JPH0597883A - インドール誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】本発明は、一般式 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基又ハロゲン原子を、Ｒ² は水素原子、低級アルキ
ル基、シクロアルキル基又はハロゲン原子で置換される
ことのあるフェニル基を、Ｒ³ 及びＲ⁴ は同一又は異な
って水素原子又は低級アルキル基を、Ｒ⁵ は水素原子又
はフェニル低級アルキル基をそれぞれ示す。］で表わさ
れるインドール誘導体を提供するものである。 【効果】本発明誘導体は、高脂質血症治療剤や糖尿治療
剤等の医薬品として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なインドール誘導体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明のインドール誘導体は文献未載の
新規化合物である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は後記するよう
に医薬品として有用な化合物の提供を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば下記一般
式（１）で表わされるインドール誘導体が提供される。

【０００５】

【化２】

【０００６】［式中、Ｒ¹ は水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基又ハロゲン原子を、Ｒ² は水素原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基又はハロゲン原
子で置換されることのあるフェニル基を、Ｒ³ 及びＲ⁴
は同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基を、Ｒ
⁵ は水素原子又はフェニル低級アルキル基をそれぞれ示
す。］上記一般式（１）の各基としては、具体的にはそ
れぞれ次の各基を例示できる。

【０００７】即ち、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。

【０００８】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示でき
る。

【０００９】シクロアルキル基としては、例えばシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等を例示でき
る。

【００１０】ハロゲン原子で置換されることのあるフェ
ニル基としては、フェニル基の他に例えば４−フルオロ
フェニル、３−フルオロフェニル、２−フルオロフェニ
ル、２，４−ジフルオロフェニル、４−クロロフェニ
ル、２，４−ジクロロフェニル、４−ブロムフェニル、
２，４−ジブロムフェニル、４−ヨードフェニル、２，
４−ジヨードフェニル基等を例示できる。

【００１１】フェニル低級アルキル基としては、例えば
ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、
３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェ
ニルペンチル、６−フェニルヘキシル基等を例示でき
る。

【００１２】ハロゲン原子には、弗素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子が包含される。

【００１３】上記一般式（１）で表わされる本発明のイ
ンドール誘導体は、優れた脂質低下作用及び血糖降下作
用を有しており、高脂質血症治療剤や糖尿治療剤等の医
薬品として有用である。

【００１４】本発明のインドール誘導体は、各種の方法
により製造できる。その具体例を下記反応工程式に示
す。

【００１５】

【化３】

【００１６】［式中Ｒ¹ 及びＲ² は前記に同じ。Ｒ^3aは
低級アルキル基を、Ｘはハロゲン原子を示す。］上記反
応工程式−１に示すベンジルハライド誘導体（２）とト
リアルキルホスファイト（３）との反応は、例えば低級
アルコール類、芳香族ないし脂肪族炭化水素類、ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）等の不活性溶媒中でも行われ
るが、通常無溶媒で行うのが好ましい。化合物（３）の
使用量は、化合物（２）に対して等モル〜５倍モル量と
するのがよい。反応温度は１３０〜１８０℃が好まし
く、化合物（２）の種類により異なるが、通常０．５〜
３時間程度で反応は終了する。

【００１７】次に、得られた化合物（４）とフェニルヒ
ドラジン誘導体（５）を、酢酸、プロピオン酸等の不活
性溶媒中で加熱処理することにより、化合物（１）を得
ることができる。この反応は、８０℃〜溶媒の沸点の温
度条件下、約０．５〜５時間を要して行われる。

【００１８】

【化４】

【００１９】［式中Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ^3a及びＲ⁴ は
前記に同じ。Ｙはハロゲン原子を示す。］上記反応工程
式−２に示す化合物（６）とアニリン誘導体（７）との
反応は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチル
アニリン、ピリジン等の不活性溶媒中、室温〜還流温度
の条件下、約０．５〜５時間を要して行われる。アニリ
ン誘導体（３）の使用量は、化合物（２）に対して１〜
１０倍モル量とするのがよく、かくして目的化合物（１
ｂ）を得ることができる。

