JPH057397B2 - - Google Patents
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- JPH057397B2 JPH057397B2 JP60119874A JP11987485A JPH057397B2 JP H057397 B2 JPH057397 B2 JP H057397B2 JP 60119874 A JP60119874 A JP 60119874A JP 11987485 A JP11987485 A JP 11987485A JP H057397 B2 JPH057397 B2 JP H057397B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
- C07F9/3813—N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
この発明は、Ｎ−ホスホノメチルグリシンを、
高品質、高収率で得る改良された製造方法に関す
る。 Ｎ−ホスホノメチルグリシンより得られる或る
種の塩は発芽后除草剤として有効である。 ここに引用する米国特許第4427599号は、Ｎ−
ホスホノメチルグリシンの製法に関するもので、
次のことよりなる； (1) １，３，５−トリシアノメチルヘキサヒドロ
−１，３，５−トリアジンをアシルハライド、
とくにアシルクロライドと反応させてアシルハ
ライドのＮ−シアノメチル−Ｎ−ハロ−メチル
アミドを生成させ； (2) これをホスフアイトと反応させて、Ｎ−アシ
ルアミノメチル−Ｎ−シアノメチルホスホネー
トとし；そして、 (3) これを加水分解して、Ｎ−（ホスホノメチル）
−グリシンを得る。 とくに、この先行特許には次の反応経路が示さ
れている： (a) ここに、Ｒはここに定義するような脂肪族
または芳香族基、好ましくはC1〜4アルキル、
とくに好ましくはメチルまたはエチル、Ｘは
塩素、臭素、またはヨウ素、好ましくは塩素
である。 (b) ここに、ＲおよびＸは上に定義したとおり
であり、Ｒ１およびＲ２はともに芳香族基ま
たはともに脂肪族基、好ましくは、Ｒ１およ
びＲ２はＣ1〜6アルキル、より好ましくはＣ
1〜4アルキル、およびＲ３は脂肪族基、好ま
しくはＲ３はＣ1〜6アルキル、より好ましく
はＣ1〜4アルキルまたはＲ３はアルカリ金属
(M)、好ましくはナトリウムまたはカリウムで
ある。 (c) ここに、Ｒ、R1およびR2は上に定義した
とおりであり、Ｈ＋は塩化水素酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸また
はクロム酢酸のような強酸である。好ましく
は、Ｈ＋は塩化水素酸または臭化水素酸であ
る。好ましくは、加水分解は強酸の存在下で
行われる。 米国特許第4427599号は、エチレンクロライド
のような溶媒が(b)段階で使用され、この溶媒は反
応(c)の完了後に除去される。 米国特許第4427599号はまた、反応段階(c)から
のホスホネート反応生成物の１モルは５モルの水
で加水分解される。加水分解は、上記した強酸の
下で行われる。好ましくは加水分解は、酸を触媒
として行われ、少くとも２モルの酸が用いられ、
より好ましくは２モル量よりさらに過剰量が用い
られる。 この最后の反応段階は温度約０〜200℃、好ま
しくは約50〜125℃、さらに好ましくは約100〜
125℃で行うと教示されている。 大気圧下、加圧下、高圧下で行うこともでき
る。好ましくは大気圧下で加水分解は行われる。 この特許によると、所望のＮ−ホスホノメチル
グリシンは水に溶解させ、PHを１〜２に調節し、
溶液中から結晶析出させ別することにより高純
度で得られると教示している。 米国特許第4427599号の実施例３はとくに、反
応段階(c)、すなわち、段階(b)のホスホネート反応
生成物からのＮ−ホスホノメチルグリシンの調製
を教示している。引用されている収率は僅か
35.49％である。実施例４は、Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシンの他の調製法を教示しているが収率は
僅か64％である。 この発明は、Ｎ−ホスホノメチルグリシンを80
％以上の収率で得る改良された方法に関し、次の
段階を含む： (a) 次式を有するホスホネート （ここに、Ｒ、R1およびR2はC1〜４アルキ
ル）を、温度約55℃から還流温度の間で、水対
ホスホネートのモル比が約10：１から約60：１
の水と、HClとホスホネートのモル比が約２：
１から４：１あるいはそれ以上で加水分解し
て、Ｎ−ホスホノメチルグリシンを得る。 (b) 加水分解の間にあるいはそのあとで、Ｎ−ホ
スホノメチルグリシンの酸性水溶液から有機副
生物および溶媒を除去する。 (c) 次のようにして、Ｎ−ホスホノメチルグリシ
ンの酸性溶液からＮ−ホスホノメチルグリシン
を沈澱させる： (1) 溶液を80℃以下に冷却する。 (2) 溶液のPHを約1.0〜1.8の範囲に上げる。 (3) 溶液を撹拌しながら２〜4ppmのＮ−ホス
ホノメチルグリシンの種を入れる。 (4) 溶液をさらに25℃まで冷却し、1.5時間冷
却と撹拌をする。 (d) 母液から沈澱したＮ−ホスホノメチルグリシ
ンを回収する。 (e) 回収したＮ−ホスホノメチルグリシンを水で
洗浄し、不純物や塩化アンモニウムを除く。 米国特許第4427599号に記載された最后の反応
段階の工業的実施においては、Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシン（PMG）を沈澱する前に段階(b)の反
応生成物に用いられる溶媒や、最后の加水分解反
応の全ての有機副生成物を除去することが必要で
あることが判つた。また、沈澱Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシンを高収率で得るにはＮ−ホスホノメチ
ルグリシンの酸性水溶液のPHはある狭い範囲で上
昇させねばならない。 反応段階(b)の副生物R3Xは除去しなければな
らない。この副生成物は、通常メチルまたはエチ
ルクロライドのような低級アルキルクロライドで
