JPH0585983A - 発色性化合物の製造方法及びその中間体類並びにそれらの製造方法 - Google Patents
発色性化合物の製造方法及びその中間体類並びにそれらの製造方法Info
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- JPH0585983A JPH0585983A JP3268938A JP26893891A JPH0585983A JP H0585983 A JPH0585983 A JP H0585983A JP 3268938 A JP3268938 A JP 3268938A JP 26893891 A JP26893891 A JP 26893891A JP H0585983 A JPH0585983 A JP H0585983A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安全性の高い食用色素の提供。
【構成】 式(V) の化合物と式(IV)の化合物を反応さ
せ、保護基Ｒを脱離させた後、酸化して式(I) の発色性
化合物を製造する。本発明は式(IV)(V)(II) の化合物及
びそれらの製法並びにそれらを製造するための中間体に
も関する。
せ、保護基Ｒを脱離させた後、酸化して式(I) の発色性
化合物を製造する。本発明は式(IV)(V)(II) の化合物及
びそれらの製法並びにそれらを製造するための中間体に
も関する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I) （式中、ｎは０〜２の整数を示す。）で表される発色性
化合物の製造方法及びその中間体並びに中間体の製造方
法に関するものである。
化合物の製造方法及びその中間体並びに中間体の製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来、色素、染料等に用いられる化合物は
数多く製造され、実用化されているが、近年食品等に用
いられる食用色素等は人が直接摂取するため、より安全
性の高い色素が望まれている。
数多く製造され、実用化されているが、近年食品等に用
いられる食用色素等は人が直接摂取するため、より安全
性の高い色素が望まれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、より安
全性の高い色素に関し研究を重ねた結果、紅花を組織培
養して得られた色素の成分である一般式(II)で表される
化合物及びその酸化物である一般式(I) で表される化合
物の有用性を見い出すとともに、それらの工業的な合成
法を確立し、本発明を完成させたものである。
全性の高い色素に関し研究を重ねた結果、紅花を組織培
養して得られた色素の成分である一般式(II)で表される
化合物及びその酸化物である一般式(I) で表される化合
物の有用性を見い出すとともに、それらの工業的な合成
法を確立し、本発明を完成させたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本願発明の一般式(I) で
表される発色性化合物は、例えば下記図式に従って製造
することができる。 （式中、Ｒ、R1、ｎ及びＸは前記に同じくし、R2は低級
アルキル基を示す。）
表される発色性化合物は、例えば下記図式に従って製造
することができる。 （式中、Ｒ、R1、ｎ及びＸは前記に同じくし、R2は低級
アルキル基を示す。）
【０００５】一般式(I) で表される発色性化合物を製造
するには、例えば一般式(XII) で表されるアルデヒド類
と一般式(XI)で表される化合物又は一般式(X) で表され
る化合物を触媒の存在下又は不存在下、塩基及び不活性
溶媒の存在下で反応させて一般式(IX)で表される化合物
を得、該化合物(IX)を単離するか又は単離せずに不活性
溶媒の存在下に還元剤で還元反応を行い、一般式(VIII)
で表される化合物とし、該化合物(VIII)を単離するか又
は単離せずに不活性溶媒の存在下又は不存在下でハロゲ
ン化剤によりハロゲン化反応を行い、一般式(VII) で表
される化合物とし、該化合物(VII) を単離するか又は単
離せずに一般式(VI)で表される化合物と不活性溶媒の存
在下又は不存在下で反応させ、一般式(V) で表される化
合物とし、該化合物(V) を、該化合物(V) と塩基及び過
剰のグリオキサ−ルとの反応で得られる一般式(IV)で表
される化合物と反応させ、一般式(III) で表される化合
物とし、該化合物(III) を単離するか又は単離せずに脱
保護基反応で一般式(II)で表される化合物とし、該化合
物(II)を単離するか又は単離せずに酸化すればよい。
するには、例えば一般式(XII) で表されるアルデヒド類
と一般式(XI)で表される化合物又は一般式(X) で表され
る化合物を触媒の存在下又は不存在下、塩基及び不活性
溶媒の存在下で反応させて一般式(IX)で表される化合物
を得、該化合物(IX)を単離するか又は単離せずに不活性
溶媒の存在下に還元剤で還元反応を行い、一般式(VIII)
で表される化合物とし、該化合物(VIII)を単離するか又
は単離せずに不活性溶媒の存在下又は不存在下でハロゲ
ン化剤によりハロゲン化反応を行い、一般式(VII) で表
される化合物とし、該化合物(VII) を単離するか又は単
離せずに一般式(VI)で表される化合物と不活性溶媒の存
在下又は不存在下で反応させ、一般式(V) で表される化
合物とし、該化合物(V) を、該化合物(V) と塩基及び過
剰のグリオキサ−ルとの反応で得られる一般式(IV)で表
される化合物と反応させ、一般式(III) で表される化合
物とし、該化合物(III) を単離するか又は単離せずに脱
保護基反応で一般式(II)で表される化合物とし、該化合
物(II)を単離するか又は単離せずに酸化すればよい。
【０００６】一般式(III) で表される化合物は、一般式
(V) で表される化合物を塩基の存在下で等モル以下の量
のグリオキサ−ルと反応させることによっても製造する
ことができる。又、一般式(II)で表される化合物は、一
般式(V) で表される化合物を過剰の塩基の存在下でグリ
オキサ−ルと反応させることによっても製造することが
できる。更に別法として一般式(VII) で表される化合物
と一般式(VI') で表される化合物とを反応させて一般式
(V')で表される化合物とし、該化合物(V')をグリオキサ
−ルと反応させることにより一般式(III) で表される化
合物を製造してもよい。本発明の一般式(I) で表される
化合物を製造する際の脱離可能な保護基としては、例え
ばアセチル基、エチルカルボニル基、フェニルカルボニ
ル基、３、５−ジニトロフェニルカルボニル基、メチル
スルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、ベン
ジル基、メトキシメチル基等の基を例示できるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
(V) で表される化合物を塩基の存在下で等モル以下の量
のグリオキサ−ルと反応させることによっても製造する
ことができる。又、一般式(II)で表される化合物は、一
般式(V) で表される化合物を過剰の塩基の存在下でグリ
オキサ−ルと反応させることによっても製造することが
できる。更に別法として一般式(VII) で表される化合物
と一般式(VI') で表される化合物とを反応させて一般式
(V')で表される化合物とし、該化合物(V')をグリオキサ
−ルと反応させることにより一般式(III) で表される化
合物を製造してもよい。本発明の一般式(I) で表される
化合物を製造する際の脱離可能な保護基としては、例え
ばアセチル基、エチルカルボニル基、フェニルカルボニ
ル基、３、５−ジニトロフェニルカルボニル基、メチル
スルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、ベン
ジル基、メトキシメチル基等の基を例示できるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
【０００７】以下に各反応の詳細を示す。 （１）一般式(XII) → 一般式(IX) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニ
トリル類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル、ジグ
ライム、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシド、水等の不活性溶媒を例示すること
ができ、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使
用することができる。本反応では一般式(XI)で表される
ハライド類を使用する場合、塩基の使用は必須となる
が、一般式(X) で表される酸無水物を使用する場合、塩
基の使用は必須ではない。本反応で使用できる塩基とし
ては無機塩基又は有機塩基を使用することができ、例え
ば水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシ
ウム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基
を使用することができ、これらの塩基の使用量は一般式
(XII) で表されるアルデヒド類に対して等モル乃至過剰
モルの範囲で使用することができる。本反応では触媒の
存在下又は不存在下に行われ、使用できる触媒として
は、例えば酢酸ナトリウム等の有機酸塩を使用すること
ができ、その使用量は等モル以下の量である。本反応は
等モル反応であるので一般式(XII) で表される化合物と
