JPH06104903B2 - 無電解複合めっき浴及びめっき方法 - Google Patents
無電解複合めっき浴及びめっき方法Info
- Publication number
- JPH06104903B2 JPH06104903B2 JP63204576A JP20457688A JPH06104903B2 JP H06104903 B2 JPH06104903 B2 JP H06104903B2 JP 63204576 A JP63204576 A JP 63204576A JP 20457688 A JP20457688 A JP 20457688A JP H06104903 B2 JPH06104903 B2 JP H06104903B2
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- plating
- composite
- fibers
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、むらのない均一な色調の無電解複合めっき皮
膜を得ることができる無電解複合めっき浴及びめっき方
法に関する。
膜を得ることができる無電解複合めっき浴及びめっき方
法に関する。
従来、次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッ
ケルめっき浴中にポリテトラフルオロエチレン等の水不
溶性複合粒子又は繊維を分散させ、無電解ニッケルめっ
き皮膜中に該複合粒子又は繊維を共析分散させた複合め
っき皮膜を得ることが知られている。
ケルめっき浴中にポリテトラフルオロエチレン等の水不
溶性複合粒子又は繊維を分散させ、無電解ニッケルめっ
き皮膜中に該複合粒子又は繊維を共析分散させた複合め
っき皮膜を得ることが知られている。
しかしながら、このような次亜リン酸塩を還元剤とする
無電解複合めっき浴中には、複合粒子又は繊維を分散,
共析させるために種々の界面活性剤を添加する必要があ
るが、これら界面活性剤添加が原因で、得られた無電解
複合めっき皮膜、特にフッ素系複合粒子又は繊維が共析
された複合めっき皮膜は、シマ状の色調むらが生じる問
題があった。
無電解複合めっき浴中には、複合粒子又は繊維を分散,
共析させるために種々の界面活性剤を添加する必要があ
るが、これら界面活性剤添加が原因で、得られた無電解
複合めっき皮膜、特にフッ素系複合粒子又は繊維が共析
された複合めっき皮膜は、シマ状の色調むらが生じる問
題があった。
また、無電解複合めっき皮膜中の複合粒子又は繊維の共
析量を増加する手段としては、複合粒子又は繊維の浴中
への分散量を増加する以外に有効な方法はないものであ
った。
析量を増加する手段としては、複合粒子又は繊維の浴中
への分散量を増加する以外に有効な方法はないものであ
った。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、浴中に界面活
性剤が添加されていても光沢色調にむらのない均一な外
観を有し、しかも複合粒子又は繊維の共析量の多い無電
解複合めっき皮膜を与える無電解複合めっき浴及びめっ
き方法を提供することを目的とする。
性剤が添加されていても光沢色調にむらのない均一な外
観を有し、しかも複合粒子又は繊維の共析量の多い無電
解複合めっき皮膜を与える無電解複合めっき浴及びめっ
き方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成するため種々検討を行った
結果、ポリテトラフルオロエチレン等の複合粒子又は繊
維が分散され、界面活性剤が添加されてなる次亜リン酸
塩を還元剤とする無電解複合めっき浴中にジエチルアミ
ンや硫酸アンモニウムを添加して無電解複合めっきを行
った場合、無電解複合めっき皮膜にはシマ状の光沢色調
むらが生ぜず、均一な外観のめっき皮膜が得られると共
に、ジエチルアミン及び硫酸アンモニウムを添加しない
浴に比べて同一の複合粒子又は繊維分散量でそれよりも
皮膜中の共析量を顕著に増大させることができることを
知見し、本発明をなすに至った。
結果、ポリテトラフルオロエチレン等の複合粒子又は繊
維が分散され、界面活性剤が添加されてなる次亜リン酸
塩を還元剤とする無電解複合めっき浴中にジエチルアミ
ンや硫酸アンモニウムを添加して無電解複合めっきを行
った場合、無電解複合めっき皮膜にはシマ状の光沢色調
むらが生ぜず、均一な外観のめっき皮膜が得られると共
に、ジエチルアミン及び硫酸アンモニウムを添加しない
浴に比べて同一の複合粒子又は繊維分散量でそれよりも
皮膜中の共析量を顕著に増大させることができることを
知見し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、金属塩、錯化剤、還元剤として次亜
リン酸塩を含有し、かつ界面活性剤が添加されていると
共に、水不溶性複合粒子又は繊維が分散されてなる無電
解複合めっき浴にジエチルアミン又は硫酸アンモニウム
を添加したことを特徴とする無電解複合めっき浴及び無
電解複合めっき浴中に被めっき物を浸漬して、該被めっ
き物に水溶性複合粒子又は繊維が共析分散した無電解複
合めっき皮膜を形成することを特徴とする無電解複合め
っき方法を提供する。
リン酸塩を含有し、かつ界面活性剤が添加されていると
共に、水不溶性複合粒子又は繊維が分散されてなる無電
解複合めっき浴にジエチルアミン又は硫酸アンモニウム
を添加したことを特徴とする無電解複合めっき浴及び無
電解複合めっき浴中に被めっき物を浸漬して、該被めっ
き物に水溶性複合粒子又は繊維が共析分散した無電解複
合めっき皮膜を形成することを特徴とする無電解複合め
っき方法を提供する。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る無電解複合めっき浴は、還元剤として次亜
リン酸ナトリウム等の次亜リン酸塩を用いるものである
が、特にニッケル,ニッケル合金,コバルト,コバルト
合金等の皮膜を形成する目的に好適に使用され、これら
の皮膜を形成するための水溶性金属塩を含み、また通常
