JPH0568238B2 - - Google Patents
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- JPH0568238B2 JPH0568238B2 JP24419685A JP24419685A JPH0568238B2 JP H0568238 B2 JPH0568238 B2 JP H0568238B2 JP 24419685 A JP24419685 A JP 24419685A JP 24419685 A JP24419685 A JP 24419685A JP H0568238 B2 JPH0568238 B2 JP H0568238B2
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Landscapes
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明はサイクロデキストリンの製造法に関
し、詳しくは低基質濃度にてサイクロデキストリ
ン合成酵素を作用させることによりサイクロデキ
ストリンの生成率を著しく向上させ、生成したサ
イクロデキストリンを膜濃縮にて分離することよ
りなる実用性の高いサイクロデキストリンの製造
法である。 〔従来技術及び発明が解決しようとする問題点〕 サイクロデキストリンはグルコース6個からな
るα−サイクロデキストリン、7個のβ−サイク
ロデキストリン、8個のγ−サイクロデキストリ
ンなどの混合物より成り、それぞれのサイクロデ
キストリンの生成比率は作用するサイクロデキス
トリン生成酵素の種類等により相違する。α−サ
イクロデキストリンは水に対する溶解性が高い等
の理由から、食品化工への利用性、優れた性質を
有している。 そのため、αリツチのサイクロデキストリン製
品を経済的に得る方法が望まれている。 従来、α−サイクロデキストリン生成比率の高
い酵素としてバチルス・マセランス(Bacillus
macerans)に由来する酵素が使用されている。
しかしながら、従来は基質でんぷんを該酵素で液
化した後、酵素を失活させ、しかる後再び該酵素
を加えて環化させる方法が採用されており、基質
でんぷん濃度も10%以上が一般的である。そのた
め、β−サイクロデキストリンの生成比率が増
し、αリツチのサイクロデキストリンは得難い。
また、総サイクロデキストリン生成量も限界があ
る。 そこで、サイクロデキストリンの増収を図る方
法としてエタノール等のアルコール類または酪酸
等の有機酸またはその塩などの溶媒を反応系に添
加する方法が提案されている。これらの方法によ
りサイクロデキストリンの増収は或程度期待でき
るものの、使用した溶媒の分離、回収工程を要す
る等の新たな問題が生じている。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは、サイクロデキストリン生成酵素
によるでんぷんの液化とサイクロデキストリン生
成率について検討を重ねた結果、基質でんぷん濃
度を低下させると、サイクロデキストリン生成率
が著しく向上し、しかもでんぷんの液化反応と環
化反応を一括して行なうことが出来、従来法で必
須とされていた酵素の失活工程を省略でき、その
ため酵素使用量の低減を図ることが可能である等
の知見を得、かかる知見に基いて本発明を完成す
るに至つた。 すなわち本発明は、でんぷんまたはその組成画
分、焙焼デキストリン、化工でんぷん、でんぷん
誘導体、物理的処理でんぷんおよびα−でんぷん
よりなる群から選ばれた1種もしくは2種以上の
物質を水に加えて1〜5%濃度に調整したものに
サイクロデキストリン生産酵素を作用させて液化
した後、酵素を失活させることく引続いて環化反
応を行ない、生成したサイクロデキストリンを膜
濃縮により分離することを特徴とするサイクロデ
キストリンの製造法である。 本発明の方法に使用するでんぷんは、馬れいし
よでんぷん、甘しよでんぷん、トウモロコシでん
ぷんなど各種のものがあり、特定のでんぷんに限
定されないが、より高収率のα−サイクロデキス
トリンを求める場合には馬れいしよでんぷんが好
ましい。また、でんぷんの組成画分としては、た
とえばアミロース、アミロペクチンなどがあり、
焙焼デキストリンとしては白色デキストリン、黄
色デキストリン、ブリテイツシユガムなどがあ
る。化工でんぷんとしては酸化でんぷん、低粘性
変性(酵素、酸、機械高速撹拌等の処理による)
でんぷん等がある。さらにでんぷん誘導体として
は、たとえばリン酸でんぷん、酢酸でんぷんなど