あり、簡単なベンテイング（Venting）で除去で
きる。 好ましくは、反応段階(b)における溶媒（エチレ
ンジクロライド）の大部分（約70重量％まで）
は、最后の加水分解段階(c)に移る前に除去されね
ばならない。好ましくは、薄膜エバポレターのよ
うな装置を有する減圧ストリツピングで除去され
る。残りの溶媒、通常20〜80重量％は、ホスホネ
ート反応物を最后の加水分解段階を移す前に意識
的に除去しない。この残余の溶媒がホスホネート
の粘度を下げ、加水分解段階へのポンプ移送を容
易にする。若干の溶媒がないと、ホセホネートは
非常に粘稠で移送し難い。 加水分解に適した反応容器は、還流塔、撹拌
機、加熱器および冷却器を有している。ホスホネ
ート反応物を完全に加水分解して、Ｎ−ホスホノ
メチルグリシンにするには、少くとも５モルの水
が必要である。 好ましくはさらに追加の水が用いられる。使用
される水の全量は、水対ホスホネートのモル比が
約10：１〜60：１の範囲であり、好ましくは約
25：１〜35：１の範囲であるのに充分なものでな
ければならない。これらのモル比は、実際には、
酸の添加前で、ホスホネートを45〜35重量％含有
する水溶液に相当する。これらは実際のエンジニ
アリングベースで選択され、有機溶媒の蒸留段階
での水のロスやＮ−ホスホノメチルグリシン生成
に要する所要最少限、結晶化工程后のスラリーに
必要な量などを考慮しなければならない。好まし
いプロセスでのスラリー濃度は、20〜３％の固形
Ｎ−ホスホノメチルグリシンを含むものである。 通常の添加順序によると、最初にホスホネー
ト、次いで水が反応器に加えられ、第三番目に
HClが徐々に約50℃以下の温度で加えられる。 次いで、塩化水素酸溶液を徐々に、約80℃以
上、好ましくは100℃、さらに好ましくは還流温
度まで加熱して加水分解を始めさせ、同時に、加
水分解で生じた副生成物の除去も行う。 塩化水素酸溶液の加熱に際しては、反応器に大
きな自由空間を設けて、加水分解中に突然発生す
るガスや残留溶媒の気化に対応するよう留意する
必要がある。 別な方法では、水をホスホネート溶液に添加
し、この混合物を静置してホスホネートの水溶液
相と有機層とを分ける。このとき、有機層は単純
に相分離で分けるのが好ましい。この際若干のホ
スホネートも除去される。これは高収率を得るた
めにはリサイクルされねばならない。しかし、こ
の時有機層を分離するのは必須ではない。有機層
は上述のように加水分解段階中に、揮発性の有機
副生成物とともに除去できる。この場合も適当な
自由空間が必要である。 好ましくは、別法として、加水分解段階では最
初に水および塩化水素酸を加える。次いでこの液
を約90℃以上に加熱する。ホスホネートを徐々
に、一般には約１〜２時間かけて添加する。 好ましい別法では、ホスホネートを前の段階で
用いた溶媒とともに水と塩化水素酸溶液の還流状
態の液に添加する。 好ましい溶媒はエチレンジクロライドで、30重
量％まで、好ましくは約20〜25重量％の間であ
る。 上述のホスホネートの加水分解は、種々の速度
で多数段階で起つていると思われる。 最初の段階では、ホスホネートのC1〜４アル
キルエステル群が約55〜110℃で加水分解され、
相当する２モルのアルコールを出す。たとえば、
メチルエステルは約55〜65℃の温度で加水分解さ
れ、エチルエステルは約75−80℃でエタノールを
出して加水分解される。 次の段階では：(1)アシル部分、
高品質、高収率で得る改良された製造方法に関す
る。 Ｎ−ホスホノメチルグリシンより得られる或る
種の塩は発芽后除草剤として有効である。 ここに引用する米国特許第4427599号は、Ｎ−
ホスホノメチルグリシンの製法に関するもので、
次のことよりなる； (1) １，３，５−トリシアノメチルヘキサヒドロ
−１，３，５−トリアジンをアシルハライド、
とくにアシルクロライドと反応させてアシルハ
ライドのＮ−シアノメチル−Ｎ−ハロ−メチル
アミドを生成させ； (2) これをホスフアイトと反応させて、Ｎ−アシ
ルアミノメチル−Ｎ−シアノメチルホスホネー
トとし；そして、 (3) これを加水分解して、Ｎ−（ホスホノメチル）
−グリシンを得る。 とくに、この先行特許には次の反応経路が示さ
れている： (a) ここに、Ｒはここに定義するような脂肪族
または芳香族基、好ましくはC1〜4アルキル、
とくに好ましくはメチルまたはエチル、Ｘは
塩素、臭素、またはヨウ素、好ましくは塩素
である。 (b) ここに、ＲおよびＸは上に定義したとおり
であり、Ｒ１およびＲ２はともに芳香族基ま
たはともに脂肪族基、好ましくは、Ｒ１およ
びＲ２はＣ1〜6アルキル、より好ましくはＣ
1〜4アルキル、およびＲ３は脂肪族基、好ま
しくはＲ３はＣ1〜6アルキル、より好ましく
はＣ1〜4アルキルまたはＲ３はアルカリ金属
(M)、好ましくはナトリウムまたはカリウムで
ある。 (c) ここに、Ｒ、R1およびR2は上に定義した
とおりであり、Ｈ＋は塩化水素酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸また
はクロム酢酸のような強酸である。好ましく
は、Ｈ＋は塩化水素酸または臭化水素酸であ
る。好ましくは、加水分解は強酸の存在下で
行われる。 米国特許第4427599号は、エチレンクロライド
のような溶媒が(b)段階で使用され、この溶媒は反
応(c)の完了後に除去される。 米国特許第4427599号はまた、反応段階(c)から
のホスホネート反応生成物の１モルは５モルの水
で加水分解される。加水分解は、上記した強酸の
下で行われる。好ましくは加水分解は、酸を触媒
として行われ、少くとも２モルの酸が用いられ、
より好ましくは２モル量よりさらに過剰量が用い
られる。 この最后の反応段階は温度約０〜200℃、好ま
しくは約50〜125℃、さらに好ましくは約100〜
125℃で行うと教示されている。 大気圧下、加圧下、高圧下で行うこともでき
る。好ましくは大気圧下で加水分解は行われる。 この特許によると、所望のＮ−ホスホノメチル
グリシンは水に溶解させ、PHを１〜２に調節し、
溶液中から結晶析出させ別することにより高純
度で得られると教示している。 米国特許第4427599号の実施例３はとくに、反