一般式(XI)又は一般式(X) で表される化合物を等モル使
用すればよいが、過剰に使用することもできる。本反応
の反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範
囲から適宜選択すればよい。反応時間は反応規模、反応
温度等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲か
ら選択すればよい。反応終了後、目的物を含む反応系か
ら常法により単離し、必要に応じてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−、再結晶等により精製することにより
目的物を製造することができる。又、反応終了後、目的
物を単離せずに次の反応に供することもできる。
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニ
トリル類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル、ジグ
ライム、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシド、水等の不活性溶媒を例示すること
ができ、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使
用することができる。本反応では一般式(XI)で表される
ハライド類を使用する場合、塩基の使用は必須となる
が、一般式(X) で表される酸無水物を使用する場合、塩
基の使用は必須ではない。本反応で使用できる塩基とし
ては無機塩基又は有機塩基を使用することができ、例え
ば水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシ
ウム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基
を使用することができ、これらの塩基の使用量は一般式
(XII) で表されるアルデヒド類に対して等モル乃至過剰
モルの範囲で使用することができる。本反応では触媒の
存在下又は不存在下に行われ、使用できる触媒として
は、例えば酢酸ナトリウム等の有機酸塩を使用すること
ができ、その使用量は等モル以下の量である。本反応は
等モル反応であるので一般式(XII) で表される化合物と
一般式(XI)又は一般式(X) で表される化合物を等モル使
用すればよいが、過剰に使用することもできる。本反応
の反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範
囲から適宜選択すればよい。反応時間は反応規模、反応
温度等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲か
ら選択すればよい。反応終了後、目的物を含む反応系か
ら常法により単離し、必要に応じてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−、再結晶等により精製することにより
目的物を製造することができる。又、反応終了後、目的
物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【０００８】（２）一般式(IX) → 一般式(VIII) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、水等の不活性溶媒を例示することがで
き、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使用す
ることができる。本反応で使用できる還元剤としては、
例えば水素化ほう素ナトリウム(NaBH4)、水素化アルミ
ニウムナトリウム(NaAlH4)、水素化アルミニウムリチウ
ム（LiAlH4) 等の還元剤を使用することができ、これら
の塩基の使用量は一般式(IX)で表される化合物に対して
約０．５モル使用すればよいが、若干過剰に使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は反応規模、反応温度等
により一定しないが、０℃乃至室温の範囲から適宜選択
すればよい。反応時間は数分乃至４８時間の範囲から選
択すればよい。反応終了後、（１）と同様に精製するこ
とにより目的物を得ることができる。又、反応終了後、
目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、水等の不活性溶媒を例示することがで
き、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使用す
ることができる。本反応で使用できる還元剤としては、
例えば水素化ほう素ナトリウム(NaBH4)、水素化アルミ
ニウムナトリウム(NaAlH4)、水素化アルミニウムリチウ
ム（LiAlH4) 等の還元剤を使用することができ、これら
の塩基の使用量は一般式(IX)で表される化合物に対して
約０．５モル使用すればよいが、若干過剰に使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は反応規模、反応温度等
により一定しないが、０℃乃至室温の範囲から適宜選択
すればよい。反応時間は数分乃至４８時間の範囲から選
択すればよい。反応終了後、（１）と同様に精製するこ
とにより目的物を得ることができる。又、反応終了後、
目的物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【０００９】（３）一般式(VIII) → 一般式(VII) 本反応は不活性溶媒の存在下又は不存在下に行われ、使
用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻
害しない不活性溶媒であればよく、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、
メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル、ジグライム、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル類等の不活
性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単
独で、又は混合して使用することができる。本反応で使
用できるハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭素、三
塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、塩化チオニル、臭
化チオニル等のハロゲン化剤を使用することができ、ハ
ロゲン化剤の使用量は一般式(VIII)で表される化合物に
対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれ
ばよい。本反応の反応温度は０℃乃至室温の範囲から適
宜選択すればよい。反応時間は反応規模、反応温度等に
より一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択す
ればよい。反応終了後、目的物を含む反応系から（１）
と同様に精製することにより目的物を得ることができ
る。又、反応終了後、目的物を単離せずに次の反応に供
することもできる。
用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻
害しない不活性溶媒であればよく、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、
メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル、ジグライム、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル類等の不活
性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単
独で、又は混合して使用することができる。本反応で使
用できるハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭素、三
塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、塩化チオニル、臭
化チオニル等のハロゲン化剤を使用することができ、ハ
ロゲン化剤の使用量は一般式(VIII)で表される化合物に
対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれ
ばよい。本反応の反応温度は０℃乃至室温の範囲から適
宜選択すればよい。反応時間は反応規模、反応温度等に
より一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択す
ればよい。反応終了後、目的物を含む反応系から（１）
と同様に精製することにより目的物を得ることができ
る。又、反応終了後、目的物を単離せずに次の反応に供
することもできる。
【００１０】（４）一般式(VII) → 一般式(V) 本反応は不活性溶媒の存在下又は不存在下に行われ、使
用できる不活性溶媒としては（３）で使用できる不活性
溶媒を使用することができる。本反応は等モル反応であ
るので一般式(VII) で表される化合物と一般式(VI)で表
される化合物を等モル使用すればよいが、いずれかを過
剰に使用することもできる。本反応の反応温度は０℃乃
至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すれ
