JPH0572120A - 赤外顕微測定装置 - Google Patents
赤外顕微測定装置Info
- Publication number
- JPH0572120A JPH0572120A JP6897691A JP6897691A JPH0572120A JP H0572120 A JPH0572120 A JP H0572120A JP 6897691 A JP6897691 A JP 6897691A JP 6897691 A JP6897691 A JP 6897691A JP H0572120 A JPH0572120 A JP H0572120A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- sample
- light
- image
- infrared
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- Pending
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 赤外顕微測定装置で試料上の測定位置の目視
による設定作業を容易にする。 【構成】 顕微鏡の対物鏡像面に設置される視野制限マ
スク７を可視光に対し透明で赤外光に対し不透明な材料
で構成した。このため試料像の全体を見ながらマスク開
口の位置設定ができるので、設定作業が容易になる。
による設定作業を容易にする。 【構成】 顕微鏡の対物鏡像面に設置される視野制限マ
スク７を可視光に対し透明で赤外光に対し不透明な材料
で構成した。このため試料像の全体を見ながらマスク開
口の位置設定ができるので、設定作業が容易になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は試料の微小部分の赤外分
光分析等を行う赤外顕微測定装置に関する。
光分析等を行う赤外顕微測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】試料の微小部分の赤外線吸収等の測定
は、試料を赤外光で照明し、赤外顕微鏡の像面に視野制
限マスクを置いて試料像面で測定したい部分以外の部分
を覆い、測定しようとする部分からの赤外光のみを取り
出して測定する。このためマスクの開口を試料像面の目
的場所に位置決めする必要があるが、赤外光は見えない
ので、可視光による試料像を形成し、可視光像の上でマ
スクの位置決めを行う必要がある。
は、試料を赤外光で照明し、赤外顕微鏡の像面に視野制
限マスクを置いて試料像面で測定したい部分以外の部分
を覆い、測定しようとする部分からの赤外光のみを取り
出して測定する。このためマスクの開口を試料像面の目
的場所に位置決めする必要があるが、赤外光は見えない
ので、可視光による試料像を形成し、可視光像の上でマ
スクの位置決めを行う必要がある。
【０００３】所で上述した可視光像の上でマスクの位置
決めを行う場合、従来はマスクとして金属のような赤外
光も可視光も透過させない材料で作られたものを用いて
いたので、マスク位置決めの場合、可視光像のマスク開
口部だけしか見えず、マスク開口部を通して見えている
部分が試料像全体の中でどのような状態の場所かが直接
的に分からず、測定したい場所にマスクの開口を持って
行く作業が困難であった。
決めを行う場合、従来はマスクとして金属のような赤外
光も可視光も透過させない材料で作られたものを用いて
いたので、マスク位置決めの場合、可視光像のマスク開
口部だけしか見えず、マスク開口部を通して見えている
部分が試料像全体の中でどのような状態の場所かが直接
的に分からず、測定したい場所にマスクの開口を持って
行く作業が困難であった。
【０００４】上述した困難を回避するため、顕微鏡の光
路を２分割して、試料像を二つ形成し、その一方にマス
クを置くようにし、他方をマスク位置決め専用とし、両
方の像を同時に重ねて見られるようにした装置も提案さ
れている。この装置ではマスクされた像とマスクなしの
像が重なって見えるので、マスク開口が試料像上のどの
ような場所にあるかが直接分かり、マスク位置決めがや
り易くなる。
路を２分割して、試料像を二つ形成し、その一方にマス
クを置くようにし、他方をマスク位置決め専用とし、両
方の像を同時に重ねて見られるようにした装置も提案さ
れている。この装置ではマスクされた像とマスクなしの
像が重なって見えるので、マスク開口が試料像上のどの
ような場所にあるかが直接分かり、マスク位置決めがや
り易くなる。
【０００５】しかしこのように顕微鏡の光路を２分割し
て像を二つ作り、それらの像を一つに重ねて見えるよう
にするためには、幾つかの余分な光学要素が必要となっ
て装置が高価になり、また二つの像を正確に一致させて
見えるようにすることが難しいので、マスクの設定位置