応段階(c)、すなわち、段階(b)のホスホネート反応
生成物からのＮ−ホスホノメチルグリシンの調製
を教示している。引用されている収率は僅か
35.49％である。実施例４は、Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシンの他の調製法を教示しているが収率は
僅か64％である。 この発明は、Ｎ−ホスホノメチルグリシンを80
％以上の収率で得る改良された方法に関し、次の
段階を含む： (a) 次式を有するホスホネート （ここに、Ｒ、R1およびR2はC1〜４アルキ
ル）を、温度約55℃から還流温度の間で、水対
ホスホネートのモル比が約10：１から約60：１
の水と、HClとホスホネートのモル比が約２：
１から４：１あるいはそれ以上で加水分解し
て、Ｎ−ホスホノメチルグリシンを得る。 (b) 加水分解の間にあるいはそのあとで、Ｎ−ホ
スホノメチルグリシンの酸性水溶液から有機副
生物および溶媒を除去する。 (c) 次のようにして、Ｎ−ホスホノメチルグリシ
ンの酸性溶液からＮ−ホスホノメチルグリシン
を沈澱させる： (1) 溶液を80℃以下に冷却する。 (2) 溶液のPHを約1.0〜1.8の範囲に上げる。 (3) 溶液を撹拌しながら２〜4ppmのＮ−ホス
ホノメチルグリシンの種を入れる。 (4) 溶液をさらに25℃まで冷却し、1.5時間冷
却と撹拌をする。 (d) 母液から沈澱したＮ−ホスホノメチルグリシ
ンを回収する。 (e) 回収したＮ−ホスホノメチルグリシンを水で
洗浄し、不純物や塩化アンモニウムを除く。 米国特許第4427599号に記載された最后の反応
段階の工業的実施においては、Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシン（PMG）を沈澱する前に段階(b)の反
応生成物に用いられる溶媒や、最后の加水分解反
応の全ての有機副生成物を除去することが必要で
あることが判つた。また、沈澱Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシンを高収率で得るにはＮ−ホスホノメチ
ルグリシンの酸性水溶液のPHはある狭い範囲で上
昇させねばならない。 反応段階(b)の副生物R3Xは除去しなければな
らない。この副生成物は、通常メチルまたはエチ
ルクロライドのような低級アルキルクロライドで
あり、簡単なベンテイング（Venting）で除去で
きる。 好ましくは、反応段階(b)における溶媒（エチレ
ンジクロライド）の大部分（約70重量％まで）
は、最后の加水分解段階(c)に移る前に除去されね
ばならない。好ましくは、薄膜エバポレターのよ
うな装置を有する減圧ストリツピングで除去され
る。残りの溶媒、通常20〜80重量％は、ホスホネ
ート反応物を最后の加水分解段階を移す前に意識
的に除去しない。この残余の溶媒がホスホネート
の粘度を下げ、加水分解段階へのポンプ移送を容
易にする。若干の溶媒がないと、ホセホネートは
非常に粘稠で移送し難い。 加水分解に適した反応容器は、還流塔、撹拌
機、加熱器および冷却器を有している。ホスホネ
ート反応物を完全に加水分解して、Ｎ−ホスホノ
メチルグリシンにするには、少くとも５モルの水
が必要である。 好ましくはさらに追加の水が用いられる。使用
される水の全量は、水対ホスホネートのモル比が
約10：１〜60：１の範囲であり、好ましくは約
25：１〜35：１の範囲であるのに充分なものでな
ければならない。これらのモル比は、実際には、
酸の添加前で、ホスホネートを45〜35重量％含有
する水溶液に相当する。これらは実際のエンジニ
アリングベースで選択され、有機溶媒の蒸留段階
での水のロスやＮ−ホスホノメチルグリシン生成
に要する所要最少限、結晶化工程后のスラリーに
必要な量などを考慮しなければならない。好まし
いプロセスでのスラリー濃度は、20〜３％の固形
Ｎ−ホスホノメチルグリシンを含むものである。 通常の添加順序によると、最初にホスホネー
ト、次いで水が反応器に加えられ、第三番目に
HClが徐々に約50℃以下の温度で加えられる。 次いで、塩化水素酸溶液を徐々に、約80℃以
上、好ましくは100℃、さらに好ましくは還流温
度まで加熱して加水分解を始めさせ、同時に、加
水分解で生じた副生成物の除去も行う。 塩化水素酸溶液の加熱に際しては、反応器に大
きな自由空間を設けて、加水分解中に突然発生す
るガスや残留溶媒の気化に対応するよう留意する
必要がある。 別な方法では、水をホスホネート溶液に添加
し、この混合物を静置してホスホネートの水溶液
相と有機層とを分ける。このとき、有機層は単純
に相分離で分けるのが好ましい。この際若干のホ
スホネートも除去される。これは高収率を得るた
めにはリサイクルされねばならない。しかし、こ
の時有機層を分離するのは必須ではない。有機層
は上述のように加水分解段階中に、揮発性の有機
副生成物とともに除去できる。この場合も適当な
自由空間が必要である。 好ましくは、別法として、加水分解段階では最
初に水および塩化水素酸を加える。次いでこの液
を約90℃以上に加熱する。ホスホネートを徐々
に、一般には約１〜２時間かけて添加する。 好ましい別法では、ホスホネートを前の段階で
用いた溶媒とともに水と塩化水素酸溶液の還流状
態の液に添加する。 好ましい溶媒はエチレンジクロライドで、30重
量％まで、好ましくは約20〜25重量％の間であ
る。 上述のホスホネートの加水分解は、種々の速度
で多数段階で起つていると思われる。 最初の段階では、ホスホネートのC1〜４アル
キルエステル群が約55〜110℃で加水分解され、
相当する２モルのアルコールを出す。たとえば、
メチルエステルは約55〜65℃の温度で加水分解さ
れ、エチルエステルは約75−80℃でエタノールを
出して加水分解される。 次の段階では：(1)アシル部分、
【式】が
加水分解を受け、ホスホネートの窒素原子をプロ
トン化し、酸、Ｒ−COOHを生成し、(2)シアノ
メチル部分を２モルの水で加水分解し、アミド、
カルボン酸を生成し、アンモニアを遊離する。こ
れはすぐにHClと反応して塩化アンモニウムとな
る。 次の加水分解段階は約70〜90℃以上で起る。 加水分解は、還流温度、好ましくは105℃以上、