ばよい。反応時間は反応規模、反応温度等により一定し
ないが、数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。
反応終了後、目的物を含む反応系から（１）と同様に精
製することにより目的物を得ることができる。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。 （５）一般式(VII) → 一般式(V') 本反応は（４）と同様にすることにより製造することが
できる。
用できる不活性溶媒としては（３）で使用できる不活性
溶媒を使用することができる。本反応は等モル反応であ
るので一般式(VII) で表される化合物と一般式(VI)で表
される化合物を等モル使用すればよいが、いずれかを過
剰に使用することもできる。本反応の反応温度は０℃乃
至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すれ
ばよい。反応時間は反応規模、反応温度等により一定し
ないが、数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。
反応終了後、目的物を含む反応系から（１）と同様に精
製することにより目的物を得ることができる。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。 （５）一般式(VII) → 一般式(V') 本反応は（４）と同様にすることにより製造することが
できる。
【００１１】（６）一般式(V) → 一般式(IV) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、水等の不活性溶媒を例示することがで
き、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使用す
ることができる。本反応で使用できる塩基としては無機
塩基又は有機塩基を使用することができ、例えば水素化
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム等の
無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ブチルリチウム等の
有機塩基を使用することができ、これらの塩基の使用量
は一般式(V) で表される化合物に対して等モル乃至過剰
モルの範囲で使用することができ、好ましくは一般式
(V) で表される化合物に対して４倍モル程度使用するの
が良い。本反応では反応剤のグリオキサ−ルを一般式
(V) で表される化合物に対して過剰に使用すればよく、
好ましくは５〜１０倍モル程度使用するのが良い。本反
応で使用するグリオキサ−ルにかえてグリオキサ−ル
トリメリック デハイドレ−トを使用することもでき
る。本反応の反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の
沸点域の範囲から適宜選択すればよい。反応時間は反応
規模、反応温度等により一定しないが、数分乃至４８時
間の範囲から選択すればよい。反応終了後、目的物を含
む反応系から（１）と同様に精製することにより目的物
を得ることができる。又、反応終了後、目的物を単離せ
ずに次の反応に供することもできる。
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、水等の不活性溶媒を例示することがで
き、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合して使用す
ることができる。本反応で使用できる塩基としては無機
塩基又は有機塩基を使用することができ、例えば水素化
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム等の
無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ブチルリチウム等の
有機塩基を使用することができ、これらの塩基の使用量
は一般式(V) で表される化合物に対して等モル乃至過剰
モルの範囲で使用することができ、好ましくは一般式
(V) で表される化合物に対して４倍モル程度使用するの
が良い。本反応では反応剤のグリオキサ−ルを一般式
(V) で表される化合物に対して過剰に使用すればよく、
好ましくは５〜１０倍モル程度使用するのが良い。本反
応で使用するグリオキサ−ルにかえてグリオキサ−ル
トリメリック デハイドレ−トを使用することもでき
る。本反応の反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の
沸点域の範囲から適宜選択すればよい。反応時間は反応
規模、反応温度等により一定しないが、数分乃至４８時
間の範囲から選択すればよい。反応終了後、目的物を含
む反応系から（１）と同様に精製することにより目的物
を得ることができる。又、反応終了後、目的物を単離せ
ずに次の反応に供することもできる。
【００１２】 （７）一般式(V) ＋ 一般式(IV) → 一般式(III) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、水等の不活性溶
媒を例示することができる。 これらの不活性溶媒は単
独で、又は混合して使用することができる。本反応で使
用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用する
ことができ、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウ
ム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基
を使用することができ、これらの塩基の使用量は一般式
(V) で表される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範
囲で使用することができる。本反応は等モル反応である
ので一般式(V) で表される化合物と一般式(IV)で表され
る化合物を等モル使用すればよいが、過剰に使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は０℃乃至使用する不活
性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すればよい。反応時
間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分乃
至４８時間の範囲から選択すればよい。反応終了後、目
的物を含む反応系から（１）と同様にすることにより目
的物を製造することができる。本反応で得られる一般式
(III) で表される化合物はシス／シス、トランス／トラ
ンス、シス／トランスの異性体が存在するがこれらを分
離してもよく、混合物として単離してもよい。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。
を著しく阻害しない不活性溶媒であればよく、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチ
ルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、水等の不活性溶
媒を例示することができる。 これらの不活性溶媒は単
独で、又は混合して使用することができる。本反応で使
用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用する
ことができ、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウ
ム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基
を使用することができ、これらの塩基の使用量は一般式
(V) で表される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範
囲で使用することができる。本反応は等モル反応である
ので一般式(V) で表される化合物と一般式(IV)で表され
る化合物を等モル使用すればよいが、過剰に使用するこ
ともできる。本反応の反応温度は０℃乃至使用する不活
性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すればよい。反応時
間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分乃
至４８時間の範囲から選択すればよい。反応終了後、目
的物を含む反応系から（１）と同様にすることにより目
的物を製造することができる。本反応で得られる一般式
(III) で表される化合物はシス／シス、トランス／トラ
ンス、シス／トランスの異性体が存在するがこれらを分
離してもよく、混合物として単離してもよい。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。
【００１３】（８）一般式(V) → 一般式(III) 本発明で使用できる不活性溶媒としては（６）で使用で
きる不活性溶媒を例示することができる。本反応で使用
できる塩基としては（６）で例示の塩基を使用すること
ができ、これらの塩基の使用量は一般式(V) で表される
化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲で使用するこ
とができ、好ましくは一般式(V) で表される化合物に対
して等モル〜４倍モル程度使用するのが良い。本反応で
は反応剤のグリオキサ−ルを一般式(V) で表される化合
物に対して等モル以下、好ましくは０．５倍モル程度使
用するのが良い。本反応で使用するグリオキサ−ルにか
