JPH0250992B2 - - Google Patents

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JPH0250992B2
JPH0250992B2 JP59096144A JP9614484A JPH0250992B2 JP H0250992 B2 JPH0250992 B2 JP H0250992B2 JP 59096144 A JP59096144 A JP 59096144A JP 9614484 A JP9614484 A JP 9614484A JP H0250992 B2 JPH0250992 B2 JP H0250992B2
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ammonium carbonate
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Nobuaki Komasa
Kamyoshi Yugawa
Takeo Moro
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Nissan Chemical Corp
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Nissan Chemical Corp
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073Shielding materials
    • H05K9/0081Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
    • H05K9/0083Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising electro-conductive non-fibrous particles embedded in an electrically insulating supporting structure, e.g. powder, flakes, whiskers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/17Metallic particles coated with metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/42Coating with noble metals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/482Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
    • H01L23/4827Materials
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    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、銀被覆銅粉の製造方法に関するもの
である。更に詳しくは、導電性に優れ且つ耐酸化
性に極めて優れた銀被覆銅粉の安価な製造方法に
関するものである。 従来より、銀粉、銅粉、ニツケル粉等の導電フ
イラーを合成樹脂バインダー中に分散させ導電性
塗料とし、塗布後その塗膜に導電性を付与する事
は知られている。 導電フイラーとして銀粒子を使用した場合、そ
の塗膜は導電性に優れ、且つ耐酸化性があり、耐
久性もあるが、銀は価格が高く資源的にも問題が
ある。 一方銅粉を使用する場合は、銅は価格が安く初
期の導電性は良好であるが、酸化劣化により導電
性が低下し耐久性に問題がある。 従来よりかかる銅粉の欠点を改良する為、、銅
粉表面に銀を被覆し、安価で導電性に優れ、而も
耐久性のある導電フイラーを製造しようとする試
みが種々なされて来た。 例えば、特公昭47−3019号公報の如く、銀シア
ン化物を使用し銅表面に銀を析出させる方法があ
る。この方法では毒性の高いアルカリ金属シアン
化物を高濃度で使用する為、作業環境等に於いて
問題が多い。 又、硫酸銀、アンモニア水及びチオ硫酸ナトリ
ウムを使用し置換メツキ法により銀を銅粉上に析
出させる方法、或いはブドウ糖を還元剤として銀
を銅粉上に析出させる方法等が提案されている
が、これらの方法により製造された銀被覆銅粉の
導電性は充分高いものとは言えない。 更に又、特公昭57−59283号公報の如く、硝酸
銀、炭酸アンモニウム及びエチレンジアミン4酢
酸3ナトリウム塩を使用する方法で製造された銀