さらに好ましくは約105〜110℃に約３時間加熱し
て完了する。 アルコール（メタノール、エタノール）、エス
テル（メチルアセテート）、クロライド（メチル
クロライド、エチルクロライド）、残留溶媒（エ
チレンジクロライド）等の揮発性有機副生物は、
ホスホネートのＮ−ホスホノメチルグリシンへの
加水分解中あるいは后に、実質的に除去されねば
ならない。これらの揮発性有機物質は、少量の水
とともに反応器からストリツピングにより除去す
ることができる。 驚くべきことに、もしこれらの揮発性有機副生
物や溶媒が、Ｎ−ホスホノメチルグリシンの水溶
液から実質的に除去されないと、固体Ｎ−ホスホ
ノメチルグリシンの沈澱、回収が短時間に高収率
で得られないことが判つた。換言すれば、これら
が残留していれば、沈澱生成を非常に遅くし、細
かい結晶を生成して母液から分離するのが非常に
困難になる。有機副生物を実質的に除去しないと
同時での収率は30〜60％になる。“実質的に除去
する”とは、少くとも50重量％好ましくは約70重
量％以上のことである。 加水分解と有機生成物のストリツピングが完了
した后、Ｎ−ホスホノメチルグリシンの酸溶液
は、熱い間に（80℃以上）加水分解反応器から他
の沈澱容器に緩やかに撹拌しなから移すこともで
きる。しかしながら、同じ容器の中で沈澱させる
方が好ましい。 高収率でＮ−ホスホノメチルグリシンの沈澱を
得るには、次のようにしなければならない：(1)特
定のPH範囲；(2)固形Ｎ−ホスホノメチルグリシン
の核を用いる；(3)熱溶液を60℃以下、好ましくは
約55〜50℃以下に冷却する。 塩化水素酸溶液のPHは、ゼロ近くから、約1.0
〜1.8、好ましくは約1.2〜1.6、最も好ましくは約
1.4に上昇しなければならない。 PHは、塩化水素酸や、酢酸のような酸性副生物
を、水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、有
機アミン、等の強塩基と反応させることにより調
節する。好ましくは、水酸化アンモニウムを用い
て、塩化アンモニウムと水を生成させてPHを調節
する。塩化アンモニウムは、他の塩に比較して非
常に高い水溶性があるので、好ましい強塩基であ
る。塩化アンモニウムの大部分は水に溶け、沈澱
したＮ−ホスホノメチルグリシンの中の不純物と
なるのは極めて少い。 好ましい有機アミンは水溶性の極めて少いもの
である。 好ましくは、PH調節は塩化水素酸溶液の温度を
80℃以下に下げる前に行う。 塩化水素酸や酸性副生物はスチームストリツピ
ングやPMG溶液の沸騰によつても除去できるが、
コストが高いので好ましくない。 もし、PHが上記の範囲に調節されていないと、
Ｎ−ホスホノメチルグリシンはかなりの部分が溶
液中に残り高収率で沈澱することができない。 前述したように、Ｎ−ホスホノメチルグリシン
の塩化水素酸溶液は、固形Ｎ−ホスホノメチルグ
リシンの核を入れて、大きな結晶でかつ高収率で
Ｎ−ホスホノメチルグリシンの沈澱を得ることが
できる。好ましくは、溶液には固形Ｎ−ホスホノ
メチルグリシンを１〜4ppm、より好ましくは１
〜2ppm結晶の種として入れる。種入れは、約80
℃以下、好ましくは約65〜75℃で行う。約80℃以
上で行うと、種結晶が溶解してしまう。もし溶液
に種入れをしないと溶液が室温になるまでは通常
結晶化は始まらない。このように種入れは結晶化
を促進する。 Ｎ−ホスホノメチルグリシンの沈澱は、溶液を
かるく撹拌してもよい。かるい撹拌を与えると、
大きな結晶となり過が容易となる。高いシアの
かかる混合をすると結晶が破壊され、沈澱した結
晶の過が困難となる。 熱溶液が約25℃以下となり、1.5時間以上経過
すると結晶化は実質上完了する。これ以上維持し
ても収量は少し上るだけである。1.5時間を保持
しないと、収量は70〜75％程度である。 沈澱したＮ−ホスホノメチルグリシンは過や
遠心分離により母液から分離される。遠心分離法
は水が少くてすむので好ましい方法である。 分離した結晶は、アンモニウムクロライドなど
の不純物を除くために水洗するのが好ましい。 洗滌液や母液からさらに約２〜３重量％のＮ−
ホスホノメチルグリシンを得ることもできる。こ
れは、 (1) 洗滌液や母液を、塩基、好ましくは水酸化ア
ンモニウムまたは水酸化ナトリウムでPH約７に
中和する； (2) 大部分の水を蒸発させる；そして (3) PHを上記の範囲、好ましくは1.4までHClで
下げ、温度を約60℃以下、好ましくは約55−50
℃より好ましくは約25℃以下に下げる。 本発明方法によると、使用した水の量、調節PH
等にもよるがＮ−ホスホノメチルグリシンを80重
量％以上、代表的には80−90重量％の収率で得ら
れる。この方法によると純度は90〜98％の範囲で
ある。 以下に、実施例により説明する。 実施例 １ 500mlの４ツ首丸底フラスコに、水冷ジヤケツ
トコンデンサー、温度計、250ml集液フラスコを
付けたものに、150ｇの水と150ｇの試薬級HCl液
（37重量％）を加え、混合液を還流下100℃に加熱
する。 この還流混合物に、120ｇの０，０−ジメチル
−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−アセチルアミノメチル
ホスホネート（以下「ホスホネート」という）溶
液（72.5重量％ホスホネート、9.3重量％エチレ
ンクロライドおよび18.2重量％不明物）を滴下ロ
ートを通して、45分間以上をかけて80℃以上の蒸
気温度で添加した。 添加中に溜出分を３つの溜分に集めた： ホスホネート添加の1/2、2/3および終了時。そ
れぞれ、7.8ｇ、12.8ｇおよび21.1ｇが集められ
た。分液ロートで相分離させ、有機層（下層）を
秤量し、分析した。結果は次のとおり： （％は重量％による） 第１カツト、1.7ｇ （80.4％EDC、1.4％メタノール） 第２カツト、4.8ｇ （49.7％EDC、4.9％メタノール） 第３カツト、9.4ｇ （35.3％EDC、6.3％メタノール） 反応混合物の温度は、43.1ｇの溜出液を集める
までに100から109℃に上昇した。この温度（109
℃）で反応は全還流方式に替え、そして29重量％
