JPH0579610B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0579610B2
JPH0579610B2 JP28958990A JP28958990A JPH0579610B2 JP H0579610 B2 JPH0579610 B2 JP H0579610B2 JP 28958990 A JP28958990 A JP 28958990A JP 28958990 A JP28958990 A JP 28958990A JP H0579610 B2 JPH0579610 B2 JP H0579610B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
molding
optical element
water
inorganic compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP28958990A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04164830A (ja
Inventor
Hiroaki Fuse
Takanobu Shiokawa
Hiroshi Sone
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd filed Critical Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Priority to JP28958990A priority Critical patent/JPH04164830A/ja
Publication of JPH04164830A publication Critical patent/JPH04164830A/ja
Publication of JPH0579610B2 publication Critical patent/JPH0579610B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06—Construction of plunger or mould
    • C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
    • C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/02—Press-mould materials
    • C03B2215/08—Coated press-mould dies
    • C03B2215/10—Die base materials
    • C03B2215/12—Ceramics or cermets, e.g. cemented WC, Al2O3 or TiC
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/02—Press-mould materials
    • C03B2215/08—Coated press-mould dies
    • C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/16—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/02—Press-mould materials
    • C03B2215/08—Coated press-mould dies
    • C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/16—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals
    • C03B2215/17—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals comprising one or more of the noble meals, i.e. Ag, Au, platinum group metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/02—Press-mould materials
    • C03B2215/08—Coated press-mould dies
    • C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/22—Non-oxide ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00—Press-moulding glass
    • C03B2215/02—Press-mould materials
    • C03B2215/08—Coated press-mould dies
    • C03B2215/30—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光学素子成形用の成形型およびその
再生方法に関し、より詳しくは、加熱により軟化