えてグリオキサ−ル トリメリック ジハイドレ−トを
使用することもできる。本反応の反応温度は０℃乃至使
用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すればよ
い。反応時間は反応規模、反応温度等により一定しない
が、数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。反応
終了後、目的物を含む反応系から（１）と同様に精製す
ることにより目的物を得るすることができる。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。
きる不活性溶媒を例示することができる。本反応で使用
できる塩基としては（６）で例示の塩基を使用すること
ができ、これらの塩基の使用量は一般式(V) で表される
化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲で使用するこ
とができ、好ましくは一般式(V) で表される化合物に対
して等モル〜４倍モル程度使用するのが良い。本反応で
は反応剤のグリオキサ−ルを一般式(V) で表される化合
物に対して等モル以下、好ましくは０．５倍モル程度使
用するのが良い。本反応で使用するグリオキサ−ルにか
えてグリオキサ−ル トリメリック ジハイドレ−トを
使用することもできる。本反応の反応温度は０℃乃至使
用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すればよ
い。反応時間は反応規模、反応温度等により一定しない
が、数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。反応
終了後、目的物を含む反応系から（１）と同様に精製す
ることにより目的物を得るすることができる。又、反応
終了後、目的物を単離せずに次の反応に供することもで
きる。
【００１４】（９）一般式(V') → 一般式(III) 本反応は（８）と同様にすることにより製造することが
できる。 （１０）一般式(III) → 一般式(II) 本反応は酸性又は塩基性条件下に行うことができ、酸性
条件下では鉱酸を不活性溶媒及び脱保護剤として使用す
ることができ、塩基性条件下では不活性溶媒として、例
えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ
−ル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エ−
テル類、水等を使用することができる。本反応の脱保護
剤としては酸又は塩基を使用することができ、酸として
は、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸、塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を使用すること
ができる。酸又は塩基の使用量は一般式(III) で表され
る化合物に対して等モル乃至過剰に使用することがで
き、好ましくは過剰量使用するのが良い。反応温度は０
℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選択すればよ
い。反応時間は反応規模、反応温度等により一定しない
が、数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。反応
終了後、目的物を含む反応系から（１）と同様に精製す
ることにより目的物を得ることができる。又、反応終了
後、目的物を単離せずに次の反応に供することもでき
る。
できる。 （１０）一般式(III) → 一般式(II) 本反応は酸性又は塩基性条件下に行うことができ、酸性
条件下では鉱酸を不活性溶媒及び脱保護剤として使用す
ることができ、塩基性条件下では不活性溶媒として、例
えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ
−ル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エ−
テル類、水等を使用することができる。本反応の脱保護
剤としては酸又は塩基を使用することができ、酸として
は、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸、塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を使用すること
ができる。酸又は塩基の使用量は一般式(III) で表され
る化合物に対して等モル乃至過剰に使用することがで
き、好ましくは過剰量使用するのが良い。反応温度は０
℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選択すればよ
い。反応時間は反応規模、反応温度等により一定しない
が、数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。反応
終了後、目的物を含む反応系から（１）と同様に精製す
ることにより目的物を得ることができる。又、反応終了
後、目的物を単離せずに次の反応に供することもでき
る。
【００１５】（１１）一般式(V) → 一般式(II) 本発明で使用できる不活性溶媒としては（６）で使用で
きる不活性溶媒を例示することができる。本反応で使用
できる塩基としては（６）で例示の塩基を使用すること
ができ、これらの塩基の使用量は一般式(V) で表される
化合物に対して過剰使用するのが良く、好ましくは一般
式(V) で表される化合物に対して等モル〜８倍モル程度
使用するのが良い。本反応では反応剤のグリオキサ−ル
を一般式(V) で表される化合物に対して０．５倍モル程
度の量を使用するのが良い。本反応で使用するグリオキ
サ−ルにかえてグリオキサ−ル トリメリック ジハイ
ドレ−トを使用することもできる。本反応の反応温度は
０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選
択すればよい。反応時間は反応規模、反応温度等により
一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択すれば
よい。反応終了後、目的物を含む反応系から（１）と同
様にすることにより目的物を製造することができる。
又、反応終了後、目的物を単離せずに次の反応に供する
こともできる。
きる不活性溶媒を例示することができる。本反応で使用
できる塩基としては（６）で例示の塩基を使用すること
ができ、これらの塩基の使用量は一般式(V) で表される
化合物に対して過剰使用するのが良く、好ましくは一般
式(V) で表される化合物に対して等モル〜８倍モル程度
使用するのが良い。本反応では反応剤のグリオキサ−ル
を一般式(V) で表される化合物に対して０．５倍モル程
度の量を使用するのが良い。本反応で使用するグリオキ
サ−ルにかえてグリオキサ−ル トリメリック ジハイ
ドレ−トを使用することもできる。本反応の反応温度は
０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選
択すればよい。反応時間は反応規模、反応温度等により
一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択すれば
よい。反応終了後、目的物を含む反応系から（１）と同
様にすることにより目的物を製造することができる。
又、反応終了後、目的物を単離せずに次の反応に供する
こともできる。
【００１６】（１２）一般式(II) → 一般式(I) 本酸化反応で使用できる不活性溶媒としては、例えばメ
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類等の不活性溶媒を例示す
ることができ、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合
して使用することができる。本反応で使用できる酸化剤
としては、例えば過酸化水素、過酸化ベンゾイル、m-ク
ロロ過酸化安息香酸、過酸化−ｔ−ブチル、ｔ−ブチル
ハイドロパ−オキサイド等の酸化剤を使用することがで
きる。過酸化剤の使用量は一般式(II)で表される化合物
に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用す
れば良く、好ましくは過剰に使用するのが良い。反応温
度は０℃乃至使用する室温の範囲から選択すればよい。
反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、
数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。反応終了
後、目的物を含む反応系から（１）と同様にすることに
より目的物を製造することができる。
タノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等の
アルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類等の不活性溶媒を例示す
ることができ、これらの不活性溶媒は単独で、又は混合
して使用することができる。本反応で使用できる酸化剤
としては、例えば過酸化水素、過酸化ベンゾイル、m-ク
ロロ過酸化安息香酸、過酸化−ｔ−ブチル、ｔ−ブチル
ハイドロパ−オキサイド等の酸化剤を使用することがで
きる。過酸化剤の使用量は一般式(II)で表される化合物
に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用す
れば良く、好ましくは過剰に使用するのが良い。反応温