【００２０】

【化５】

【００２１】［式中Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及びＲ⁴ は前記に
同じ。Ｒ^5aはフェニル低級アルキル基を、Ｚはハロゲン
原子を示す。］上記反応工程式−３に示すように、化合
物（１ｂ）はこれに化合物（８）を反応させることによ
り化合物（１ｃ）に変換することができる。該反応は、
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、ジ
オキサン等の不活性溶媒中、水素化ナトリウム、水素化
カリウム等の塩基の存在下に実施される。化合物（８）
の使用量は、化合物（１ｂ）に対して等モル〜少過剰
量、また上記塩基の使用量は、化合物（１ｂ）に対して
１〜５倍モル量とするのがよく、反応は０℃〜室温で約
１〜１０時間を要して行われる。

【００２２】尚、上記反応工程式−１において原料とし
ては用いる化合物（２）は、公知化合物及び新規化合物
の両者を包含し、之等は例えば下記反応工程式−４に示
す法により製造することができる。

【００２３】

【化６】

【００２４】［式中Ｒ² 及びＸは前記に同じ。］上記反
応行程式−４に示すように、化合物（９）をトルエンと
フリーデルクラフツ反応させた後、得られる化合物（１
０）をハロゲン化することにより、化合物（２）を収得
できる。該フリーデルクラフツ反応は、ルイス酸の存在
下、不活性溶媒中、０℃〜室温の温度条件下に１〜１０
時間程度を要して行われる。ルイス酸としては例えば、
無水塩化アルミニウム、無水臭化アルミニウム、無水塩
化鉄（III ）、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化亜鉛、
三弗化ホウ素ジエチルエーテル錯体、無水三塩化ホウ素
等が挙げられる。不活性溶媒としては、ジクロロメタ
ン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類、ニトロベンゼン、二硫化炭素等を使用で
きる。該反応においては、ルイス酸として無水ハロゲン
化アルミニウムを使用するのが好ましく、該ハロゲン化
アルミニウムは化合物（９）に対して１．５〜３．０倍
モル量程度用いるのがよい。また、上記化合物（１０）
のハロゲン化反応は、例えばベンゼン、四塩化炭素等の
不活性溶媒中、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロ
ニトリル（ＡＩＢＮ）、tert−ブチルハイドロパーオキ
シド等の触媒の存在下、Ｎ−ブロムコハク酸イミド、Ｎ
−クロルコハク酸イミド、臭素等のハロゲン化剤を用い
て実施できる。之等ハロゲン化剤の使用量は、化合物
（１０）に対して通常等モル量〜１．１倍モル量程度と
され、反応は一般に約５０℃〜溶媒の沸点の加熱条件
下、約５〜２０時間程度を要して行われる。

【００２５】また、上記反応工程式−２において原料と
して用いる化合物（６）は、例えば下記反応工程式−５
に示す方法により製造することができる。

【００２６】

【化７】

【００２７】［式中、Ｒ^3a及びＹは前記に同じ。］反応
工程式−１における化合物（４）のうち、Ｒ² が水素原
子である化合物（４ａ）をハロゲン化することにより、
化合物（６）を得ることができる。ここでハロゲン化剤
としては従来公知の各種のものを広く使用でき、これに
は具体的には臭素、塩素、塩化スルフリル、塩化銅（I
I）、臭化銅（II）、Ｎ−クロロ琥珀酸イミド、Ｎ−ブ
ロモ琥珀酸イミド、ジオキサンジブロミド、テトラブチ
ルアンモニウムトリブロミド、フェニルトリメチルアン
モニウムトリブロミド、ピリジニウムヒドロブロミドペ
ルブロミド、ピリドンヒドロトリブロミド等が包含され
る。之等のうちでは、テトラブチルアンモニウムトリブ
ロミド、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド
等が有利に用いられる。之等のハロゲン化剤の使用量
は、化合物（４ａ）に対して等モル量〜少過剰量の範囲
から選ばれるのが好ましい。反応溶媒としては、用いる
ハロゲン化剤の種類により異なるが、通常、水、メタノ
ール、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
エチルエーテル、ＴＨＦ、酢酸等を用いるのがよい。反
応は、冷却下、室温下及び加熱下のいずれでも進行する
が、通常０℃〜室温の温度条件を採用するのがよく、一
般に０．５〜２０時間程度で終了する。