させた光学素子材料を押圧成形することにより光
学素子を成形するための成形型及びその再生方法
に関するものである。
（従来の技術） 従来、光学素子は研磨工程により製造されてき
たが、最近では、加熱により素子材料を軟化させ
て成形型間で押圧成形することにより光学素子を
製造するダイレクトプレス（ガラスモールド法）
が採用されつつある。この時使用される成形型
は、所望する面に加工した母材上に耐酸化性、耐
漏れ性の向上を目的としてセラミツクスまたは
（及び）貴金属の被膜を施したものが主であり、
中には両者の密着性向上のために中間層を設けた
ものもある。
ところが、成形型はガラスモールド法で成形回
数を重ねた場合、表面に傷や曇りが生じ、また被
膜の剥離が生じる等の劣化が見られ、成形した光
学素子の品質が低下するという問題があつた。こ
の問題は母材、被膜材、素子材料の性質及び成形
条件に起因するものであり、この問題を解決する
ために様々な材料や成形条件についての提案がな
されている。例えば、特開平１−111737号公報は
被膜の硬度を上げることにより成形型の表面の傷
つきを無くす方法を提案している。
（発明が解決しようとする課題） ところが、前記の方法でも1000回、10000回と
成形回数を重ねた場合には、成形型の劣化が見ら
れた。この場合、被膜のみを剥離して再生するこ
とは難しく、被膜を完全に削り取ると母材も削る
ことになり、再び精密加工、研磨工程を経て被膜
を形成して成形型を再生するか、全く新たに成形
型を作製するしかなく、コスト高になることが否
めなかつた。
本発明は上記の点を解決しようとするもので、
その目的は、母材を傷つけずに被膜のみを完全に
剥離することによつて容易にかつ安価に成形型を
再生することにある。
（課題を解決するための手段） 本発明は、光学素子材料を加熱により軟化さ
せ、一対の成形型及び胴型の間で押圧成形するこ
とにより光学素子を成形する成形型において、母
材と被膜からなる成形型の中間層として、水、酸
性水溶液またはアルカリ性水溶液のいずれかに可
溶な水溶性無機化合物層を設けたことを特徴とす
る光学素子成形用の成形型、並びに、その成形型
を、水、酸性水溶液及びアルカ性水溶液のいずれ
かに浸して水溶性無機化合物層を溶解させ、母材
から被膜と水溶性無機化合物層を除去することを
特徴とする光学素子成形用の成形型の再生方法で
ある。
第１図に本発明の光学素子成形用の成形型の断
面図を示す。
この成形型は母材１と被膜２の間に中間層であ
る水溶性無機化合物層３を設けたものであり、そ
の作製方法としては、例えば、母材１を超精密旋
盤にて所望非球面に削つた後、ダイヤモンドペー
スト研磨材等を使用して粗さRnax＝0.02μm以下
になるように表面を研磨する。ここで母材１に用
いられる材料としては、超硬合金タングステンカ
ーバイト（WC）、ステンレス、Ni基耐熱合金等
の合金、炭化ケイ素（SiC）、窒化ケイ素
（Si3N4）、アルミナ（Al2O3）等のセラミツクス
が挙げられる。
次に、この母材１の表面に水溶性無機化合物層
３を形成する。その形成方法としては、スパツタ
リング法、真空蒸着法等が挙げられる。この水溶
性無機化合物層３は、水、酸性水溶液またはアル
カリ性水溶液に可溶であり、かつその融点をＴ
℃、光学素子の成形温度をＸ℃とした時、Ｔ＞Ｘ
を満足させるような無機化合物からなる。
このような水溶性無機化合物層３の材料として
は、塩化ナトウム（NaCl）、塩化カリウム
（KCl）等のアルカリ金属塩、炭酸バリウム
（BaCl2）、炭酸カルシウム（CaCO3）、炭酸スト
ロンチウム（SrCO3）等のアルカリ土類金属塩を
挙げることができる。
次に、水溶性無機化合物層３の表面に被膜２を
形成する。被膜２は耐酸化性および耐濡れ性の向
上を目的として設けられるものである。被膜２に
用いられる材料としては、窒化チタン（TiN）、
炭化チタン（TiC）、窒化ケイ素（Si3N4）、炭化
ケイ素（SiC）、アルミナ（Al2O3）等のセラミツ
クス物質または白金（Pt）、ロジウム（Rh）、金
（Au）等の貴金属物質が挙げられる。また被膜２
の形成方法としては従来公知の方法が適用され
る。
このようにして作製した成形型を用いて光学素
子を成形する。第２図ａは押圧成形前の成形部の
状態を示す概略説明図である。ここで使用する光
学素子材料の成形温度は成形型の水溶性無機化合
物層３の融点よりも低いものである。
成形を繰り返して高精度の光学素子を再現性よ
く成形し、型表面に傷や曇りができると、以下の
ように水溶性無機化合物層３を水、酸性水溶液ま
たはアルカリ性水溶液にて溶解し、被膜２を除去
し、成形型を再生する。
ここで用いられる酸としては、塩酸、フツ化水
素酸等が挙げられ、アルカリとしては水酸化ナト
ウム、水酸化カリウム等が挙げられる。
これにより劣化した被膜２が剥れ、母材１のみ
となる。この母材１は削り直したわけではないの
で、全く傷がなく、洗浄後再び使用可能であり、
この表面に再び水溶性無機化合物層３及び被膜２
を前述と同様の方法で形成させることにより、永
久的に使用可能となり、大幅なコストの低減につ
ながることになる。
（作用） 成形型の母材と被膜の中間層として水、酸性水
溶液またはアルカリ性水溶液に可溶な水溶性無機
化合物層を設けることにより、成形型表面に傷や
