JPS6367521B2 - - Google Patents

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JPS6367521B2
JPS6367521B2 JP59125753A JP12575384A JPS6367521B2 JP S6367521 B2 JPS6367521 B2 JP S6367521B2 JP 59125753 A JP59125753 A JP 59125753A JP 12575384 A JP12575384 A JP 12575384A JP S6367521 B2 JPS6367521 B2 JP S6367521B2
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JP
Japan
Prior art keywords
silver
copper powder
coated copper
ethylenediaminetetraacetic acid
edta
Prior art date
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Expired
Application number
JP59125753A
Other languages
English (en)
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JPS613802A (ja
Inventor
Nobuaki Komasa
Kamyoshi Yugawa
Takeo Moro
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP59125753A priority Critical patent/JPS613802A/ja
Publication of JPS613802A publication Critical patent/JPS613802A/ja
Publication of JPS6367521B2 publication Critical patent/JPS6367521B2/ja
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  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、銀被覆銅粉の製造法に関するもので
ある。更に詳しくは、導電性に優れ且つ耐酸化性
が極めて優れた銀被覆銅粉の安価な製造法に関す
るものである。 従来より、銀粉、銅粉、ニツケル粉等の導電フ
イラーを合成樹脂バインダー中に分散させ導電性
塗料とし、塗布後その塗膜に導電性を付与する事
は知られている。 導電フイラーとして銀粒子を使用した場合、そ
の塗膜は導電性に優れ、且つ耐酸化性があり、耐
久性もあるが、銀は価格が高く資源的にも問題が
ある。 一方銅粉を使用する場合は、銅は価格が安く初
期の導電性は良好であるが、酸化劣化により導電
性が低下し耐久性に問題がある。 従来よりかかる銅粉の欠点を改良する為、銅粉
表面に銀を被覆し、安価で導電性に優れ、而も耐
久性のある導電フイラーを製造しようとする試み
が種々なされて来た。 例えば、特公昭47−3019号公報の如く、銀シア
ン化物を使用し銅表面に銀を析出させる方法があ
る。この方法では毒性の高いアルカリ金属シアン
化物を高濃度で使用する為、作業環境等に於いて
問題が多い。 又、硝酸銀、アンモニア水及びチオ硫酸ナトリ
ウムを使用し置換メツキ法により銀を銅粉上に析
出させる方法、或いはブドウ糖を還元剤として銀
を銅粉上に析出させる方法等が提案されている
が、これらの方法により製造された銀被覆銅粉の
導電性は十分高いものとは言えない。 更に又、特公昭57−59283号公報の如く、硝酸
銀、炭酸アンモニウム及びエチレンジアミン四酢
酸三ナトリウム塩を使用する方法で製造された銀
被覆銅粉の導電性は良好であるが、耐湿性が良好
でなく、従つて経時的な酸化安定性は十分なもの
と言えない。 本発明者等は上述の問題に鑑み、これらを解決
すべく鋭意検討した結果、硝酸銀、アンモニア水
及びエチレンジアミン四酢酸のナトリウム塩を主
成分とする銀錯塩溶液が、取扱い時の作業環境に
於ける毒性が少なく、価格も安く導電性に優れ、
且つ僅かの銀被覆量でも、耐熱性、耐湿性に優
れ、極めて酸化安定性の高い銀被覆銅粉を与える
という事実を見出し、本発明を完成するに至つ
た。 即ち、本発明は硝酸銀、アンモニア水及びエチ
レンジアミン四酢酸のナトリウム塩を主成分とす
る銀錯塩溶液を使用し銅粉の表面に金属銀を置換
析出させる事により、導電性に優れ、酸化安定性
に極めて優れる銀被覆銅粉の経済性に優れた製造
法を提供するものである。 本発明のエチレンジアミン四酢酸のナトリウム
塩(以下EDTA・nNaと略称する)とは一般に
市販されているエチレンジアミン四酢酸二ナトリ
ウム塩二水和物(以下EDTA・2Naと略称す
る)、エチレンジアミン四酢酸三ナトリウム塩三
水和物(以下EDTA・3Naと略称する)、エチレ
ンジアミン四酢酸四ナトリウム塩四水和物(以下