に誤差が生じる。この誤差は測定領域が小さくなる程影
響が大きい。
て像を二つ作り、それらの像を一つに重ねて見えるよう
にするためには、幾つかの余分な光学要素が必要となっ
て装置が高価になり、また二つの像を正確に一致させて
見えるようにすることが難しいので、マスクの設定位置
に誤差が生じる。この誤差は測定領域が小さくなる程影
響が大きい。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は赤外顕微鏡で
光路を２分割して像を二つ形成するようなことはせず、
単一の顕微鏡光路のまゝで、試料像の全体を見ながらマ
スクの位置決めができるようにしようとするものであ
る。
光路を２分割して像を二つ形成するようなことはせず、
単一の顕微鏡光路のまゝで、試料像の全体を見ながらマ
スクの位置決めができるようにしようとするものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】顕微鏡の像面に置くマス
クを可視光に対して透明で、測定波長範囲の赤外光に対
して不透明な材料で構成した。
クを可視光に対して透明で、測定波長範囲の赤外光に対
して不透明な材料で構成した。
【０００８】
【作用】可視光に対して透明で赤外光に対して不透明な
材料としては例えば熱線吸収ガラスのようなものがあっ
て、容易に入手できる。マスクがこのような材料で出来
ているので、像面にこれを置いても可視光像の全体を見
る妨げにはならない。しかも赤外光に対しては不透明だ
から、マスクの機能を果たすことができ、従って顕微鏡
による試料像の全体を見ながらマスクの位置設定ができ
る。
材料としては例えば熱線吸収ガラスのようなものがあっ
て、容易に入手できる。マスクがこのような材料で出来
ているので、像面にこれを置いても可視光像の全体を見
る妨げにはならない。しかも赤外光に対しては不透明だ
から、マスクの機能を果たすことができ、従って顕微鏡
による試料像の全体を見ながらマスクの位置設定ができ
る。
【０００９】
【実施例】図１に本発明の一実施例を示するこの実施例
は試料透過光の測定も試料反射光の測定もできる装置で
ある。Ｇは分光された赤外光を送出する光源で、フーリ
ェ変換型赤外分光器等が用いられ図の紙面に垂直の方向
に赤外光を入射させる。１は反射測定，透過測定切替用
の可動平面鏡で、光源Ｇからの入射光束に対し４５°傾
いており、入射光束を図で上方に反射させ、或は９０°
回転させることにより下方に反射させる。上方に反射さ
せたときは、入射光は平面鏡２，凹面鏡３，光路の半分
まで挿入された平面鏡４を経て顕微鏡光学系の鏡筒Ｃを
下方に向かい、対物鏡５により反射されて試料ステージ
上の試料６上に集光される。入射光束を下方に反射させ
たときは平面鏡２’，凹面鏡３’，平面鏡４’を経て鏡
筒筒軸に沿い上方に向かって、集光鏡５’により試料６
に集光せしめられる。この光路で凹面鏡３’と平面鏡
４’との間に平面鏡１２を挿入することができるように
なっており、これを介して試料６に白熱電球１３から放
射される可視光を集光せしめ得るようになっている。
は試料透過光の測定も試料反射光の測定もできる装置で
ある。Ｇは分光された赤外光を送出する光源で、フーリ
ェ変換型赤外分光器等が用いられ図の紙面に垂直の方向
に赤外光を入射させる。１は反射測定，透過測定切替用
の可動平面鏡で、光源Ｇからの入射光束に対し４５°傾
いており、入射光束を図で上方に反射させ、或は９０°
回転させることにより下方に反射させる。上方に反射さ
せたときは、入射光は平面鏡２，凹面鏡３，光路の半分
まで挿入された平面鏡４を経て顕微鏡光学系の鏡筒Ｃを
下方に向かい、対物鏡５により反射されて試料ステージ
上の試料６上に集光される。入射光束を下方に反射させ
たときは平面鏡２’，凹面鏡３’，平面鏡４’を経て鏡
筒筒軸に沿い上方に向かって、集光鏡５’により試料６
に集光せしめられる。この光路で凹面鏡３’と平面鏡
４’との間に平面鏡１２を挿入することができるように
なっており、これを介して試料６に白熱電球１３から放
射される可視光を集光せしめ得るようになっている。
【００１０】図で７はマスクであり、試料６から反射さ
れ或は試料６を透過した光は対物鏡５によってマスク７
の位置に試料６の像を形成せしめられる。マスク７によ
り試料像が覆われ、マスク７の開口を通った光は平面鏡
８，９，凹面鏡１０を経て測光素子１１に入射せしめら
れ、測光される。このようにしてマスク７により試料像
の特定の場所の光が選択されて測光される。本発明はこ
のマスク７を可視に対して透明で、測定しようとする赤
外光に対して不透明な材料で作成する。マスク７は顕微
鏡の鏡筒Ｃの外から出入および位置調節が可能となって
いる。
れ或は試料６を透過した光は対物鏡５によってマスク７
の位置に試料６の像を形成せしめられる。マスク７によ
り試料像が覆われ、マスク７の開口を通った光は平面鏡