曇りが生じ、また被膜の剥離が生じた場合、成形
型を水、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液に浸
すことにより水溶性無機化合物層を溶解させて母
材を傷つけずに被膜を完全にかつ容易に剥離する
ことができる。これを洗浄後、再び水溶性無機化
合物層及び被膜を形成することにより成形型を容
易に再生させることができ、コストの低減を図る
ことができる。
実施例 １ 第１図に示す光学素子成形用の成形型は母材１
と被膜２の間に中間層である水溶性無機化合物層
３を設けたもので、母材１として超硬合金タング
ステンカーバイト（WC）を用いている。
成形型の作製にあたり、まず母材１を超精密旋
盤にて所望する非球面に削つた後、ダイヤモンド
ペースト研磨材を使用して粗さRnax＝0.02μm以
下になるように表面を研磨した。
このようにして得られた母材の表面に、スパツ
タリングにて水溶性無機化合物層３として塩化ナ
トリウム（NaCl）層（融点：800.4℃）を1μm形
成した。
次に、この型の表面にスパツタリングにてPt
とAuとRhの合金膜を2μm形成し、成形型とし
た。
このようにして作製した成形型を用いて光学ガ
ラス素子を成形した。第２図ａは押圧成形前の成
形部の概略説明図である。素子材料としてはオハ
ラ製SFSO1（転移点393℃）を使用した。
まず、下型６上に球形に加工した光学素子材料
８をのせ、ヒーター１０により430℃まで加熱し
た。温度は熱電対１２によつて測定した。また加
熱中は酸化による成形型の酸化を抑えるために雰
囲気ガス供給口１３より非酸化性である窒素ガス
を流した。
430℃の時点で第２図ｂに示すようにシリンダ
ー１１を降ろし、光学素子材料を約100Kg／cm2の
圧力で押圧成形した。その後徐冷し、成形部温度
が光学素子材料の転移点（393℃）を下回つた時
点で圧力を抜き、シリンダー１１を上昇させて成
形品である光学素子１４を取り出した（第３図）。
以上の条件で成形を繰り返すことにより、高精
度の光学素子を再現性よく成形することが可能で
あつたが、成形回数が約1000回を越えたあたりか
ら、型表面の細かな傷や曇りが目立ち始めた。
そこで成形型を水に約12時間浸し、中間層３で
ある塩化ナトリウム層を溶解させた（第４図ａ，
ｂ）。これにより劣化した被膜が剥れ母材のみと
なる。この母材１は削り直したわけでないので、
全く傷がなく、洗浄後再び使用可能であり、この
表面に再び水溶性無機化合物層３及び被膜２を前
述と同様の方法で形成させることにより、永久的
に使用可能となり、大幅なコストの低減につなが
ることになる。
実施例 ２ 母材１の材料として炭化ケイ素（SiC）を用
い、実施例１と同様の方法で研磨した。この母材
１の表面にスパツタリング法で、酸性水溶液及び
アンモニア水に可溶な炭酸カルシウム（CaCO3）
層（融点：1339℃）層を中間層３として1μm形成
した。さらにスパツタリングにてPt.Au.Rhの合
金膜を被膜２として2μm形成し成形型とした。
この成形型を用いて約1000回の成形を繰り返し
行なつた後、成形型を２規定の塩酸水溶液中に約
10時間浸し、炭酸カルシウム層を溶解して被膜を
剥離させ、洗浄後、再び水溶性無機化合物層およ
び被膜を前述と同様の方法で形成することにより
永久的な使用が可能となつた。
（発明の効果） 以上の説明で明らかなように本発明によれば、
成形型表面に傷や曇りが生じ、また、被膜の剥れ
が生じた場合、母材を傷付けずに被膜を完全に剥
すことができるので成形型を容易に再生すること
ができ、永久的に使用可能でコストの低減を図る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の光学素子成形用の成形型の断
面図、第２図ａは本発明の光学素子成形用の成形
型を用いた押圧成形前の成形部の状態を示す概略
図、第２図ｂは本発明の光学素子成形用成形型を
用いた押圧成形中の成形部の状態を示す概略説明
図、第３図は本発明の光学素子成形用の成形型を
用いて成形された光学素子を示す正面図、第４図
ａ，ｂは本発明の光学素子成形用の成形型の被膜
剥離工程の説明図である。 尚図中、１は母材、２は被膜、３は水溶性無機
化合物層、６は下型、７は上型、８は光学素子材
料、９は胴型、１０は加熱用ヒーター、１１はシ
リンダー、１２は熱電対、１３は雰囲気ガス供給
口、１４は成形された光学素子、１５は水、酸性
水溶液またはアルカリ性水溶液である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 光学素子材料を加熱により軟化させ、一対の
    成形型及び胴型の間で押圧成形することにより光
    学素子を成形する成形型において、母材と被膜か
    らなる成形型の中間層として、水溶性無機化合物
    層を設けたことを特徴とする光学素子成形用の成
    形型。 ２ 中間層である水溶性無機化合物層が、アルカ
    リ金属塩及びアルカリ土類金属塩からなる群から
    選択される無機化合物からなることを特徴とする
    請求項１記載の光学素子成形用の成形型。 ３ 無機化合物の融点をＴ℃、光学素子の成形温
    度をＸ℃とした時、Ｔ＞Ｘである水溶性無機化合
    物を中間層に用いることを特徴とする請求項１記