水酸化アンモニウムの50ｇを、滴下ロートからゆ
つくり15分以上かけて滴下した。 反応混合物は、緩やかに撹拌して80℃に冷却し
た。混合物のPHは、温度補正電極を有する標準PH
メーターで測定し、水酸化アンモニウムの適量を
用いて1.2から1.4に上昇させた。 PH調節后、数ミリグラムの固形Ｎ−ホスホノメ
チルグリシンで種入れし、緩い撹拌下に室温まで
冷却した。温度が60℃になつたとき固形結晶が突
然生成し、反応混合物はスラリー状となつた。 室温で１時間経過したのち、清浄で乾燥した。
あらかじめ秤量した500mlのガラスロート
（medium frited glass funnel）で減圧過した。
母液は259.2ｇであつた。 過ケーキを150ｇの水で洗滌し、この洗滌水
は３回ケーキ上を循環した。178.3ｇの洗滌水が
集つた。 ケーキがのつたロートを、減圧オーブンで一夜
乾燥（50℃、26インチHg）し、秤量した。 乾燥ケーキ（58.3ｇ）を回収し、均一化し、微
細な白色粉の試料とする。 分析結果によると、この粉状体は93.9重量％の
Ｎ−ホスホノメチルグリシンを含み、ホスホネー
トからの全収率は82％であることが判つた。 実施例 ２ 500mlの４ツ首丸底フラスコで、水冷ジヤケツ
トコンデンサー、温度計および250mlの集液フラ
スコを設けたものに115ｇの77.2重量％ホスホネ
ート液と150ｇの水とを混合する。この混合物に
150ｇの試薬級HCl液（37重量％）を滴下ロート
を経て、ゆつくり20分以上かけて、温度50℃以下
を保つて滴下する。 この混合物を３時間以上かけて、50℃から105
℃へ昇温する。この間、反応につれてメタノール
が発生し、残留エチレンジクロライドが溜出し、
集液される。溶液は65℃で沸騰し始める。 105℃になつたとき、コンデンサーを切り替え
て、３時間全還流とする。凝縮液はまた10分間集
液される。全部で61.8ｇの溜出液を得た。反応液
はそれから70℃に冷却し、溶液は29重量％水酸化
アンモニウムの45.3ｇを滴下ロートから徐々に加
えて、PH1.4に調節した。数ミリグラムの固形Ｎ
−ホスホノメチルグリシンで溶液を種入れし、室
温まで冷却した。64℃で結晶化が始まつた。この
スラリーを25℃で約１時間撹拌し、直径６インチ
の実験室遠心分離機で固形物を分離した。乾燥布
を有するボールはあらかじめ秤量しておいた。
200〜300rpmで回転するボールにスラリーを入れ
る。液を反応器にリサイクルして全ての固形分
を分離した。 次に回転数を800〜900rpmに上げ、15分間回転
し、310ｇの固形分を得た。 ケーキを次いで低速（300rpm）で150ｇの水で
洗滌した。水は250mlのプラスチツクボトルから
ケーキの上にスプレーした。水は２回リサイクル
し、900rpmに上昇し、乾燥ケーキと155ｇの水を
集めた。 ケーキはボールごと減圧オーブンで一晩乾燥し
た（50℃、26インチHg）。 乾燥固形物をボールより外し、均一化して試料
とする。 分析結果によると、固形物は97.8重量％のＮ−
ホスホノメチルグリシンを含み、ホスホネートか
らの全収量は85％であつた。 実施例 ３ 実施例２と同様の装置と方法で行つた。 ホスホネートの溶液（127ｇ、69.2重量％）を
150ｇの水と混合する。試薬級のHCl（150ｇ）を
滴下ロートを経て、９分間以上かけて滴下、温度
は25℃から37℃に上昇する。この混合物を還流温
度で4.3時間加温する。 反応終了后（105℃で３時間還流）、凝縮液は集
液され、反応混合物は70℃に冷却される。 次いで、500ｇのアラミン（ALAMINE）
336（登録商標）、（水不溶性、対称性C8〜10アル
キル直鎖第三級アミン）を添加した。混合物を65
℃で５分間撹拌する。次いで加熱分液ロートに移
す。２相は85℃で10分間分離した。 若干の固形物を含む水相（下層）はビーカーに
移され、PHを試薬級HCl（37重量％）の33.5ｇを
徐々に加えて3.3から1.48に調節する。65℃でよ
り多くの固形物が生成した。これを室温まで冷却
し、適当に撹拌して一時間保ち、過し、50ｇの
トルエンで洗い、実施例１のように乾燥した。 乾燥固形分（66.9ｇ）を得た。これは87.9重量
％のＮ−ホスホノメチルグリシンを含み、85％の
全体収率であつた。 実施例 ４ 揮発性有機副生物をスチームスパージングで除
く他は、実施例２と同じ装置、方法で同様の実験
を行つた。 ホスホネート溶液（132ｇ、65.9重量％）を150
ｇの水と混合した。次いで150ｇの試薬級HClを
徐々に添加した。 反応混合物の温度が107℃に達したとき、過熱
水蒸気を吹き込み、温度を110℃とする。 反応混合物を80℃に冷却し、43.2ｇの水酸化ア
ンモニウムでPHを1.2に調節する。種入れし、室
温で１時間冷却する。 固形分は分離し、洗滌し、実施例１のようにし
て乾燥する。 乾燥固形分（65ｇ）を得た。これは94.46重量
％のＮ−ホスホノメチルグリシンを含み、全体収
量90％であつた。 実施例 ５ 揮発性の有機副生物を加水分解段階中に除去し
た以外は、実施例２と同様に実験した。 還流期間の後、反応混合物を１時間真空度調節
下（水銀柱12.7cm以上）に放置して80℃まで温度
が下がるのにまかせた。この間に100ｇの留出物
が捕収された。 熱い反応混合物に清浄水（100ｇ）を加えると
固体は結晶化した。これを分離し、洗浄し、実施
例４のように乾燥した。 乾燥固形分（58.1ｇ）を得た。これは96.1重量
％のＮ−ホスホノメチルグリシンを含み、85％の
全体収率であつた。 実施例 ６ 揮発性の有機副生物を加水分解段階中またはそ
の后で除去しなかつたこと以外は、実施例２と同
様の装置および方法で同様の実験を行つた。 加水分解反応は、86℃での還流温度で４時間行
つた。この反応終了后、58.5ｇの水酸化アンモニ
ウムで反応混合物のPHを1.5に調節した。温度は
65℃であつた。 溶液を室温まで冷却し、２時間保つた。得られ
た固形物は、極めて僅かであつた。 母液を一晩放置し、17時間后に、若干の固形分
が見られた。これを過、水洗して実施例４と同
様にして乾燥した。 19.2ｇの乾燥固形分が得られた。実施例２の60
ｇに比べると非常に少い。母液からは数週間にわ