度は０℃乃至使用する室温の範囲から選択すればよい。
反応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、
数分乃至４８時間の範囲から選択すればよい。反応終了
後、目的物を含む反応系から（１）と同様にすることに
より目的物を製造することができる。
【００１７】
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１８】実施例１： アセチルシリンガアルデヒド
の製造 シリンガアルデヒド７５ｇ（０．４１モル）及び触媒と
して酢酸ナトリウム０．５ｇ（触媒量）をベンゼン１５
０ｍｌに溶解し、該溶液に無水酢酸６３ｇ（０．６２モ
ル）を加え攪拌下に２時間加熱還流する。反応終了後、
反応液を５０℃まで放冷し、ｎ−ヘキサン３００ｍｌを
攪拌下に滴下し目的物を晶析する。析出した結晶を濾集
し、ｎ−ヘキサン及び水で順次洗浄し、減圧乾燥するこ
とにより目的物を９０ｇ得た（収率９７％）。 物性： 融点１２２℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／Ｔ
ＭＳ、δ値、ｐｐ）…２．３５（ｓ，３Ｈ），３．８９
（ｓ，６Ｈ），７．１４（ｓ，２Ｈ），９．８９（ｓ，
１Ｈ）．
の製造 シリンガアルデヒド７５ｇ（０．４１モル）及び触媒と
して酢酸ナトリウム０．５ｇ（触媒量）をベンゼン１５
０ｍｌに溶解し、該溶液に無水酢酸６３ｇ（０．６２モ
ル）を加え攪拌下に２時間加熱還流する。反応終了後、
反応液を５０℃まで放冷し、ｎ−ヘキサン３００ｍｌを
攪拌下に滴下し目的物を晶析する。析出した結晶を濾集
し、ｎ−ヘキサン及び水で順次洗浄し、減圧乾燥するこ
とにより目的物を９０ｇ得た（収率９７％）。 物性： 融点１２２℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／Ｔ
ＭＳ、δ値、ｐｐ）…２．３５（ｓ，３Ｈ），３．８９
（ｓ，６Ｈ），７．１４（ｓ，２Ｈ），９．８９（ｓ，
１Ｈ）．
【００１９】実施例２： ３，５−ジメトキシ−４−ア
セトキシベンジルアルコ−ルの製造 実施例１で得られたアセチルシリンガアルデヒド９０ｇ
（０．４モル）をメタノ−ル５００ｍｌに溶解し、冷却
下に水素化ほう素ナトリウム７．５ｇ（０．２モル）を
４回に分けて添加し、添加後１時間攪拌下に反応を行っ
た。反応終了後、反応液を減圧濃縮し、次いで飽和食塩
水を加え目的物をクロロホルム（１００ｍｌ×２）で抽
出した。抽出液を減圧濃縮することによりペ−スト状の
目的物を得る。得られたペ−スト状物をイソプロパノ−
ルに加温下に溶解し、ｎ−ヘキサンを室温下に加え、析
出した結晶を濾集し乾燥することにより目的物を７１ｇ
得た（収率７８％）。 物性： 融点９８℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭ
Ｓ、δ値、ｐｐｍ）…１．８０（ｔ，１Ｈ），２．３３
（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，６Ｈ），４．６３（ｄ，
２Ｈ），６．６１（ｓ，２Ｈ）．
セトキシベンジルアルコ−ルの製造 実施例１で得られたアセチルシリンガアルデヒド９０ｇ
（０．４モル）をメタノ−ル５００ｍｌに溶解し、冷却
下に水素化ほう素ナトリウム７．５ｇ（０．２モル）を
４回に分けて添加し、添加後１時間攪拌下に反応を行っ
た。反応終了後、反応液を減圧濃縮し、次いで飽和食塩
水を加え目的物をクロロホルム（１００ｍｌ×２）で抽
出した。抽出液を減圧濃縮することによりペ−スト状の
目的物を得る。得られたペ−スト状物をイソプロパノ−
ルに加温下に溶解し、ｎ−ヘキサンを室温下に加え、析
出した結晶を濾集し乾燥することにより目的物を７１ｇ
得た（収率７８％）。 物性： 融点９８℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭ
Ｓ、δ値、ｐｐｍ）…１．８０（ｔ，１Ｈ），２．３３
（ｓ，３Ｈ），３．８１（ｓ，６Ｈ），４．６３（ｄ，
２Ｈ），６．６１（ｓ，２Ｈ）．
【００２０】実施例３： ３，５−ジメトキシ−４−ア
セトキシベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド
の製造 ３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジルアルコ−
ル５０ｇ（０．２２モル）をベンゼン１５０ｍｌに懸濁
させ、冷却下にチオニルクロライド２９ｇ（０．２４モ
ル）を滴下する。滴下終了後、室温で１時間攪拌下反応
を行い、反応終了後、反応液を濃縮し、濃縮液にトルエ
ン２００ｍｌを加えて溶解し、該溶解液にトリフェニル
ホスフィン８７ｇ（０．３３モル）を加え３時間加熱還
流し、反応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、析
出した結晶を濾集し、ベンゼン、ｎ−ヘキサンで洗浄
し、乾燥することにより目的物を６４ｇ得た（収率 ５
７％）。 物性： 融点２１５℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／Ｔ
ＭＳ、δ値、ｐｐｍ）…２．２７（ｓ，３Ｈ），３．４
１（ｓ，６Ｈ），５．３８（ｄ，Ｊ＝２１．４Ｈｚ，２
Ｈ），６．４７（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５
−７．８（ｍ，１５Ｈ）． ３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジルクロリド
の物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐ
ｐｍ）…２．３４（ｓ，３Ｈ），３．８４（ｓ，６
Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），６．６６（ｓ，２Ｈ）．
セトキシベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド
の製造 ３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジルアルコ−
ル５０ｇ（０．２２モル）をベンゼン１５０ｍｌに懸濁
させ、冷却下にチオニルクロライド２９ｇ（０．２４モ
ル）を滴下する。滴下終了後、室温で１時間攪拌下反応
を行い、反応終了後、反応液を濃縮し、濃縮液にトルエ
ン２００ｍｌを加えて溶解し、該溶解液にトリフェニル
ホスフィン８７ｇ（０．３３モル）を加え３時間加熱還
流し、反応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、析
出した結晶を濾集し、ベンゼン、ｎ−ヘキサンで洗浄
し、乾燥することにより目的物を６４ｇ得た（収率 ５
７％）。 物性： 融点２１５℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／Ｔ
ＭＳ、δ値、ｐｐｍ）…２．２７（ｓ，３Ｈ），３．４
１（ｓ，６Ｈ），５．３８（ｄ，Ｊ＝２１．４Ｈｚ，２
Ｈ），６．４７（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，２Ｈ），７．５
−７．８（ｍ，１５Ｈ）． ３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジルクロリド
の物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐ
ｐｍ）…２．３４（ｓ，３Ｈ），３．８４（ｓ，６
Ｈ），４．５７（ｓ，２Ｈ），６．６６（ｓ，２Ｈ）．
【００２１】実施例４： ジエチル ３，５−ジメトキ
シ４−アセトキシベンジルホスホネ−トの製造 ３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジルアルコ−
ル４．５ｇ（０．０２モル）をエ−テル５０ｍｌに溶解
させ、水浴で冷却下に三臭化リン２．２ｇ（０．００８
モル）を加え３０分間反応を行った。反応終了後、反応
液を氷水中に注ぎ、目的物をエ−テルにより抽出し、有
機層を減圧濃縮することにより３，５−ジメトキシ−４
−アセトキシベンジルブロミド４．６ｇを得た（収率８
０％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…２．３３（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），
４．４５（ｓ，２Ｈ），６．６４（ｓ，２Ｈ）．次いで
得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジル
ブロミド２．９ｇ（０．０１モル）とトリエチルホスフ
ァイト１．７ｇ（０．０１モル）を浴温１５０℃で２時
間反応を行った。反応終了後、冷却して固化した目的物
にｎ−ヘキサンを加えて粉砕して懸濁状とし、これを濾
過してｎ−ヘキサンで洗浄することにより目的物３．２
ｇを得た（収率１００％）。 物性： 融点９７℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭ
Ｓ、δ値、ｐｐｍ）…１．２６（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，
６Ｈ），２．３３（ｓ，３Ｈ），３．１１（ｄ，Ｊ＝２
１．６Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，６Ｈ），３．９−
４．１（ｍ，４Ｈ），６．５７（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，
２Ｈ）．