    載の光学素子成形用の成形型。 ４ 中間層である水溶性無機化合物層が、真空蒸
    着法及びスパツタリング法のいずれかで形成され
    ることを特徴とする請求項１記載の光学素子成形
    用の成形型。 ５ 成形型の母材が、超硬合金タングステンカー
    バイト、ステンレス及びニツケル基合金から選択
    されることを特徴とする請求項１記載の光学素子
    成形用の成形型。 ６ 成形型の母材が、セラミツクスであることを
    特徴とする請求項１記載の光学素子成形用の成形
    型。 ７ 成形型の被膜が、セラミツクス及び貴金属含
    有材料のいずれかであることを特徴とする請求項
    １記載の光学素子成形用の成形型。 ８ 光学素子材料を加熱により軟化させ、一対の
    成形型及び胴型の間で押圧成形することにより光
    学素子を成形する成形型において、母材と、被膜
    と、中間層である水溶性無機化合物層とからなる
    成形型を、水、酸性水溶液及びアルカリ性水溶液
    のいずれかに浸して水溶性無機化合物層を溶解さ
    せ、母材から被膜と水溶性無機化合物層を除去す
    ることを特徴とする光学素子成形用の成形型の再
    生方法。
JP28958990A 1990-10-25 1990-10-25 光学素子成形用の成形型及びその再生方法 Granted JPH04164830A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28958990A JPH04164830A (ja) 1990-10-25 1990-10-25 光学素子成形用の成形型及びその再生方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28958990A JPH04164830A (ja) 1990-10-25 1990-10-25 光学素子成形用の成形型及びその再生方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04164830A JPH04164830A (ja) 1992-06-10
JPH0579610B2 true JPH0579610B2 (ja) 1993-11-04

Family

ID=17745192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28958990A Granted JPH04164830A (ja) 1990-10-25 1990-10-25 光学素子成形用の成形型及びその再生方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04164830A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4905131B2 (ja) * 2004-05-27 2012-03-28 コニカミノルタオプト株式会社 光学素子形成用成形型並びにその製造方法及び再生方法
JP5902528B2 (ja) * 2012-03-28 2016-04-13 シャープ株式会社 熱交換器用フィン及び熱交換器

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04164830A (ja) 1992-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900002704B1 (ko) 광학유리소자의 프레스성형틀 및 그것을 사용한 성형방법
JPH0579610B2 (ja)
JPH04285021A (ja) 光学素子成形用の成形型及びその再生方法
JPH03237024A (ja) 光学素子成形用の成形型の再生方法
JP3630375B2 (ja) ガラス成形体の成形型
JP2621010B2 (ja) 金属塑性加工用金型
JP2785888B2 (ja) 光学素子成形用型
JPH11268920A (ja) 光学素子成形用成形型およびその製造方法
JP3149149B2 (ja) 光学素子成形用型
JP2009073693A (ja) 光学素子成形用金型及びその製造方法
JP2785903B2 (ja) 光学素子成形用型
JP3185299B2 (ja) ガラスレンズ成形用型およびガラスレンズ成形装置
JP2000319028A (ja) ガラス光学素子プレス成形用型の再生方法
JP4262312B2 (ja) 光学ガラス素子用成形型
JP3341520B2 (ja) 光学レンズの製造方法
JPS63151628A (ja) 光学素子成形用型
CN101121572B (zh) 模造玻璃模仁及其再生方法
JPH04331729A (ja) 光学素子用成形型の再生方法
JP2000319027A (ja) 光学素子成形用型およびこれを用いた成形方法
JPS63185834A (ja) 光学素子成形用型部材
JP2000203851A (ja) 光学素子成形用型
JP2003095669A (ja) 光学素子成形用型
JPH1179757A (ja) 光学素子成形用型及びその再生方法
JPH04265234A (ja) 光学ガラス素子の成形型
JPH092827A (ja) ガラスレンズの製造方法