８，９，凹面鏡１０を経て測光素子１１に入射せしめら
れ、測光される。このようにしてマスク７により試料像
の特定の場所の光が選択されて測光される。本発明はこ
のマスク７を可視に対して透明で、測定しようとする赤
外光に対して不透明な材料で作成する。マスク７は顕微
鏡の鏡筒Ｃの外から出入および位置調節が可能となって
いる。
【００１１】マスク７と平面鏡８との間に４５°の傾き
で平面鏡１４が挿入することができるようになってい
る。可視光の観察モードでは、光路に平面鏡１４を挿入
し、この平面鏡１４で図上左方に反射された光は目視用
接眼光学系Ｉに送られ、試料の顕微鏡像が目視観察でき
るようにしてある。
で平面鏡１４が挿入することができるようになってい
る。可視光の観察モードでは、光路に平面鏡１４を挿入
し、この平面鏡１４で図上左方に反射された光は目視用
接眼光学系Ｉに送られ、試料の顕微鏡像が目視観察でき
るようにしてある。
【００１２】平面鏡１４と接眼光学系Ｉとの間の光路上
に半透明鏡１２’が挿入してある。１３’は白熱電球
で、半透明鏡１２’，１４，対物鏡５により、試料６上
に上方から可視光を集光照射するものである。試料の赤
外反射光測定を行うときは、電球１３’を点灯し、試料
を上方から可視光で照明し、反射光による試料像を接眼
光学系Ｉによって目視観察し、マスク７を動かしてマス
ク開口を試料像上の任意の場所に位置決めする。白熱電
球１３は試料の赤外透過光測定の場合に、マスク７の位
置調節のため、試料６を下方から可視光で照射するとき
の光源である。
に半透明鏡１２’が挿入してある。１３’は白熱電球
で、半透明鏡１２’，１４，対物鏡５により、試料６上
に上方から可視光を集光照射するものである。試料の赤
外反射光測定を行うときは、電球１３’を点灯し、試料
を上方から可視光で照明し、反射光による試料像を接眼
光学系Ｉによって目視観察し、マスク７を動かしてマス
ク開口を試料像上の任意の場所に位置決めする。白熱電
球１３は試料の赤外透過光測定の場合に、マスク７の位
置調節のため、試料６を下方から可視光で照射するとき
の光源である。
【００１３】マスク７は前述したように可視光に対して
透明，赤外光に対して不透明なので、赤外光はマスクの
開口部のみを通る。マスクの位置決めの際は試料の可視
光による像の全体が見えている。マスクは肉眼的には透
明であるが、赤外光に対して不透明な材料であるので、
可視域でも赤色部は透過率が低下しており、青味がかっ
た色を呈しているので、開口部も目に見えており、マス
クの開口部を試料像の目的の場所に設定することができ
るのである。
透明，赤外光に対して不透明なので、赤外光はマスクの
開口部のみを通る。マスクの位置決めの際は試料の可視
光による像の全体が見えている。マスクは肉眼的には透
明であるが、赤外光に対して不透明な材料であるので、
可視域でも赤色部は透過率が低下しており、青味がかっ
た色を呈しているので、開口部も目に見えており、マス
クの開口部を試料像の目的の場所に設定することができ
るのである。
【００１４】図２は上述したマスク材料の一例の分光透
過率特性を示す。これは熱線吸収用フィルタとして市販
されているもので、透過域は３００ｎｍから１０００ｎ
ｍまで（７５０ｎｍ以上の所では波長スケールが圧縮し
てある）で、１０００ｎｍ以上の長波長側では略完全に
不透明である。
過率特性を示す。これは熱線吸収用フィルタとして市販
されているもので、透過域は３００ｎｍから１０００ｎ
ｍまで（７５０ｎｍ以上の所では波長スケールが圧縮し
てある）で、１０００ｎｍ以上の長波長側では略完全に
不透明である。
【００１５】図３は開口の大きさを可変としたマスクの
一例を示す。１５はマスクケースで図１の７の位置に固
定される。ケース１５内には上述した材料よりなる４枚
の可動板１６，１７がある。１６，１７は夫々が２枚一
組になっており、各可動板はつまみ１８，１９により、
ケース１５内のラック，ピニオンを介して可動板１６の
組はｘ軸方向に、１７の組はｙ軸方向に４枚各独立に動
かすことができ、方形の開口部２０の大きさ及び場所を
変えることができるようになっている。
一例を示す。１５はマスクケースで図１の７の位置に固
定される。ケース１５内には上述した材料よりなる４枚
の可動板１６，１７がある。１６，１７は夫々が２枚一
組になっており、各可動板はつまみ１８，１９により、
ケース１５内のラック，ピニオンを介して可動板１６の
組はｘ軸方向に、１７の組はｙ軸方向に４枚各独立に動
かすことができ、方形の開口部２０の大きさ及び場所を
変えることができるようになっている。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、赤外顕微測定で試料の
観測位置を決めるマスクの位置設定操作が試料像の全体
を見ながら行えることで容易かつ確実になり、しかもマ