【００２８】上記それぞれの工程における目的化合物
は、通常の分離手段により容易に単離精製できる。かか
る手段としては例えば、吸着クロマトグラフィー、プレ
パラティブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出
等を例示できる。

【００２９】

【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、本
発明化合物の製造例を実施例として挙げる。

【００３０】

【実施例１】２−（４−ジエトキシホスホリルメチルフ
ェニル）−３−フェニルインドールの製造 ４−ブロモメチルデオキシベンゾイン２８．９ｇ（０．
１モル）を亜リン酸トリエチル４３ｍｌ（０．２５モ
ル）に懸濁させ、１６０℃で１時間加熱攪拌した。過剰
の亜リン酸トリエチルを減圧留去した後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸エ
チル＝１：１で溶出）に付し、４−ジエトキシホスホリ
ルメチルデオキシベンゾインを得た。ベンゼン−ｎ−ヘ
キサンより再結晶して、無色結晶１４．８ｇを得た。ｍ
ｐ９１−９３℃。

【００３１】次に、塩酸フェニルヒドラジン１．５ｇの
酢酸（３０ｍｌ）懸濁液を緩やかに還流させ、そこに上
記で得られた化合物３．５ｇの酢酸（２０ｍｌ）溶液を
ゆっくりと滴下し、続いて２時間加熱還流した。反応終
了後、放冷し、反応混合液を水中に注ぎ込み、ジクロロ
メタンで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、濃縮して得られる残渣をジクロロメタン−ｎ−ヘ
キサンで再結晶して、目的化合物の無色結晶２．２ｇを
得た。ｍｐ１６９−１７１℃ 得られた化合物の構造及び融点を表１に記載する。

【００３２】

【実施例２〜７】実施例１と同様にして、表１に示す各
化合物を製造した。得られた化合物の構造及び融点を表
１に併記する。

【００３３】

【実施例８】３−（２，４−ジクロロフェニル）−２−
（４−ジエトキシホスホリルメチルフェニル）インドー
ルの製造 無水塩化アルミニウム９．８ｇ（７３ミリモル）をトル
エン１００ｍｌに懸濁させ、これに氷冷攪拌下、２，４
−ジクロロフェニルアセチルクロリド１０．９ｇ（４９
ミリモル）をゆっくり滴下し、氷冷下で１時間攪拌した
後、室温で２４時間攪拌した。反応混合物を氷水１５０
ｍｌ中にゆっくりと注ぎ込み、クロロホルムで抽出し、
クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧濃
縮し、残渣をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結
晶して、２′，４′−ジクロロ−４−メチルデオキシベ
ンゾインの無色結晶１２．９ｇを得た。次に、得られた
結晶の５．６ｇ（２０ミリモル）を、Ｎ−ブロムコハク
酸イミド３．９ｇ（２２ミリモル）及び過酸化ベンゾイ
ル５０ｍｇと共に、ベンゼン５０ｍｌ中に懸濁させ、１
２時間加熱還流した。反応混合物中に水１５０ｍｌを加
えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、減圧濃縮して、４−ブロモメチル−
２′，４′−ジクロロデオシベンゾインの粗結晶６．５
ｇを得た。