EDTA・4Naと略称する)である。 又、アンモニア水は通常25〜30W/V%の濃度
のものが使用されるが、これに限定されるもので
はない。 導電性に優れ、且つ酸化安定性に優れる銀被覆
銅粉を製造する為めの硝酸銀、EDTA・nNa及
びアンモニア水中のアンモニアの各モル比は、硝
酸銀1モルに対してEDTA・nNa1〜15モル、ア
ンモニア5〜90モルが好ましい。 EDTA・nNaが1モルより少ない場合、得ら
れる銀被覆銅粉を使用した塗料の塗膜の導電性は
低下する傾向にある。又、EDTA・nNa量を増
大しても得られる銀被覆銅粉の導電性はあまり上
昇しない。 アンモニアのモル比が5モルより少ない場合、
得られる銀被覆銅粉の酸化安定性は不良で、90モ
ルより多い場合は導電性が低下する傾向にある。 従つて、更に好ましい銀錯塩溶液の組成は硝酸
銀1モルに対しEDTA・nNa1〜5モル、アンモ
ニア10〜50モルである。 前述の如く、特公昭57−59283号公報の硝酸銀、
炭酸アンモニウム及びEDTA・3Naによつて製
造された銀被覆銅粉の導電性は良好ではあるが、
酸化安定性は十分なものと言えない。 而も、EDTA・3Naの代わりにEDTA・2Na
或いはEDTA・4Naを使用した場合も同様に導
電性は良好であるが、酸化安定性は十分なものと
は言えない。 然るに、本発明の硝酸銀、EDTA・nNa及び
アンモニア水を上述の組成で使用する事により導
電性に優れ、且つ酸化安定性に優れた銀被覆銅粉
を容易に製造する事が出来る。 銅粉は電解銅粉、噴霧銅粉、還元銅粉、搗砕銅
粉等何れでも良く、又銅粉の形状も形状、偏平
状、樹枝状、針状等何れでも良い。 更に、銅粉の大きさも特に限定されるものでは
ない。 銀被覆銅粉の銅と銀の比率は特に制限はない
が、銀被覆量が多くなると価格が高くなるので好
ましくない。 本発明で製造した銀被覆銅粉はその銀被覆量が
約1wt%と僅かであつても、塗料化後の塗膜は良
好な導電性を有し、且つ極めて優れた耐久性を有
する等その工業的価値は高いものである。 以下、本発明の実施例並びに比較例を示して、
更に本発明を詳しく説明する。 実施例 1 銅粉(福田金属箔製、CE1110)40gをアルカ
リ水溶液による脱脂処理及び希硫酸による酸化被
膜除去処理後、蒸溜水(以下水と略称する)100
mlを加えて400rpmで撹拌しながら室温で、下記
組成の銀錯塩溶液を5分間で滴下し、更に1時間
撹拌を続け銀被覆銅粉を得た。 銀錯塩溶液の組成 硝酸銀 0.6g EDTA・2Na 4.0g アンモニア水(濃度29W/V%) 5.0g 水 100ml この銀被覆銅粉を洗浄水のPHが7になるまで洗
浄した後、50℃で真空乾燥した。銀被覆銅粉の収
量は38.8gで、銀含有量は1.02wt%であつた。 この銀被覆銅粉30gと下記組成のポリメチルメ
タクリレート溶液75gを、ホモジナイザーを使用
して3000rpmで30分間混合して塗料を製造し、
ABS板に50μmの膜厚に塗布した。 ポリメチルメタクリレート溶液組成 ポリメチルメタクリレート 10wt% トルエン 40wt% メチルエチルケトン 18.8wt% 酢酸ブチル 31.2wt% 得られた塗膜の表面抵抗は50μmの厚さで0.10
Ω/□であり、良好な導電性を示した。 更に、この塗膜の耐久性を調べる為、70℃、相
対湿度93%の恒温恒湿槽中に試料を20日間放置
後、塗膜の表面抵抗を測定したところ、0.13Ω/
□で僅かしか変化しなかつた。 又、85℃の恒温槽中に20日間放置後の表面抵抗
も0.11Ω/□で僅かしか変化しておらず、優れた
耐久性を示した。 実施例 2〜5 実施例1と同様にして脱脂処理及び酸化被膜除
去処理を施した銅粉40gに、水100mlを加え
400rpmで撹拌しながら室温で、硝酸銀、
EDTA・nNa及びアンモニア水(濃度29W/V
%)を水100ml溶解した表1の銀錯塩溶液を5分
間で滴下し、更に1時間撹拌後実施例1と同様に
して銀被覆銅粉を得た。 得られた銀被覆銅粉を実施例1と同様にして塗
料化し、塗膜の表面抵抗及び耐久性を測定した。
結果を表1に示す。 比較例 1 実施例1と同様にして、表1の銀錯塩溶液を使
用して銀被覆銅粉を製造した。 塗膜の導電性は良好であつたが、耐湿性及び耐
熱性が劣つていた。結果を表1に示す。 比較例 2〜3 表1に示した組成の銀錯塩溶液の調製を試みた
が、白色沈澱物が生成し均一な銀錯塩溶液は得ら
れなかつた。 比較例 4 実施例1と同様にして表1の銀錯塩溶液を使用
して銀被覆銅粉を製造した。実施例1〜5と比較
して塗膜の表面抵抗値は高い値を示した。結果を
表1に示す。 比較例 5 (特公昭57−59283号公報の追試) 実施例1と同様にして脱脂処理及び酸化被膜除
去処理を施した銅粉40gに、水150mlを加え
400rpmで撹拌しながら室温で、硝酸銀0.75g、
炭酸アンモニウム3.1g及びEDTA・3Na3.5gを
水50mlに溶解した溶液を5分間で滴下し、更に1
時間撹拌後、実施例1と同様にして銀被覆銅粉を
得た。銀含有量は1.29wt%であつた。 得られた銀被覆銅粉を実施例1と同様にして塗
料化し、塗膜の表面抵抗を測定したところ、50μ
