツグ流路等の制
御流路を有しないため、流路パターンがシンプ
ルとなり発振作動が安定する。
御流路を有しないため、流路パターンがシンプ
ルとなり発振作動が安定する。
(2) 噴流付着を用いず、噴流の微少偏向を利用し
た発振であると共に、非発振時は噴流の両側が
大気圧状態となるため、発振と非発振の単一噴
流との切換えが確実で、単一噴流が安定してい
る。
た発振であると共に、非発振時は噴流の両側が
大気圧状態となるため、発振と非発振の単一噴
流との切換えが確実で、単一噴流が安定してい
る。
(3) 制御室開口が大きいため、発振時に噴流が付
着することなく、発振の安定性が向上する。
着することなく、発振の安定性が向上する。
第１図は本発明の一実施例を示す流体発振素子
の斜視図、第２図は同素子の断面図、第３図は同
素子の非発振状態を示す断面図、第４図、第５図
はそれぞれ同素子の発振状態を示す断面図、第６
図は同素子の制御室開口が小さい場合の作動を示
す断面図、第７図は従来の発振素子の断面図であ
る。 １９……供給ノズル、２０，２１……側壁、２
２……流出口、２３……絞り部、２４……バイア
ス用ポート、２５……制御室、２６……制御ポー
ト。
の斜視図、第２図は同素子の断面図、第３図は同
素子の非発振状態を示す断面図、第４図、第５図
はそれぞれ同素子の発振状態を示す断面図、第６
図は同素子の制御室開口が小さい場合の作動を示
す断面図、第７図は従来の発振素子の断面図であ
る。 １９……供給ノズル、２０，２１……側壁、２
２……流出口、２３……絞り部、２４……バイア
ス用ポート、２５……制御室、２６……制御ポー
ト。
Claims (1)
- １ 供給ノズル、供給ノズル下流両側に設けた側
壁、側壁下流端に絞り部を有した噴流流出路より
なる素子流路の一方の側壁にはバイアス用ポー
ト、他方の側壁には大気中に連通する制御ポート
を有し、付着壁側開口をバイアス用ポートの付着
壁側開口より大きくした制御室を有した流体発振
素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16174984A JPS6141004A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 流体発振素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16174984A JPS6141004A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 流体発振素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141004A JPS6141004A (ja) | 1986-02-27 |
| JPH0535282B2 true JPH0535282B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=15741154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16174984A Granted JPS6141004A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 流体発振素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6141004A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0737802B2 (ja) * | 1986-12-17 | 1995-04-26 | 松下電器産業株式会社 | 流体発振素子 |
| JPH07119677B2 (ja) * | 1989-07-18 | 1995-12-20 | 昇 矢畑 | 流体素子を用いた薄板用曲げ及び衝撃疲労試験機 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4717018U (ja) * | 1971-03-31 | 1972-10-27 | ||
| JPS4833520U (ja) * | 1971-08-26 | 1973-04-23 | ||
| JPS5210311A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of forming plate glass capable of being electrically heated |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS471873U (ja) * | 1971-01-26 | 1972-08-21 |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16174984A patent/JPS6141004A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4717018U (ja) * | 1971-03-31 | 1972-10-27 | ||
| JPS4833520U (ja) * | 1971-08-26 | 1973-04-23 | ||
| JPS5210311A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of forming plate glass capable of being electrically heated |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6141004A (ja) | 1986-02-27 |
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