たり固形分が分離し続けた。結晶化の速度が非常
に遅いことが判る。 実施例 ７ 250mlの３ツ首丸底フラスコで、磁気撹拌機、
還流コンデンサー、温度計、分溜塔を設けたもの
を窒素でフラツシユしたのち、０，０−ジメチル
Ｎ−アセチル−Ｎ−シアノメチルアミノメチルホ
スホネート（80.5重量％）の41.06ｇを60mlの水
に溶解した溶液を調製した。濃厚塩酸（29ml、46
ｇ、454モル）を加え、還流コンデンサーは止め、
混合物を沸点まで加熱した。揮発物は反応器から
溜出するにまかせ、塔頂部は95℃（ポツト107℃）
であつた。蒸溜ヘツドを外し、還流コンデンサー
は作動を始めた。混合物は還流温度に約４時間加
熱した（ポツト107〜110℃）。混合物を約70℃に
冷却し、濃厚水酸化アンモニウムの14.0ｇ（231
モル）で中和し、最終PHは70℃で1.0であつた。
この段階では、混合物は均一で黒褐色であつた。
これを20℃に冷却し、２時間撹拌したのち、生成
物は別して集められた。集めた固形分は25mlの
氷冷水で洗滌し、40℃で一夜減圧乾燥し、23.71
ｇのＮ−ホスホノメチルグリシンを得た。（分析
値は95.6wt％、134モル、89.3修正収率）。この方
法は全部で５回行つている。平均収率は89.1±
1.7％であつた。
トン化し、酸、Ｒ−COOHを生成し、(2)シアノ
メチル部分を２モルの水で加水分解し、アミド、
カルボン酸を生成し、アンモニアを遊離する。こ
れはすぐにHClと反応して塩化アンモニウムとな
る。 次の加水分解段階は約70〜90℃以上で起る。 加水分解は、還流温度、好ましくは105℃以上、
さらに好ましくは約105〜110℃に約３時間加熱し
て完了する。 アルコール（メタノール、エタノール）、エス
テル（メチルアセテート）、クロライド（メチル
クロライド、エチルクロライド）、残留溶媒（エ
チレンジクロライド）等の揮発性有機副生物は、
ホスホネートのＮ−ホスホノメチルグリシンへの
加水分解中あるいは后に、実質的に除去されねば
ならない。これらの揮発性有機物質は、少量の水
とともに反応器からストリツピングにより除去す
ることができる。 驚くべきことに、もしこれらの揮発性有機副生
物や溶媒が、Ｎ−ホスホノメチルグリシンの水溶
液から実質的に除去されないと、固体Ｎ−ホスホ
ノメチルグリシンの沈澱、回収が短時間に高収率
で得られないことが判つた。換言すれば、これら
が残留していれば、沈澱生成を非常に遅くし、細
かい結晶を生成して母液から分離するのが非常に
困難になる。有機副生物を実質的に除去しないと
同時での収率は30〜60％になる。“実質的に除去
する”とは、少くとも50重量％好ましくは約70重
量％以上のことである。 加水分解と有機生成物のストリツピングが完了
した后、Ｎ−ホスホノメチルグリシンの酸溶液
は、熱い間に（80℃以上）加水分解反応器から他
の沈澱容器に緩やかに撹拌しなから移すこともで
きる。しかしながら、同じ容器の中で沈澱させる
方が好ましい。 高収率でＮ−ホスホノメチルグリシンの沈澱を
得るには、次のようにしなければならない：(1)特
定のPH範囲；(2)固形Ｎ−ホスホノメチルグリシン
の核を用いる；(3)熱溶液を60℃以下、好ましくは
約55〜50℃以下に冷却する。 塩化水素酸溶液のPHは、ゼロ近くから、約1.0
〜1.8、好ましくは約1.2〜1.6、最も好ましくは約
1.4に上昇しなければならない。 PHは、塩化水素酸や、酢酸のような酸性副生物
を、水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、有
機アミン、等の強塩基と反応させることにより調
節する。好ましくは、水酸化アンモニウムを用い
て、塩化アンモニウムと水を生成させてPHを調節
する。塩化アンモニウムは、他の塩に比較して非
常に高い水溶性があるので、好ましい強塩基であ
る。塩化アンモニウムの大部分は水に溶け、沈澱
したＮ−ホスホノメチルグリシンの中の不純物と
なるのは極めて少い。 好ましい有機アミンは水溶性の極めて少いもの
である。 好ましくは、PH調節は塩化水素酸溶液の温度を
80℃以下に下げる前に行う。 塩化水素酸や酸性副生物はスチームストリツピ
ングやPMG溶液の沸騰によつても除去できるが、
コストが高いので好ましくない。 もし、PHが上記の範囲に調節されていないと、
Ｎ−ホスホノメチルグリシンはかなりの部分が溶
液中に残り高収率で沈澱することができない。 前述したように、Ｎ−ホスホノメチルグリシン
の塩化水素酸溶液は、固形Ｎ−ホスホノメチルグ
リシンの核を入れて、大きな結晶でかつ高収率で
Ｎ−ホスホノメチルグリシンの沈澱を得ることが
できる。好ましくは、溶液には固形Ｎ−ホスホノ
メチルグリシンを１〜4ppm、より好ましくは１
〜2ppm結晶の種として入れる。種入れは、約80
℃以下、好ましくは約65〜75℃で行う。約80℃以
上で行うと、種結晶が溶解してしまう。もし溶液
に種入れをしないと溶液が室温になるまでは通常
結晶化は始まらない。このように種入れは結晶化
を促進する。 Ｎ−ホスホノメチルグリシンの沈澱は、溶液を
かるく撹拌してもよい。かるい撹拌を与えると、
大きな結晶となり過が容易となる。高いシアの
かかる混合をすると結晶が破壊され、沈澱した結
晶の過が困難となる。 熱溶液が約25℃以下となり、1.5時間以上経過
すると結晶化は実質上完了する。これ以上維持し
ても収量は少し上るだけである。1.5時間を保持
しないと、収量は70〜75％程度である。 沈澱したＮ−ホスホノメチルグリシンは過や
遠心分離により母液から分離される。遠心分離法
は水が少くてすむので好ましい方法である。 分離した結晶は、アンモニウムクロライドなど
の不純物を除くために水洗するのが好ましい。 洗滌液や母液からさらに約２〜３重量％のＮ−
ホスホノメチルグリシンを得ることもできる。こ
れは、 (1) 洗滌液や母液を、塩基、好ましくは水酸化ア
ンモニウムまたは水酸化ナトリウムでPH約７に
中和する； (2) 大部分の水を蒸発させる；そして (3) PHを上記の範囲、好ましくは1.4までHClで
下げ、温度を約60℃以下、好ましくは約55−50
℃より好ましくは約25℃以下に下げる。 本発明方法によると、使用した水の量、調節PH