シ４−アセトキシベンジルホスホネ−トの製造 ３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジルアルコ−
ル４．５ｇ（０．０２モル）をエ−テル５０ｍｌに溶解
させ、水浴で冷却下に三臭化リン２．２ｇ（０．００８
モル）を加え３０分間反応を行った。反応終了後、反応
液を氷水中に注ぎ、目的物をエ−テルにより抽出し、有
機層を減圧濃縮することにより３，５−ジメトキシ−４
−アセトキシベンジルブロミド４．６ｇを得た（収率８
０％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…２．３３（ｓ，３Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），
４．４５（ｓ，２Ｈ），６．６４（ｓ，２Ｈ）．次いで
得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキシベンジル
ブロミド２．９ｇ（０．０１モル）とトリエチルホスフ
ァイト１．７ｇ（０．０１モル）を浴温１５０℃で２時
間反応を行った。反応終了後、冷却して固化した目的物
にｎ−ヘキサンを加えて粉砕して懸濁状とし、これを濾
過してｎ−ヘキサンで洗浄することにより目的物３．２
ｇを得た（収率１００％）。 物性： 融点９７℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭ
Ｓ、δ値、ｐｐｍ）…１．２６（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，
６Ｈ），２．３３（ｓ，３Ｈ），３．１１（ｄ，Ｊ＝２
１．６Ｈｚ，２Ｈ），３．８１（ｓ，６Ｈ），３．９−
４．１（ｍ，４Ｈ），６．５７（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，
２Ｈ）．
【００２２】実施例５： ３，５−ジメチル−４−アセ
トキシシンナムアルデヒドの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド５．１
ｇ（０．０１モル）をテトラヒドロフラン３０ｍｌに懸
濁し、該懸濁液にグリオキサ−ル１４．５ｇ（４０％水
溶液、０．１モル）を加え均一な溶液とした後、２０％
水酸化ナトリウム水溶液４ｇ（０．０２モル）加え、５
０℃で３時間反応を行った。反応終了後、反応液を室温
まで冷却し、酢酸エチル及び飽和食塩水を加え目的物を
抽出した。得られた酢酸エチル層を乾燥後減圧濃縮する
ことにより粘稠物を得、得られた粘稠物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィ−で精製しすることにより目的物
を１．０ｇ得た（収率４０％）。 物性： 融点１３５℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／
ＴＭＳ、δ値、ｐｐｍ）…２．３５（ｓ，３Ｈ），３．
８６（ｓ，６Ｈ），６．６１−６．７１（ｑ，１Ｈ），
６．８１（ｓ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１Ｈ），９．７０（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）
トキシシンナムアルデヒドの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド５．１
ｇ（０．０１モル）をテトラヒドロフラン３０ｍｌに懸
濁し、該懸濁液にグリオキサ−ル１４．５ｇ（４０％水
溶液、０．１モル）を加え均一な溶液とした後、２０％
水酸化ナトリウム水溶液４ｇ（０．０２モル）加え、５
０℃で３時間反応を行った。反応終了後、反応液を室温
まで冷却し、酢酸エチル及び飽和食塩水を加え目的物を
抽出した。得られた酢酸エチル層を乾燥後減圧濃縮する
ことにより粘稠物を得、得られた粘稠物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィ−で精製しすることにより目的物
を１．０ｇ得た（収率４０％）。 物性： 融点１３５℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／
ＴＭＳ、δ値、ｐｐｍ）…２．３５（ｓ，３Ｈ），３．
８６（ｓ，６Ｈ），６．６１−６．７１（ｑ，１Ｈ），
６．８１（ｓ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１Ｈ），９．７０（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）
【００２３】実施例６： １，４−ビス（４−アセトキ
シ−３，５−ジメトキシフェニル）ブタジエンの製造 実施例５で得られた３，５−ジメチル−４−アセトキシ
シンナムアルデヒド０．５ｇ（０．００２モル）及び実
施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキシ
ベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド１．２２
ｇ（０．００２４モル）をテトラヒドロフラン１５ｍｌ
に懸濁させ、該懸濁液に水素化ナトリウム０．１２ｇ
（６０％、０．００２モル）を加え２時間室温下に反応
を行った。反応終了後、反応液を６Ｎ塩酸で中和し、目
的物を酢酸エチルで抽出した。得られた抽出液を乾燥
し、減圧濃縮することにより得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−で精製することにより目
的物０．３５ｇを得た（収率４０％）。目的物の１，４
−ビス（４−アセトキシ−３，５−ジメトキシフェニ
ル）ブタジエンはシス／シス、トランス／トランス、シ
ス／トランス又はこれらの混合物として単離でき、カラ
ムクロマトグラフィ−等で分離することもでき、代表的
な分離物及びこれらの混合物の物性を例示する。 物性：分離物 融点２２１℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐｍ）…２．３５（ｓ，６Ｈ），
３．８６（ｓ，１２Ｈ），６．５７−６．６９（ｍ，２
Ｈ），６．６８（ｓ，４Ｈ），６．８２−６．９３
（ｍ，２Ｈ）； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ／ＴＭＳ、δ
値、ｐｐｍ）…２．２５（ｓ，６Ｈ），３．８１（ｓ，
１２Ｈ），６．６８−６．８０（ｍ，２Ｈ），６．９１
（ｓ，４Ｈ），７．１１−７．２２（ｍ，２Ｈ）． 混合物 融点１５５−１６６℃（混合物の融点は各異性
体の混合割合により上記の範囲で変化する。）．
シ−３，５−ジメトキシフェニル）ブタジエンの製造 実施例５で得られた３，５−ジメチル−４−アセトキシ
シンナムアルデヒド０．５ｇ（０．００２モル）及び実
施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキシ
ベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド１．２２
ｇ（０．００２４モル）をテトラヒドロフラン１５ｍｌ
に懸濁させ、該懸濁液に水素化ナトリウム０．１２ｇ
（６０％、０．００２モル）を加え２時間室温下に反応
を行った。反応終了後、反応液を６Ｎ塩酸で中和し、目
的物を酢酸エチルで抽出した。得られた抽出液を乾燥
し、減圧濃縮することにより得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−で精製することにより目
的物０．３５ｇを得た（収率４０％）。目的物の１，４
−ビス（４−アセトキシ−３，５−ジメトキシフェニ
ル）ブタジエンはシス／シス、トランス／トランス、シ
ス／トランス又はこれらの混合物として単離でき、カラ
ムクロマトグラフィ−等で分離することもでき、代表的
な分離物及びこれらの混合物の物性を例示する。 物性：分離物 融点２２１℃； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐｍ）…２．３５（ｓ，６Ｈ），
３．８６（ｓ，１２Ｈ），６．５７−６．６９（ｍ，２
Ｈ），６．６８（ｓ，４Ｈ），６．８２−６．９３
（ｍ，２Ｈ）； 1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ／ＴＭＳ、δ
値、ｐｐｍ）…２．２５（ｓ，６Ｈ），３．８１（ｓ，
１２Ｈ），６．６８−６．８０（ｍ，２Ｈ），６．９１
（ｓ，４Ｈ），７．１１−７．２２（ｍ，２Ｈ）． 混合物 融点１５５−１６６℃（混合物の融点は各異性
体の混合割合により上記の範囲で変化する。）．
【００２４】実施例７： １，４−ビス（４−アセトキ
シ−３，５−ジメトキシフェニル）ブタジエンの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド５．５
８ｇ（０．０１１モル）、グリオキサ−ル０．７３ｇ
（０．００５モル）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ及び
蒸留水５ｍｌを加え、窒素雰囲気下で４０％水酸化ナト
リウム水溶液２．５ｇ（０．０２５モル）を滴下し、滴
下終了後６０℃で２時間反応を行った。反応終了後、反
応液を冷却し不溶物を濾去し、濾液を中和した後、酢酸
エチル及び飽和食塩水を加え分液し、得られた酢酸エチ
ル溶液を乾燥し、減圧下に濃縮することにより目的物
２．０ｇを得た（収率９０％）。
シ−３，５−ジメトキシフェニル）ブタジエンの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド５．５