被覆銅粉の導電性は良好であるが、耐湿性が十分
でなく、従つて経時的な酸化安定性は十分なもの
と言えない。 本発明者等は上述の問題に鑑み、これらを解決
すべく鋭意検討した結果、銀塩、炭酸アンモニウ
ム塩及びアンモニア水を主成分とする銀錯塩溶液
が取扱い時の作業環境に於ける毒性が少なく、価
格も安く導電性に優れ、且つ僅かの銀被覆量で
も、耐熱性、耐湿性に優れ、極めて酸化安定性の
高い銀被覆銅粉を与えるという事実を見出し、本
発明を完成するに至つた。 即ち、本発明は銀塩、炭酸アンモニウム塩及び
アンモニア水を主成分とする銀錯塩溶液を使用し
銅粉の表面に金属銀を置換析出させる事により導
電性に優れ、酸化安定性に極めて優れる銀被覆銅
粉の経済性に優れた製造方法を提供するものであ
る。 本発明の銀塩は硝酸銀、炭酸銀硫酸銀及び酸化
銀の1種又は2種以上の組合せから選ばれる塩で
あり、炭酸アンモニウム塩は炭酸アンモニウム及
び炭酸水素アンモニウムの1種又はその組合せか
ら選ばれる塩である。又アンモニア水は通常25〜
30W/V%の濃度のものが使用されるが、これに
限定されるものではない。 炭酸アンモニウム塩とアンモニア水中のアンモ
ニアのモル比は、炭酸アンモニウム塩として炭酸
アンモニウムを使用する場合は0.1〜3が好まし
く、更に好ましくは0.2〜2が良い。 又、炭酸アンモニウム塩として炭酸水素アンモ
ニウムを使用する場合は、0.1〜6が好ましく、
更に好ましくは0.2〜4が良い。 炭酸アンモニウム塩とアンモニア水中のアンモ
ニアのモル比が上記の範囲外の組成に於いて銅粉
表面に銀被覆を行つた場合、得られた銀被覆銅粉
を使用して塗料化し塗布後の塗膜の導電性が低下
する事があり、炭酸アンモニウム塩とアンモニア
水中のアンモニアのモル比は上記範囲内の組成と
する事が望ましい。 本発明の銅粉を銀被覆する方法には、銅粉を水
に懸濁させ銀錯塩溶液を滴下する方法、銅粉をア
ンモニア水に懸濁させ銀錯塩溶液を滴下する方
法、銅粉を炭酸アンモニウム塩水溶液に懸濁させ
銀錯塩溶液を滴下する方法等があり、その何れを
も使用出来る。但し銀塩はアンモニア性溶液に均
一に溶解した状態で使用する事が望ましい。 銀塩の種類が異なれば、アンモニア性溶液に対
する銀塩の溶解性は異なつて来る。従つて、銀塩
の量が炭酸アンモニウム塩とアンモニア水の量に
比べて比較的少ない場合は容易に均一溶液になる
が、銀塩の量が多くなるにつれて銀塩はアンモニ
ア水に溶解し難くなる。 それ故、炭酸アンモニウム塩とアンモニア水は
銀塩に対して過剰に用いる事が望ましい。 銅粉は電解銅粉、噴霧銅粉、還元銅粉、搗砕銅
粉等何れでも良く、又銅粉の形状も球状、偏平
状、樹枝状、針状等何れでも良い。 更に、銅粉の大きさも特に限定されるものでは
ない。 銀被覆銅粉の銅と銀の比は特に制限はないが、
銀被覆量が多くなると価格が高くなるので好まし
くない。 本発明で製造した銀被覆銅粉はその銀被覆量が
約1wt%を僅かであつても、塗料化後の塗膜は良
好な導電性を有し、且つ極めて優れた耐久性を有
する等その工業的価値は高いものである。 以下、本発明の実施例並びに比較例を示して、
更に本発明を詳しく説明する。 実施例 1 銅粉(福田金属箔製、CE1110)60gをアルカ
リ水溶液による脱脂処理及び希硫酸による酸化被
膜除去処理後、蒸溜水(以下水と略称する)150
mlを加えて400rpmで撹拌しながら室温で、下記
組成の銀錯塩溶液を5分間で滴下し、更に1時間
撹拌を続け銀被覆銅粉を得た。 銀錯塩溶液の組成 硝酸銀 12.5g 炭酸アンモニウム 20.0g アンモニア水(濃度29W/v%)20.0g 水 100ml この銀被覆銅粉を洗浄水のPHが7になるまで洗
浄した後、50℃で真空乾燥した。銀被覆銅粉の収
量は63.5gで、銀含有量は12.5wt%であつた。 この銀被覆銅粉30gと下記組成のポリメチルメ
タクリレート溶液75gを、ホモジナイザーを使用
して3000rpmで30分間混合して塗料を製造し、
ABS板に50μmの膜厚に塗布した。 ポリメチルメタクリレート溶液組成(重量比) ポリメチルメタクリレート 10% トルエン 40% メチルエチルケトン 18.8% 酢酸ブチル 31.2% 得られた塗膜の表面抵抗は50μmの厚さで0.05
Ω/□であり、良好な導電性を示した。 更に、この塗膜の耐久性を調べる為、70℃、相
対湿度93%の恒温恒湿槽中に試料を20日間放置
後、塗膜の表面抵抗を測定したところ、全く変化
がなかつた。 又、85℃の恒温槽中に20日間放置後の表面抵抗
は全く変化しておらず、優れた耐久性を示した。 実施例 2〜11 実施例1と同様にして処理した銅粉40gに、水
100mlを加え400rpmで撹拌しながら室温で、銀