【００３４】上記で得られた粗結晶を用いて、実施例１
と同様にして目的化合物を得た。このものの構造及び融
点を表１に併記する。

【００３５】

【実施例９】実施例８と同様にして、表１に示す化合物
を製造した。得られた化合物の構造及び物性を表１に併
記する。

【００３６】

【表１】

【００３７】

【実施例１０】２−（４−エトキシホスホリルメチルフ
ェニル）−５−メトキシインドールの製造 ４′−メチルアセトフェノン７４ｇ、Ｎ−ブロムコハク
酸イミド９７．９ｇ及び過酸化ベンゾイル０．０５ｇを
ベンゼン４００ｍｌに加えて１５時間加熱還流した。反
応混合液に水を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、
粗製の４′−ブロムメチルアセトフェノンを得た。次
に、これを亜リン酸トリエチル２００ｍｌと共に、１６
０℃で１時間加熱攪拌した。反応終了後、過剰の亜リン
酸トリエチルを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１：
１）で精製して、油状の４′−ジエトキシホスホリルメ
チルアセトフェノン９７ｇを得た。

【００３８】得られた４′−ジエトキシホスホリルメチ
ルアセトフェノン２４ｇをジクロロメタン１００ｍｌと
メタノール４０ｍｌの混合溶媒に溶解させ、これに室温
攪拌下にフェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド
３３．３ｇを加えた。室温で２０時間攪拌後、反応混合
物中に水２５０ｍｌを加え、クロロホルムで抽出した。
芒硝上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸エチ
ル＝１：２で溶出）に付して、油状の２−ブロモ−４′
−ジエトキシホスホリルメチルアセトフェノン２４．６
ｇを得た。

【００３９】次に、ｐ−アニシジン４．１ｇをＮ，Ｎ−
ジメチルアニリン６ｍｌを溶かして加熱還流し、そこに
上記で得られた２−ブロモ−４′−ジエトキシホスホリ
ルメチルアセトフェノン３．５ｇを滴下して、１時間加
熱還流した。放冷後、希塩酸を加えて酸性とした後、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、目的化合
物０．２ｇを得た。

【００４０】得られた化合物及び ¹Ｈ−ＮＭＲスペクト
ルを表２に記載する。

【００４１】

【実施例１１及び１２】実施例１０と同様にして、表２
に示す各化合物を製造した。得られた化合物の構造及び
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを表２に併記する。

【００４２】

【表２】

【００４３】

【実施例１３】１−ベンジル−２−（４−ジエトキシホ
スホリルメチルフェニル）−３−フェニルインドールの
製造 水素化ナトリウム２１４ｍｇのＴＨＦ（２０ｍｌ）懸濁
中に、実施例１で得られた化合物３．７ｇのＴＨＦ（３
０ｍｌ）溶液を０℃で滴下し、０℃で１時間攪拌した。
そこに、臭化ベンジル７３５ｍｇを０ｇで滴下した後、
室温で２時間攪拌した。反応混合液中に希塩酸をゆっく
り加えて酸性とし、クロロホルムで抽出した。クロロホ
ルム層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１：１）で精製し
て、目的化合物５００ｍｇを得た。

【００４４】 ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）［ＣＤＣｌ₃ ］ １．２０（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ）、３．１４
（ｄ，Ｊ＝２１．８Ｈｚ，２Ｈ）、３．８〜４．１
（ｍ，４Ｈ）、５．２９（ｓ，２Ｈ）、６．９９（ｄ
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，７．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．１−
７．４（ｍ，１５Ｈ）、７．７−７．９（ｍ，１Ｈ）

フロントページの続き (72)発明者 井上 泰秀 徳島県鳴門市大津町矢倉字参の越35市営Ｃ −15 (72)発明者 奈波 智恵子 徳島県鳴門市撫養町南浜字蛭子前東４の４

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
   キシ基又ハロゲン原子を、Ｒ² は水素原子、低級アルキ
   ル基、シクロアルキル基又はハロゲン原子で置換される
   ことのあるフェニル基を、Ｒ³ 及びＲ⁴ は同一又は異な
   って水素原子又は低級アルキル基を、Ｒ⁵ は水素原子又
   はフェニル低級アルキル基をそれぞれ示す。］で表わさ
   れるインドール誘導体。