８ｇ（０．０１１モル）、グリオキサ−ル０．７３ｇ
（０．００５モル）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ及び
蒸留水５ｍｌを加え、窒素雰囲気下で４０％水酸化ナト
リウム水溶液２．５ｇ（０．０２５モル）を滴下し、滴
下終了後６０℃で２時間反応を行った。反応終了後、反
応液を冷却し不溶物を濾去し、濾液を中和した後、酢酸
エチル及び飽和食塩水を加え分液し、得られた酢酸エチ
ル溶液を乾燥し、減圧下に濃縮することにより目的物
２．０ｇを得た（収率９０％）。
【００２５】実施例８： １，４−ビス（４−アセトキ
シ−３，５−ジメトキシフェニル）ブタジエンの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド１０ｇ
（０．０２モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに懸
濁し、該懸濁液にグリオキサ−ル トリメリック ジハ
イドレ−ト０．６３ｇ（０．０３モル）を加え、氷水浴
で冷却し、水素化ナトリウム０．９ｇ（６０％、０．０
２２モル）を加え３０分間攪拌した後、６０℃まで加温
し２時間反応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、
酢酸エチル及び水を加えて分液し、得られた有機層を乾
燥した後、減圧濃縮して得られた粘稠物をカラムクロマ
トグラフィ−で精製することにより目的物を２．１ｇ得
た（収率２４％）。
シ−３，５−ジメトキシフェニル）ブタジエンの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド１０ｇ
（０．０２モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに懸
濁し、該懸濁液にグリオキサ−ル トリメリック ジハ
イドレ−ト０．６３ｇ（０．０３モル）を加え、氷水浴
で冷却し、水素化ナトリウム０．９ｇ（６０％、０．０
２２モル）を加え３０分間攪拌した後、６０℃まで加温
し２時間反応を行った。反応終了後、反応液を放冷し、
酢酸エチル及び水を加えて分液し、得られた有機層を乾
燥した後、減圧濃縮して得られた粘稠物をカラムクロマ
トグラフィ−で精製することにより目的物を２．１ｇ得
た（収率２４％）。
【００２６】実施例９： ４，４’−（１，３−ブタジ
エン−１，４−ジイル）ビス−１，６−ジメトキシフェ
ノ−ルの製造 水酸化ナトリウム０．３７ｇ（０．００９モル）を蒸留
水３ｇに溶解し、該溶液にエタノ−ル２０ｍｌ及び実施
例７で得られた１，４−ビス（４−アセトキシ−３，５
−ジメトキシフェニル）ブタジエン０．８７ｇ（０．０
０２モル）を加え室温で４時間反応を行った。反応終了
後、反応液を６Ｎ塩酸で酸性にした後、目的物を酢酸エ
チルで抽出した。、抽出液を乾燥後減圧濃縮することに
より目的物を結晶物として０．５５ｇ得た（収率７７
％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…３．９３（ｓ，１２Ｈ），５．５７（ｓ，２
Ｈ），６．５０−６．６２（ｍ，２Ｈ），６．６７
（ｓ，４Ｈ），６．７４−６．８６（ｍ，２Ｈ）．
エン−１，４−ジイル）ビス−１，６−ジメトキシフェ
ノ−ルの製造 水酸化ナトリウム０．３７ｇ（０．００９モル）を蒸留
水３ｇに溶解し、該溶液にエタノ−ル２０ｍｌ及び実施
例７で得られた１，４−ビス（４−アセトキシ−３，５
−ジメトキシフェニル）ブタジエン０．８７ｇ（０．０
０２モル）を加え室温で４時間反応を行った。反応終了
後、反応液を６Ｎ塩酸で酸性にした後、目的物を酢酸エ
チルで抽出した。、抽出液を乾燥後減圧濃縮することに
より目的物を結晶物として０．５５ｇ得た（収率７７
％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…３．９３（ｓ，１２Ｈ），５．５７（ｓ，２
Ｈ），６．５０−６．６２（ｍ，２Ｈ），６．６７
（ｓ，４Ｈ），６．７４−６．８６（ｍ，２Ｈ）．
【００２７】実施例１０： ４，４’−（１，３−ブタ
ジエン−１，４−ジイル）ビス−１，−ジメトキシフェ
ノ−ルの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド２２．
３ｇ（０．０４４モル）及びテトラヒドロフラン１００
ｍｌからなる溶液を窒素雰囲気下に６０℃でグリオキサ
−ル２．９ｇ（４０％水溶液、０．０２モル）を加え、
次いで４０％水酸化ナトリウム水溶液１０ｇ（０．１モ
ル）を滴下した。滴下終了後、更に６０℃で１時間攪拌
下に反応を行い、再度４０％水酸化ナトリウム水溶液１
０ｇ（０．１モル）を滴下し、６０℃で２時間攪拌下に
反応を行った。反応終了後、反応液を冷却し濾過し、得
られた濾過物を６００ｍｌの蒸留水に懸濁し、再度該懸
濁液を濾過する。得られた濾液をエチルエ−テル（１０
０ｍｌ×３）で抽出し、得られた水層を６Ｎ塩酸水溶液
で弱酸性とし、析出した結晶を濾集し乾燥することによ
り目的物を結晶物として３．８ｇ得た（収率５３％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…３．９３（ｓ，１２Ｈ），５．５７（ｓ，２
Ｈ），６．５０−６．６２（ｍ，２Ｈ），６．６７
（ｓ，４Ｈ），６．７４−６．８６（ｍ，２Ｈ）．
ジエン−１，４−ジイル）ビス−１，−ジメトキシフェ
ノ−ルの製造 実施例３で得られた３，５−ジメトキシ−４−アセトキ
シベンジルトリフェニルホスホニウム クロリド２２．
３ｇ（０．０４４モル）及びテトラヒドロフラン１００
ｍｌからなる溶液を窒素雰囲気下に６０℃でグリオキサ
−ル２．９ｇ（４０％水溶液、０．０２モル）を加え、
次いで４０％水酸化ナトリウム水溶液１０ｇ（０．１モ
ル）を滴下した。滴下終了後、更に６０℃で１時間攪拌
下に反応を行い、再度４０％水酸化ナトリウム水溶液１
０ｇ（０．１モル）を滴下し、６０℃で２時間攪拌下に
反応を行った。反応終了後、反応液を冷却し濾過し、得
られた濾過物を６００ｍｌの蒸留水に懸濁し、再度該懸
濁液を濾過する。得られた濾液をエチルエ−テル（１０
０ｍｌ×３）で抽出し、得られた水層を６Ｎ塩酸水溶液
で弱酸性とし、析出した結晶を濾集し乾燥することによ
り目的物を結晶物として３．８ｇ得た（収率５３％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…３．９３（ｓ，１２Ｈ），５．５７（ｓ，２
Ｈ），６．５０−６．６２（ｍ，２Ｈ），６．６７
（ｓ，４Ｈ），６．７４−６．８６（ｍ，２Ｈ）．
【００２８】実施例１１： ４，４’−（２−ブテン−
１，４−ジイリデン）ビス（２，６−メトキシ）−２，
５−シクロヘキサジエン−１−オンの製造 実施例９で得られた４，４’−（１，３−ブタジエン−
１，４−ジイル）ビス−１，６−ジメトキシフェノ−ル
１００ｍｇ（０．２８ミリモル）をクロロホルム５ｍｌ
に溶解し、該溶液に過酸化ベンゾイル２００ｍｇ（０．
８３ミリモル）を加え、室温下に３０分攪拌し反応を行
った。反応終了後、反応液をアルカリ水、ハイポ水溶液
で洗浄し、減圧濃縮することにより目的物を結晶物とし
て９０ｍｇを得た（収率９０％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…３．８５（ｓ，６Ｈ），３．９１（ｓ，６Ｈ），
６．３２（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），６．７５
（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ）６．７９−６．９３
（ｍ，２Ｈ），７．１８−７．３２（ｍ，２Ｈ）。
１，４−ジイリデン）ビス（２，６−メトキシ）−２，
５−シクロヘキサジエン−１−オンの製造 実施例９で得られた４，４’−（１，３−ブタジエン−
１，４−ジイル）ビス−１，６−ジメトキシフェノ−ル
１００ｍｇ（０．２８ミリモル）をクロロホルム５ｍｌ
に溶解し、該溶液に過酸化ベンゾイル２００ｍｇ（０．
８３ミリモル）を加え、室温下に３０分攪拌し反応を行
った。反応終了後、反応液をアルカリ水、ハイポ水溶液
で洗浄し、減圧濃縮することにより目的物を結晶物とし
て９０ｍｇを得た（収率９０％）。 物性： 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐ
ｍ）…３．８５（ｓ，６Ｈ），３．９１（ｓ，６Ｈ），
６．３２（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），６．７５
（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ）６．７９−６．９３
（ｍ，２Ｈ），７．１８−７．３２（ｍ，２Ｈ）。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 45/29 45/64 45/68 47/277 9049−4Ｈ 47/575 9049−4Ｈ 49/753 Ｃ 8213−4Ｈ 67/08 69/18 8018−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 9/54 7106−4Ｈ
Claims (17)
- 【請求項１】一般式(XII) （式中、ｎは０〜２の整数を示す。）で表されるアルデ
ヒド類を、一般式(XI) R-X (XI) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、Ｘはハロゲン原
子を示す。）で表されるハライド類、又は一般式(X) (R)2O (X) （式中、Ｒは前記に同じ。）で表される化合物と反応さ