等にもよるがＮ−ホスホノメチルグリシンを80重
量％以上、代表的には80−90重量％の収率で得ら
れる。この方法によると純度は90〜98％の範囲で
ある。 以下に、実施例により説明する。 実施例 １ 500mlの４ツ首丸底フラスコに、水冷ジヤケツ
トコンデンサー、温度計、250ml集液フラスコを
付けたものに、150ｇの水と150ｇの試薬級HCl液
（37重量％）を加え、混合液を還流下100℃に加熱
する。 この還流混合物に、120ｇの０，０−ジメチル
−Ｎ−シアノメチル−Ｎ−アセチルアミノメチル
ホスホネート（以下「ホスホネート」という）溶
液（72.5重量％ホスホネート、9.3重量％エチレ
ンクロライドおよび18.2重量％不明物）を滴下ロ
ートを通して、45分間以上をかけて80℃以上の蒸
気温度で添加した。 添加中に溜出分を３つの溜分に集めた： ホスホネート添加の1/2、2/3および終了時。そ
れぞれ、7.8ｇ、12.8ｇおよび21.1ｇが集められ
た。分液ロートで相分離させ、有機層（下層）を
秤量し、分析した。結果は次のとおり： （％は重量％による） 第１カツト、1.7ｇ （80.4％EDC、1.4％メタノール） 第２カツト、4.8ｇ （49.7％EDC、4.9％メタノール） 第３カツト、9.4ｇ （35.3％EDC、6.3％メタノール） 反応混合物の温度は、43.1ｇの溜出液を集める
までに100から109℃に上昇した。この温度（109
℃）で反応は全還流方式に替え、そして29重量％
水酸化アンモニウムの50ｇを、滴下ロートからゆ
つくり15分以上かけて滴下した。 反応混合物は、緩やかに撹拌して80℃に冷却し
た。混合物のPHは、温度補正電極を有する標準PH
メーターで測定し、水酸化アンモニウムの適量を
用いて1.2から1.4に上昇させた。 PH調節后、数ミリグラムの固形Ｎ−ホスホノメ
チルグリシンで種入れし、緩い撹拌下に室温まで
冷却した。温度が60℃になつたとき固形結晶が突
然生成し、反応混合物はスラリー状となつた。 室温で１時間経過したのち、清浄で乾燥した。
あらかじめ秤量した500mlのガラスロート
（medium frited glass funnel）で減圧過した。
母液は259.2ｇであつた。 過ケーキを150ｇの水で洗滌し、この洗滌水
は３回ケーキ上を循環した。178.3ｇの洗滌水が
集つた。 ケーキがのつたロートを、減圧オーブンで一夜
乾燥（50℃、26インチHg）し、秤量した。 乾燥ケーキ（58.3ｇ）を回収し、均一化し、微
細な白色粉の試料とする。 分析結果によると、この粉状体は93.9重量％の
Ｎ−ホスホノメチルグリシンを含み、ホスホネー
トからの全収率は82％であることが判つた。 実施例 ２ 500mlの４ツ首丸底フラスコで、水冷ジヤケツ
トコンデンサー、温度計および250mlの集液フラ
スコを設けたものに115ｇの77.2重量％ホスホネ
ート液と150ｇの水とを混合する。この混合物に
150ｇの試薬級HCl液（37重量％）を滴下ロート
を経て、ゆつくり20分以上かけて、温度50℃以下
を保つて滴下する。 この混合物を３時間以上かけて、50℃から105
℃へ昇温する。この間、反応につれてメタノール
が発生し、残留エチレンジクロライドが溜出し、
集液される。溶液は65℃で沸騰し始める。 105℃になつたとき、コンデンサーを切り替え
て、３時間全還流とする。凝縮液はまた10分間集
液される。全部で61.8ｇの溜出液を得た。反応液
はそれから70℃に冷却し、溶液は29重量％水酸化
アンモニウムの45.3ｇを滴下ロートから徐々に加
えて、PH1.4に調節した。数ミリグラムの固形Ｎ
−ホスホノメチルグリシンで溶液を種入れし、室
温まで冷却した。64℃で結晶化が始まつた。この
スラリーを25℃で約１時間撹拌し、直径６インチ
の実験室遠心分離機で固形物を分離した。乾燥布
を有するボールはあらかじめ秤量しておいた。
200〜300rpmで回転するボールにスラリーを入れ
る。液を反応器にリサイクルして全ての固形分
を分離した。 次に回転数を800〜900rpmに上げ、15分間回転
し、310ｇの固形分を得た。 ケーキを次いで低速（300rpm）で150ｇの水で
洗滌した。水は250mlのプラスチツクボトルから
ケーキの上にスプレーした。水は２回リサイクル
し、900rpmに上昇し、乾燥ケーキと155ｇの水を
集めた。 ケーキはボールごと減圧オーブンで一晩乾燥し
た（50℃、26インチHg）。 乾燥固形物をボールより外し、均一化して試料
とする。 分析結果によると、固形物は97.8重量％のＮ−
ホスホノメチルグリシンを含み、ホスホネートか
らの全収量は85％であつた。 実施例 ３ 実施例２と同様の装置と方法で行つた。 ホスホネートの溶液（127ｇ、69.2重量％）を
150ｇの水と混合する。試薬級のHCl（150ｇ）を
滴下ロートを経て、９分間以上かけて滴下、温度
は25℃から37℃に上昇する。この混合物を還流温
度で4.3時間加温する。 反応終了后（105℃で３時間還流）、凝縮液は集
液され、反応混合物は70℃に冷却される。 次いで、500ｇのアラミン（ALAMINE）
336（登録商標）、（水不溶性、対称性C8〜10アル
キル直鎖第三級アミン）を添加した。混合物を65
℃で５分間撹拌する。次いで加熱分液ロートに移
す。２相は85℃で10分間分離した。 若干の固形物を含む水相（下層）はビーカーに
移され、PHを試薬級HCl（37重量％）の33.5ｇを
徐々に加えて3.3から1.48に調節する。65℃でよ
り多くの固形物が生成した。これを室温まで冷却
し、適当に撹拌して一時間保ち、過し、50ｇの
トルエンで洗い、実施例１のように乾燥した。 乾燥固形分（66.9ｇ）を得た。これは87.9重量
％のＮ−ホスホノメチルグリシンを含み、85％の
全体収率であつた。 実施例 ４ 揮発性有機副生物をスチームスパージングで除
く他は、実施例２と同じ装置、方法で同様の実験
を行つた。 ホスホネート溶液（132ｇ、65.9重量％）を150
ｇの水と混合した。次いで150ｇの試薬級HClを
徐々に添加した。 反応混合物の温度が107℃に達したとき、過熱
水蒸気を吹き込み、温度を110℃とする。 反応混合物を80℃に冷却し、43.2ｇの水酸化ア