m厚さで0.24Ω/□であつた。 更に、この塗膜の耐湿性を調べる為、70℃、相
対湿度93%の恒温恒湿槽中に試料を放置したとこ
ろ、塗膜の表面抵抗値は6日後には既に50%増加
していた。 比較例 6 実施例1と同様にして脱脂処理及び酸化被膜除
去処理を施した銅粉40gに、水100mlを加え
400rpmで撹拌しながら室温で、硝酸銀0.75g、
炭酸アンモニウム3.1g及びEDTA・2Na3.5gを
水100mlに溶解した溶液を5分間で滴下し、更に
1時間撹拌後、実施例1と同様にして銀被覆銅粉
を得た。銀含有量は1.32wt%であつた。 得られた銀被覆銅粉を実施例1と同様にして塗
料化し、塗膜の表面抵抗を測定したところ、50μ
m厚さで0.23Ω/□であつた。 又、70℃、相対湿度93%の恒温恒湿槽中に試料
を20日間放置したところ、塗膜の表面抵抗値は60
%増加していた。 比較例 7 硝酸銀3.5gを水60mlに溶解し、アンモニア水
(濃度29W/V%)を3ml加えた。 この溶液に水酸化ナトリウム2.54gを水60mlに
溶解した溶液を加えた後、更にアンモニア水(濃
度29W/V%)3.5mlを加え無色透無な均一溶液
を得た。この溶液をA液とする。 又、ブドウ糖22.5g及び酒石酸2gを水500ml
に溶解した溶液を加熱し10分間煮沸した後室温に
戻した。この溶液をB液とする。 実施例1と同様にして脱脂処理及び酸化被膜除
去処理を施した銅粉50gに、水100mlを加え撹拌
しながら室温で、A液とB液それぞれ125mlを混
合後直ちに1分間以内で添加した。 更に1時間撹拌後、実施例1と同様にして銀被
覆銅粉を得た。銀含有量は4.3wt%であつた。 実施例1と同様にして塗料化し、塗膜の表面抵
抗を測定したところ、50μmの厚さで0.37Ω/□
であつた。本発明に比し銀含有量が多いにもかか
わらず導電性は劣つている。 比較例 8 実施例1と同様にして脱脂処理及び酸化被膜除
去処理を施した銅粉50gに、水100mlを加え
400rpmで撹拌しながら室温で、硝酸銀2.46g、
アンモニア水(濃度29W/V%)25ml及びチオ硫
酸ナトリウム35gを水200mlに溶解した溶液を5
分間で滴下し、更に1時間撹拌後、実施例1と同
様にして銀被覆銅粉を得た。銀含有量は3.0wt%
であつた。 得られた銀被覆銅粉を実施例1と同様にして塗
料化し、塗膜の表面抵抗を測定したところ50μm
の厚さで1.5Ω/□と極めて導電性が不良であつ
た。 【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 硝酸銀、アンモニア水及びエチレンジアミン
    四酢酸のナトリウム塩を主成分とする銀錯塩溶液
    を使用して金属銅粉の表面に金属銀を置換析出さ
    せる事を特徴とする銀被覆銅粉の製造法。 2 エチレンジアミン四酢酸のナトリウム塩がエ
    チレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩、エチレン
    ジアミン四酢酸三ナトリウム塩及びエチレンジア
    ミン四酢酸四ナトリウム塩からなる群より選ばれ
    る事を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製
    造法。
JP59125753A 1984-06-19 1984-06-19 銀被覆銅粉の製造法 Granted JPS613802A (ja)

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JP59125753A JPS613802A (ja) 1984-06-19 1984-06-19 銀被覆銅粉の製造法

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JP59125753A JPS613802A (ja) 1984-06-19 1984-06-19 銀被覆銅粉の製造法

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JPS613802A JPS613802A (ja) 1986-01-09
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JP2832247B2 (ja) * 1990-07-24 1998-12-09 三井金属鉱業株式会社 銀被覆銅粉の製造方法
US5630933A (en) * 1995-07-14 1997-05-20 Lucent Technologies Inc. Processes involving metal hydrides
HK1093002A2 (en) * 2006-11-16 2007-02-16 Jing Li Fang Alkalescent chemical silver plating solution
CN103752842A (zh) * 2013-11-11 2014-04-30 南京工业大学 置换与化学沉积复合法制备纳米银包铜粉末

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