これら金属塩の錯化剤として有機酸やその金属塩を含有
する。
リン酸ナトリウム等の次亜リン酸塩を用いるものである
が、特にニッケル,ニッケル合金,コバルト,コバルト
合金等の皮膜を形成する目的に好適に使用され、これら
の皮膜を形成するための水溶性金属塩を含み、また通常
これら金属塩の錯化剤として有機酸やその金属塩を含有
する。
これら金属塩、錯化剤、更に還元剤の濃度は適宜選定さ
れるが、通常金属塩は0.05〜0.5モル/l、錯化剤は0.1〜
1モル/l、還元剤は0.1〜0.5モル/lとすることが好まし
い。また、浴のpHも適宜選定されるが、通常4〜8とさ
れる。
れるが、通常金属塩は0.05〜0.5モル/l、錯化剤は0.1〜
1モル/l、還元剤は0.1〜0.5モル/lとすることが好まし
い。また、浴のpHも適宜選定されるが、通常4〜8とさ
れる。
本発明の無電解めっき浴には、更にアニオン系、カチオ
ン系、ノニオン系、両性イオン系といった界面活性剤の
1種又は2種以上が組み合わされて添加されるが、これ
らの中でフルオロカーボン系カチオン活性剤が水溶性複
合粒子又は繊維の分散,共析という点から好適に用いら
れる。この場合、このような界面活性剤を含む系から得
られた無電解複合めっき皮膜は上述したように外観にシ
マ状のむらが生じ易いが、本発明においては、ジエチル
アミンや硫酸アンモニウムの添加でかかる問題は生じな
いものである。
ン系、ノニオン系、両性イオン系といった界面活性剤の
1種又は2種以上が組み合わされて添加されるが、これ
らの中でフルオロカーボン系カチオン活性剤が水溶性複
合粒子又は繊維の分散,共析という点から好適に用いら
れる。この場合、このような界面活性剤を含む系から得
られた無電解複合めっき皮膜は上述したように外観にシ
マ状のむらが生じ易いが、本発明においては、ジエチル
アミンや硫酸アンモニウムの添加でかかる問題は生じな
いものである。
なお、界面活性剤の添加量は通常0.001〜10g/l、特に0.
01〜0.5g/lである。
01〜0.5g/lである。
また、上記めっき浴中には必要により無電解めっきに常
用される安定剤などの適宜成分を添加することができ
る。
用される安定剤などの適宜成分を添加することができ
る。
上記無電解めっき浴に分散される水溶性複合粒子又は繊
維としては、無電解複合めっき皮膜の使用目的等に応じ
て選ばれるが、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素
樹脂やフッ化黒鉛などのフッ素含有化合物、窒化ホウ
素,炭化ケイ素などの無機物質の粒子又は繊維が挙げら
れ、本発明によればこれら粒子又は繊維を均一にかつ多
量に共析したむらのない外観の無電解複合めっき皮膜が
得られる。
維としては、無電解複合めっき皮膜の使用目的等に応じ
て選ばれるが、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素
樹脂やフッ化黒鉛などのフッ素含有化合物、窒化ホウ
素,炭化ケイ素などの無機物質の粒子又は繊維が挙げら
れ、本発明によればこれら粒子又は繊維を均一にかつ多
量に共析したむらのない外観の無電解複合めっき皮膜が
得られる。
複合粒子又は繊維の分散量は、種々選択されるが、通常
0.1〜500g/l、特に1〜10g/lとすることが好ましい。
0.1〜500g/l、特に1〜10g/lとすることが好ましい。
なお、複合粒子や繊維の大きさは通常の複合めっきに用
いられる複合材と同様なものにすることができる。
いられる複合材と同様なものにすることができる。
本発明は上述した無電解複合めっき浴中にジエチルアミ
ンと硫酸アンモニウムのいずれか一方又は双方を添加す
るもので、これによりめっき皮膜の外観をむらのない良
好ななものにすることができると共に、複合粒子又は繊
維の共析量を増大させることができる。
ンと硫酸アンモニウムのいずれか一方又は双方を添加す
るもので、これによりめっき皮膜の外観をむらのない良
好ななものにすることができると共に、複合粒子又は繊
維の共析量を増大させることができる。
上記ジエチルアミン及び硫酸アンモニウムの添加量は特
に限定されないが、1〜200g/l、より好ましくは10〜10
0g/lとすることが好適である。
に限定されないが、1〜200g/l、より好ましくは10〜10
0g/lとすることが好適である。
本発明のめっき方法は、常法に従い、上記めっき浴中に
被めっき物を浸漬してめっきするもので、めっき条件と
しては通常のめっき条件を採用することができる。ま
た、被めっき物にも制限はなく、無電解めっき可能ない
ずれの材質のものも使用することができる。
被めっき物を浸漬してめっきするもので、めっき条件と
しては通常のめっき条件を採用することができる。ま
た、被めっき物にも制限はなく、無電解めっき可能ない
ずれの材質のものも使用することができる。
本発明によれば、界面活性剤が添加され、また複合材と
してフッ素含有化合物等を使用した場合にも、シマ状の
むらなどが生せず、均一な外観の無電解複合めっき皮膜
が得られると共に、複合材の共析量を多くすることがで
きる。
してフッ素含有化合物等を使用した場合にも、シマ状の
むらなどが生せず、均一な外観の無電解複合めっき皮膜
が得られると共に、複合材の共析量を多くすることがで
きる。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記の実施例に限定されるものではない。
発明は下記の実施例に限定されるものではない。
下記組成の無電解複合ニッケルめっき浴を用い、スリー
ル板上にめっきを施した。
ル板上にめっきを施した。
めっき浴およびめっき条件 ポリテトラフルオロエチレン (平均粒径1μm) 25g/l 水溶性フルオロカーボン系カチオン 活性剤(住友3M社製FC-135C) 1.25 〃 塩化ニッケル 16 〃 次亜リン酸ナトリウム 24 〃 コハク酸ナトリウム 16 〃 リンゴ酸 18 〃 ジエチルアミン 10 〃 pH 5.5 めっき温度 93℃ 上記浴から得られたポリテトラフルオロエチレン複合無
電解ニッケルめっき皮膜の外観は均一な色調を有し、む
らは認められなかった。また、ポリテトラフルオロエチ
レンの共析量は15容量%であった。
電解ニッケルめっき皮膜の外観は均一な色調を有し、む
らは認められなかった。また、ポリテトラフルオロエチ
レンの共析量は15容量%であった。
比較のため、ジエチルアミンを添加しない以外は上記の
同じ組成のめっき浴を用いてめっきを行ったところ、得
られた皮膜はシマ状にむらを有する外観となり、ポリテ
トラフルオロエチレンの共析量は5容量%であった。
同じ組成のめっき浴を用いてめっきを行ったところ、得
られた皮膜はシマ状にむらを有する外観となり、ポリテ
トラフルオロエチレンの共析量は5容量%であった。
なお、ジエチルアミンの代りに硫酸アンモニウムを添加
した浴から得られた皮膜もジエチルアミン添加浴と同様
の効果を有するものであった。
した浴から得られた皮膜もジエチルアミン添加浴と同様
の効果を有するものであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−202080(JP,A) 特公 昭46−4049(JP,B1) G.G.Gawrilov,“Chem ical(Electroless)Ni ckel−Plating”(1979)Po rtcullis Press Ltd. (英)P.46,P.151,P.160
Claims (2)
- 【請求項1】金属塩、錯化剤、還元剤として次亜リン酸
塩を含有し、かつ界面活性剤が添加されていると共に、
水不溶性複合粒子又は繊維が分散されてなる無電解複合
めっき浴にジエチルアミン又は硫酸アンモニウムを添加
してなることを特徴とする無電解複合めっき浴。 - 【請求項2】請求項1記載の無電解複合めっき浴中に被
めっき物を浸漬して、該被めっき物に水溶性複合粒子又
は繊維が共析分散した無電解複合めっき皮膜を形成する
ことを特徴とする無電解複合めっき方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63204576A JPH06104903B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | 無電解複合めっき浴及びめっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63204576A JPH06104903B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | 無電解複合めっき浴及びめっき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0254775A JPH0254775A (ja) | 1990-02-23 |
JPH06104903B2 true JPH06104903B2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=16492755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63204576A Expired - Lifetime JPH06104903B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | 無電解複合めっき浴及びめっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06104903B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2826959B2 (ja) * | 1994-08-08 | 1998-11-18 | テクノロール株式会社 | 印刷装置 |
WO2006085669A1 (en) | 2005-02-08 | 2006-08-17 | Fujifilm Corporation | Metallic pattern forming method, metallic pattern obtained thereby, printed wiring board using the same, and tft wiring board using the same |
JP4606894B2 (ja) * | 2005-02-08 | 2011-01-05 | 富士フイルム株式会社 | 金属パターン形成方法、金属パターン及びそれを用いたプリント配線板並びにtft配線回路 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS526252A (en) * | 1975-07-01 | 1977-01-18 | Kazuo Fujita | Collapsible-type stage device. |
FR2590595B1 (fr) * | 1985-11-22 | 1988-02-26 | Onera (Off Nat Aerospatiale) | Bain a l'hydrazine pour le depot chimique de nickel et/ou de cobalt, et procede de fabrication d'un tel bain. |
-
1988
- 1988-08-19 JP JP63204576A patent/JPH06104903B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
G.G.Gawrilov,"Chemical(Electroless)Nickel−Plating"(1979)PortcullisPressLtd.(英)P.46,P.151,P.160 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0254775A (ja) | 1990-02-23 |
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