ンモニウムでPHを1.2に調節する。種入れし、室
温で１時間冷却する。 固形分は分離し、洗滌し、実施例１のようにし
て乾燥する。 乾燥固形分（65ｇ）を得た。これは94.46重量
％のＮ−ホスホノメチルグリシンを含み、全体収
量90％であつた。 実施例 ５ 揮発性の有機副生物を加水分解段階中に除去し
た以外は、実施例２と同様に実験した。 還流期間の後、反応混合物を１時間真空度調節
下（水銀柱12.7cm以上）に放置して80℃まで温度
が下がるのにまかせた。この間に100ｇの留出物
が捕収された。 熱い反応混合物に清浄水（100ｇ）を加えると
固体は結晶化した。これを分離し、洗浄し、実施
例４のように乾燥した。 乾燥固形分（58.1ｇ）を得た。これは96.1重量
％のＮ−ホスホノメチルグリシンを含み、85％の
全体収率であつた。 実施例 ６ 揮発性の有機副生物を加水分解段階中またはそ
の后で除去しなかつたこと以外は、実施例２と同
様の装置および方法で同様の実験を行つた。 加水分解反応は、86℃での還流温度で４時間行
つた。この反応終了后、58.5ｇの水酸化アンモニ
ウムで反応混合物のPHを1.5に調節した。温度は
65℃であつた。 溶液を室温まで冷却し、２時間保つた。得られ
た固形物は、極めて僅かであつた。 母液を一晩放置し、17時間后に、若干の固形分
が見られた。これを過、水洗して実施例４と同
様にして乾燥した。 19.2ｇの乾燥固形分が得られた。実施例２の60
ｇに比べると非常に少い。母液からは数週間にわ
たり固形分が分離し続けた。結晶化の速度が非常
に遅いことが判る。 実施例 ７ 250mlの３ツ首丸底フラスコで、磁気撹拌機、
還流コンデンサー、温度計、分溜塔を設けたもの
を窒素でフラツシユしたのち、０，０−ジメチル
Ｎ−アセチル−Ｎ−シアノメチルアミノメチルホ
スホネート（80.5重量％）の41.06ｇを60mlの水
に溶解した溶液を調製した。濃厚塩酸（29ml、46
ｇ、454モル）を加え、還流コンデンサーは止め、
混合物を沸点まで加熱した。揮発物は反応器から
溜出するにまかせ、塔頂部は95℃（ポツト107℃）
であつた。蒸溜ヘツドを外し、還流コンデンサー
は作動を始めた。混合物は還流温度に約４時間加
熱した（ポツト107〜110℃）。混合物を約70℃に
冷却し、濃厚水酸化アンモニウムの14.0ｇ（231
モル）で中和し、最終PHは70℃で1.0であつた。
この段階では、混合物は均一で黒褐色であつた。
これを20℃に冷却し、２時間撹拌したのち、生成
物は別して集められた。集めた固形分は25mlの
氷冷水で洗滌し、40℃で一夜減圧乾燥し、23.71
ｇのＮ−ホスホノメチルグリシンを得た。（分析
値は95.6wt％、134モル、89.3修正収率）。この方
法は全部で５回行つている。平均収率は89.1±
1.7％であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次のことからなる80％以上の収率でＮ−ホス
ホノメチルグリシンを製造する改良法： (a) 次式を有するホスホネート （ここに、Ｒ、R1およびR2はC1〜4アルキル）、
を約55℃から還流温度の間で、水対ホスホネー
トのモル比が約10：１〜60：１の水と、HCl対
ホスホネートのモル比が約２：１〜４：１ある
いはそれ以上のHClの存在下で分解して、Ｎ−
ホスホノメチルグリシンの酸性水溶液を得る； (b) 加水分解段階の間に、あるいはその后で、Ｎ
−ホスホノメチルグリシンの酸性水溶液から揮
発性有機副生成物および有機溶媒を除去する； (c) Ｎ−ホスホノメチルグリシンの酸性水溶液か
ら次のようにしてＮ−ホスホノメチルグリシン
を沈殿させる： (1) 水溶液を約80℃以下に冷却する； (2) 溶液のPHを約1.0〜1.8の範囲に上昇させ
る； (3) 溶液を撹拌しながら、固体のＮ−ホスホノ
メチルグリシンの２〜4ppmで種入れする； (4) 溶液を撹拌を続けながら約25℃にさらに冷
却し、約1.5時間冷却する； (d) 母液から沈澱したＮ−ホスホノメチルグリシ
ンを回収する； そして、 (e) 回収したＮ−ホスホノメチルグリシンを水で
洗滌して、不純物や塩化アンモニウムを除く。 ２ Ｒ、R1およびR2がＣ１〜2アルキルであり、
該PH調節は約1.2〜1.6の範囲になされ、水の量は
モル比が約25：１〜35：１になる様な量であり、
HClはHCl対ホスホネートのモル比が約３：１〜
3.5：１になるような量であるところの特許請求
の範囲第１項の方法。 ３ Ｒ、R1およびR2が全てメチルであり、PH調
節が約1.2〜1.6の範囲に上昇される特許請求の範
囲第２項の方法。 ４ 加水分解段階は、ホスホネートをHClと水の
溶液に約90℃以上の温度で徐々に添加して行う特
許請求の範囲第１項の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US61720984A | 1984-06-04 | 1984-06-04 | |
| US617209 | 1984-06-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS611695A JPS611695A (ja) | 1986-01-07 |
| JPH057397B2 true JPH057397B2 (ja) | 1993-01-28 |
Family
ID=24472709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60119874A Granted JPS611695A (ja) | 1984-06-04 | 1985-06-04 | Ｎ‐ホスホノメチルグリシンの製造方法 |
Country Status (12)
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|---|---|
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| JP (1) | JPS611695A (ja) |
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