スクの挿入された可視光系と挿入されていない可視光系
を構成する必要がないから、装置構成が簡単で装置が安
価にできる。
観測位置を決めるマスクの位置設定操作が試料像の全体
を見ながら行えることで容易かつ確実になり、しかもマ
スクの挿入された可視光系と挿入されていない可視光系
を構成する必要がないから、装置構成が簡単で装置が安
価にできる。
【図１】 本発明の一実施例装置の縦断側面図。
【図２】 マスク材料の一例の分光透過率特性のグラ
フ。
フ。
【図３】 可変マスクの一例の斜視図。
Ｇ 光源 Ｃ 顕微鏡の鏡筒 Ｉ 接眼レンズ系 １ 平面鏡 ４ 平面鏡 ５ 対物鏡 ５’集光鏡 ６ 試料 ７ マスク １１ 測光素子 １３，１３’ 白熱電球 １４ 平面鏡 １５ マスクケース １６，１７ 可動板 １８，１９ つまみ ２０ マスク開口
Claims (1)
- 顕微鏡の対物鏡による像面に試料の測定部位を決めるマ
スクを配置した赤外顕微測定装置において、上記マスク
を可視光に対し透明で赤外光に対して不透明な材料で構
成したことを特徴とする赤外顕微測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6897691A JPH0572120A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 赤外顕微測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6897691A JPH0572120A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 赤外顕微測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0572120A true JPH0572120A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=13389215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6897691A Pending JPH0572120A (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 赤外顕微測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0572120A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11194276A (ja) * | 1997-12-29 | 1999-07-21 | Shimadzu Corp | 赤外顕微鏡 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02223847A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-06 | Shimadzu Corp | 赤外顕微鏡 |
| JPH03152506A (ja) * | 1989-11-09 | 1991-06-28 | Fuji Electric Co Ltd | 赤外顕微装置の視野制限絞り |
| JPH03235910A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-21 | Hitachi Ltd | 赤外顕微鏡 |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP6897691A patent/JPH0572120A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02223847A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-06 | Shimadzu Corp | 赤外顕微鏡 |
| JPH03152506A (ja) * | 1989-11-09 | 1991-06-28 | Fuji Electric Co Ltd | 赤外顕微装置の視野制限絞り |
| JPH03235910A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-21 | Hitachi Ltd | 赤外顕微鏡 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11194276A (ja) * | 1997-12-29 | 1999-07-21 | Shimadzu Corp | 赤外顕微鏡 |
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