せ、一般式(IX) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物と
し、該化合物(IX)を単離するか又は単離せずに還元反応
を行い、一般式(VIII) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物と
し、該化合物(VIII)を単離するか又は単離せずにハロゲ
ン化剤の存在下でハロゲン化し、一般式(VII) （式中、Ｒ、Ｘ及びｎは前記に同じ。）で表される化合
物とし、該化合物(VII) を単離するか又は単離せずに一
般式(VI) (R1)3-P (VI) （式中、R1は低級アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物と反応させ、一般式(V) （式中、R1、Ｘ及びｎは前記に同じ。）で表される化合
物とし、該化合物(V) を単離するか又は単離せずに一般
式(IV) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物と
反応させ、一般式(III) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物と
し、該化合物(III) を単離するか又は単離せずに脱保護
基反応で、一般式(II) （式中、ｎは前記に同じ。）で表される化合物とし、該
化合物(II)を単離するか又は単離せずに酸化することを
特徴とする一般式(I) （式中、ｎは前記に同じ。）で表される発色性化合物の
製造方法。 - 【請求項２】 一般式(XII) （式中、ｎは０〜２の整数を示す。）で表されるアルデ
ヒド類を一般式(XI) R-X (XI) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、Ｘはハロゲン原
子を示す。）で表されるハライド類、又は一般式(X) (R)2O (X) （式中、Ｒは前記に同じ。）で表される化合物と反応さ
せることを特徴とする一般式(IX) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物の
製造方法。 - 【請求項３】 一般式(IX) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示す。）で表される化合物。 - 【請求項４】 一般式(IX) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示す。）で表される化合物を還元することを特徴と
する一般式(VIII) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物の
製造方法。 - 【請求項５】 一般式(VIII) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示す。）で表される化合物。 - 【請求項６】 一般式(VIII) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示す。）で表される化合物をハロゲン化剤の存在下
でハロゲン化することを特徴とする一般式(VII) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じで、Ｘはハロゲン原子を
示す。）で表される化合物の製造方法。 - 【請求項７】 一般式(VII) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。但し、Ｒはアセチ
ル基を除く。）で表される化合物。 - 【請求項８】 一般式(VII) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合
物と一般式(VI) (R1)3-P (VI) （式中、R1は低級アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
(V) （式中、R1、Ｘ及びｎは前記に同じ。）で表される化合
物の製造方法。 - 【請求項９】 一般式(V) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、R1は低級アルキ
ル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物。 - 【請求項１０】 一般式(V) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、R1は低級アルキ
ル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物を塩基の
存在下で、過剰のグリオキサ−ルと反応させることを特
徴とする一般式(IV) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物の
製造方法。 - 【請求項１１】 一般式(IV) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜４の整
数を示す。但し、Ｒはアセチル基を除く。）で表される
化合物。 - 【請求項１２】 一般式(V) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、R1は低級アルキ
ル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物と一般式
(IV) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物と
を反応させることを特徴とする一般式(III) （式中、Ｒは前記に同じ。）で表される化合物の製造方
法。 - 【請求項１３】 一般式(V) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、R1は低級アルキ
ル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物を塩基の
存在下で、一般式(V) で表される化合物に対して等モル
以下のグリオキサ−ルと反応させることを特徴とする一
般式(III) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物の
製造方法。 - 【請求項１４】 一般式(III) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示す。）で表される化合物。 - 【請求項１５】 一般式(III) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、ｎは０〜２の整
数を示す。）で表される化合物を脱保護基反応させるこ
とを特徴とする一般式(II) （式中、ｎは前記に同じ。）で表される化合物の製造方
法。 - 【請求項１６】 一般式(V) （式中、Ｒは脱離可能な保護基を示し、R1は低級アルキ
ル基又はフェニル基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、
Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物を過剰の
塩基の存在下でグリオキサ−ルと反応させることを特徴
とする一般式(II) （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される化合物の
製造方法。 - 【請求項１７】 一般式(II) （式中、ｎは０〜２の整数を示す。）で表される化合物
を酸化することを特徴とする一般式(I) （式中、ｎは０〜２の整数を示す。）で表される発色性
化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03268938A JP3128703B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 発色性化合物の製造方法及びその中間体類並びにそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03268938A JP3128703B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 発色性化合物の製造方法及びその中間体類並びにそれらの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0585983A true JPH0585983A (ja) | 1993-04-06 |
| JP3128703B2 JP3128703B2 (ja) | 2001-01-29 |
Family
ID=17465370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03268938A Expired - Fee Related JP3128703B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 発色性化合物の製造方法及びその中間体類並びにそれらの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3128703B2 (ja) |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP03268938A patent/JP3128703B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3128703B2 (ja) | 2001-01-29 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |