JPH057240Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は縦形CVD装置を用いて低温酸化膜
（LTO）、ドープポリシリコン等の薄膜形成を行
う時に用いる石英ホルダに関する。

〔従来の技術〕

LTO，PSG、リンドープポリシリコン等の薄
膜を減圧CVD法によつて形成する場合には、石
英製ホルダを用いているが、膜厚分布の均一性を
得るために反応管とホルダの隙間を10mm以下に抑
えている。

第３図は縦形CVD装置における反応管１と円
形状のホルダ２の位置関係を示したものである。

反応管１とホルダ２の隙間をＬ１で示し、ホル
ダ２を支持している石英ボート１１（第１図参
照）の支持棒３と反応管１の隙間をＬ２で示して
ある。ここでＬ１は約10mm、Ｌ２は約５mmであ
る。

石英ボート１１には約40枚のホルダ２が装着さ
れるが、ボート１１の長さは約800mmであり、垂
直に立たせたいわゆる縦形の場合においてＬ２が
５mmの場合、ボート１１の支持棒３と反応管１の
内壁が接触する心配がある。

特にボート１１を回転して使用する場合にはボ
ート１１の垂直度が重要であるが、ボート１１は
石英部品であるため加工精度を抑えるのが難し
く、使用中の摩耗を考慮すると、実用面でＬ２を
大きくする必要があつた。

〔考案が解決しようとする問題点〕

上記のように従来の円形状石英ホルダでは、ボ
ート１１の支持棒３と反応管１の内壁が接触する
おそれがあるため、ボート１１の支持棒３と反応
管１の隙間Ｌ２を大きくする必要があり、当然の
ことながら反応管１とホルダ２の隙間Ｌ１も大き
くなり、膜厚分布の均一性を得ることができなく
なるという問題点があつた。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案の目的は上記の問題点を解決するため、
石英ホルダ２と反応管１の隙間Ｌ１を変えること
なしにボート１１の支持棒３と反応管１の隙間Ｌ
２を大きくすることにある。

即ち、本考案石英ホルダは、第２図示のように
縦形CVD装置に用いられる石英ホルダ２におい
て、このホルダ２を支持する石英ボート１１の支
持棒の位置をホルダの中心Ｏ部に寄せるために必
要な切り欠き４を設けてなる構成としたものであ
る。

〔作用〕

このような構成とすることによりボート１１の
支持棒３をホルダ２の中心Ｏ部に向かつて寄せた
小形のボート構造にできるため、当該ボート１１
の支持棒３にホルダ２の切り欠き４を保持するこ
とができる。

そのため、支持棒３と反応管１の隙間Ｌ２を、
寄せた分だけ大きくでき、支持棒３と反応管１が
接触するようなおそれはない。

〔実施例〕

以下図面によつて本考案の実施際を説明する。

第１図は本考案石英ホルダを用いた縦形CVD
装置の一例を示す簡略斜視図、第２図は本考案石
英ホルダの一実施例と反応管、ボートの位置関係
を示す横断面図である。

本実施例では、第２図示のようにボート１１を
構成する４本の支持棒３の位置を、これに保持さ
れるホルダ２の中心Ｏ部に寄せ、かつ各支持棒３
が石英ホルダ２の外周より内側に入るような切り
欠き４を設けてなるものである。

換言すれば、ホルダ２に４個の切り欠き４を設
けることにより、第２図示のようにボート１１の
４本の支持棒３をホルダ２の中心Ｏ部に向かつて
寄せた小形のボート構造にできるため、当該ボー
ト１１の各支持棒３にホルダ２の各切り欠き４を
保持することができる。

そのため、各支持棒３と反応管１の隙間Ｌ２を
寄せた分だけ大きくできる。第２図例ではＬ２＝
Ｌ１になるようにしてある。また、ホルダ２は矢
印ａで示す方向から各支持棒３に装着できるよう
に４つの切り欠き４を備えている例を示してい
る。

上記のように石英製ホルダ２と反応管１の隙間
Ｌ１を変えることなしにボート１１の支持棒３と
反応管１の隙間Ｌ２を大きくすることができるた
め、ボート１１の支持棒３が反応管１に接触する
おそれがなくなり、石英ボート１１の反応管１内
への出し入れを容易にできる。

実際、本実施例による石英製ホルダを用いて
LTO，PSGなどの薄膜を形成した結果、均一性
の良い膜厚分布が得られることが判明した。

次に第１図の縦形CVD装置について概要を説
明する。

本考案の石英ホルダを載せた石英ボート１１
は、昇降機構部の石英製ボート支持台１０の上に
置かれている。石英ボート１１にはホルダ２を約
1°の傾きで挿入出来るように斜めに溝が切られて
いる。石英ボート１１の各溝には約40枚の石英ホ
ルダ２を装填する。石英ホルダ２は約２mmの厚さ
で表面及び裏面は＃1200の粗さに仕上げられてい
る。LTO，PSG生成の際にはホルダ２上に装着
されたウエーハと対向するホルダ２の間隔が15〜
20mmとなるように、ボート１１に溝が切られてい
る。ホルダ１１上へのウエーハの装着はウエーハ
搬送機構５を用いて自動的に行われる。

第１図において本考案の石英ホルダーはボート
１１上に装着されている。ウエーハの石英ホルダ
２上への装着過程は、ウエーハカセツト６より１
枚ずつウエーハ搬送機構５を用いて石英ホルダ１
１上に移載される。１枚のウエーハの移載が終わ
ると昇降機構７によりボート１１が上下方向に移
動し次のウエーハの移載が継続して行われる。ホ
ルダ１１への全ての移載が終了するとボート移載
機構９を用いて反応室１２側へボート１１が移動
し、ボート昇降機構８により反応室１２へボート
１１が移動する。この反応室１２内でウエーハの
表面にCVD膜を生成する。ウエーハの取出しは
上記の逆の過程を経て取り出され、ウエーハカセ
ツト６内に１枚ずつ収納されることになる。

〔考案の効果〕

上記の説明から明らかなように本考案によれ
ば、石英ホルダ２と反応管１の隙間Ｌ１を変える
ことなしに石英ボート１１の支持棒３と反応管１
の内壁の隙間Ｌ２を大きくできるので、膜厚分布
の均一性を得ることができるばかりでなく、ボー
ト１１の反応室１２内への搬入、搬出が容易に行
えるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案石英ホルダを用いた縦形CVD
装置の一例を示す簡略斜視図、第２図は本考案石
英ホルダの一実施例と反応管、ボートの位置関係
を示す横断面図、第３図は従来の石英ホルダの一
例と反応管、ボートの位置関係を示す横断面図で
ある。 １……反応管、２……石英ホルダ、３……支持
棒、４……切り欠き。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 縦形CVD装置に用いられる石英ホルダにおい
   て、このホルダを支持する支持部を有した石英ボ
   ートの支持棒の位置をホルダの中心部に寄せ、か
   つ支持棒が石英ホルダの外周より内側に入る様な
   切り欠きを設けてなる縦形CVD膜用石英ホルダ。