塩、炭酸アンモニウム塩及びアンモニア水(濃度
29w/v%)を水100mlに溶解した表1及び表2
の銀錯塩溶液を5分間で滴下し、更に1時間撹拌
後実施例1と同様にして銀被覆銅粉を得た。 得られた銀被覆銅粉を実施例1と同様にして塗
料化し、塗膜の表面抵抗及び耐久性を測定した。
結果を表1及び表2に示す。 比較例 1〜2 実施例2と同様にして、表1の銀錯塩溶液を使
用して銀被覆銅粉を製造した。 、塗膜の表面抵抗は実施例2〜11に比し表1の如
く高い値を示した。 比較例 3 硝酸銀3.5gを水60mlに溶解し、アンモニア水
(濃度29w/v%)を3ml加えた。 この溶液に水酸化ナトリウム2.54gを水60mlに
溶解した溶液を加えた後、更にアンモニア水(濃
度29w/v%)3.5mlを加え無色透明な均一溶液
を得た。この溶液をA液とする。 又、ブドウ糖22.5g及び酒石酸2gを水500ml
に溶かした溶液を加熱し10分間煮沸した後室温に
戻した。この溶液をB液とする。 実施例1と同様にして処理した銅粉50gに水
100mlを加え撹拌しながら室温で、A液とB液そ
れぞれ125mlを混合後直ちに1分間以内で添加し
た。更に1時間撹拌後、実施例1と同様にして銀
被覆銅粉を得た。この銀被覆銅粉の銀含有量は
4.3wt%であつた。 実施例1と同様にして塗料化し、塗膜の表面抵
抗を測定したところ、50μmの膜厚で0.37Ω/□
であつた。本発明に比し銀含有量が多いにもかか
わらず導電性は劣つている。 比較例 4(特公昭57−59283号公報の追試) 実施例1と同様にして処理した銅粉40gに水
150mlを加えて400rpmで撹拌しながら室温で、硝
酸銀0.75g、炭酸アンモニウム3.1g及びエチレ
ンジアミン4酢酸3ナトリウム塩3.5gを水50ml
に溶解した溶液を5分間で滴下し、更に1時間撹
拌後、実施例1と同様にして銀被覆銅粉を得た。
銀含有量は1.29wt%であつた。 実施例1と同様にして塗料化し、塗膜の表面抵
抗を測定したところ、50μmの膜厚で表面抵抗は
0.24Ω/□であつた。 又耐湿性を調べる為、70℃、相対湿度93%の恒
温恒湿槽に放置したところ、塗膜の表面抵抗は6
日後には既に50%増加していた。 比較例 5 実施例1と同様にして処理した銅粉50gに水
100mlを加えて400rpmで撹拌しながら室温で、硝
酸銀2.46g、アンモニア水(濃度29w/v%)25
ml及びチオ硫酸ナトリウム35gを水200mlに溶解
した溶液を5分間で滴下し、更に1時間撹拌後、
実施例1と同様にして銀被覆銅粉を得た。銀含有
量は3.00wt%であつた。 実施例1同様にして塗料化し、塗膜の表面抵抗
を測定したところ50μmの塗膜で表面抵抗は1.5
Ω/□と極めて導電性の悪い値であつた。
【表】
【表】
【表】 *、**、***は表1と同一

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 銀塩、炭酸アンモニウム塩及びアンモニア水
    を必須構成成分とする銀錯塩溶液を用いて金属銅
    粉の表面に金属銀を置換析出させることを特徴と
    する銀被覆銅粉の製造方法。 2 銀塩が硝酸銀、炭酸銀、硫酸銀及び酸化銀の
    1種又は2種以上であることを特徴とする特許請
    求範囲第1項記載の製造方法。 3 炭酸アンモニウム塩が炭酸アンモニウム及
    び/又は炭酸水素アンモニウムであることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
JP59096144A 1984-05-14 1984-05-14 銀被覆銅粉の製造方法 Granted JPS60243277A (ja)

Priority Applications (2)

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JP59096144A JPS60243277A (ja) 1984-05-14 1984-05-14 銀被覆銅粉の製造方法
US06/731,402 US4652465A (en) 1984-05-14 1985-05-07 Process for the production of a silver coated copper powder and conductive coating composition

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JPS60243277A JPS60243277A (ja) 1985-12-03
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