のでんぷんエーテルやでんぷんエステルなどがあ
り、物理的処理でんぷんとしては、たとえば放射
線や中性子線を照射したり高周波処理あるいは湿
熱処理したでんぷんなどがある。本発明に用いる
でんぷん類は単独で用いてもよく、2種以上を組
合せて用いてもよい。 次に、上記でんぷんを基質としてサイクロデキ
ストリンを製造する場合の基質濃度とサイクロデ
キストリン生成率との関係について検討した。基
質のでんぷん濃度を1、3、5、7または10%と
し、サイクロデキストリン生産酵素(表中、
CGT−aseと略記した。)量をでんぷん1gあた
り6、8、10または12THU(チルデン−ハドソ
ン単位)加え、65℃で2時間撹拌しながら反応さ
せたのち液温を50℃に下げ18時間撹拌しながら反
応させ、生成したサイクロデキストリン(表中、
CDと略記した。)成分を高速液体クロマトグラフ
イーにて定量分析した。結果を第1表に示す。
し、詳しくは低基質濃度にてサイクロデキストリ
ン合成酵素を作用させることによりサイクロデキ
ストリンの生成率を著しく向上させ、生成したサ
イクロデキストリンを膜濃縮にて分離することよ
りなる実用性の高いサイクロデキストリンの製造
法である。 〔従来技術及び発明が解決しようとする問題点〕 サイクロデキストリンはグルコース6個からな
るα−サイクロデキストリン、7個のβ−サイク
ロデキストリン、8個のγ−サイクロデキストリ
ンなどの混合物より成り、それぞれのサイクロデ
キストリンの生成比率は作用するサイクロデキス
トリン生成酵素の種類等により相違する。α−サ
イクロデキストリンは水に対する溶解性が高い等
の理由から、食品化工への利用性、優れた性質を
有している。 そのため、αリツチのサイクロデキストリン製
品を経済的に得る方法が望まれている。 従来、α−サイクロデキストリン生成比率の高
い酵素としてバチルス・マセランス(Bacillus
macerans)に由来する酵素が使用されている。
しかしながら、従来は基質でんぷんを該酵素で液
化した後、酵素を失活させ、しかる後再び該酵素
を加えて環化させる方法が採用されており、基質
でんぷん濃度も10%以上が一般的である。そのた
め、β−サイクロデキストリンの生成比率が増
し、αリツチのサイクロデキストリンは得難い。
また、総サイクロデキストリン生成量も限界があ
る。 そこで、サイクロデキストリンの増収を図る方
法としてエタノール等のアルコール類または酪酸
等の有機酸またはその塩などの溶媒を反応系に添
加する方法が提案されている。これらの方法によ
りサイクロデキストリンの増収は或程度期待でき
るものの、使用した溶媒の分離、回収工程を要す
る等の新たな問題が生じている。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは、サイクロデキストリン生成酵素
によるでんぷんの液化とサイクロデキストリン生
成率について検討を重ねた結果、基質でんぷん濃
度を低下させると、サイクロデキストリン生成率
が著しく向上し、しかもでんぷんの液化反応と環
化反応を一括して行なうことが出来、従来法で必
須とされていた酵素の失活工程を省略でき、その
ため酵素使用量の低減を図ることが可能である等
の知見を得、かかる知見に基いて本発明を完成す
るに至つた。 すなわち本発明は、でんぷんまたはその組成画
分、焙焼デキストリン、化工でんぷん、でんぷん
誘導体、物理的処理でんぷんおよびα−でんぷん
よりなる群から選ばれた1種もしくは2種以上の
物質を水に加えて1〜5%濃度に調整したものに
サイクロデキストリン生産酵素を作用させて液化
した後、酵素を失活させることく引続いて環化反
応を行ない、生成したサイクロデキストリンを膜
濃縮により分離することを特徴とするサイクロデ
キストリンの製造法である。 本発明の方法に使用するでんぷんは、馬れいし
よでんぷん、甘しよでんぷん、トウモロコシでん
ぷんなど各種のものがあり、特定のでんぷんに限
定されないが、より高収率のα−サイクロデキス
トリンを求める場合には馬れいしよでんぷんが好
ましい。また、でんぷんの組成画分としては、た
とえばアミロース、アミロペクチンなどがあり、
焙焼デキストリンとしては白色デキストリン、黄
色デキストリン、ブリテイツシユガムなどがあ
る。化工でんぷんとしては酸化でんぷん、低粘性
変性(酵素、酸、機械高速撹拌等の処理による)
でんぷん等がある。さらにでんぷん誘導体として
は、たとえばリン酸でんぷん、酢酸でんぷんなど
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り、物理的処理でんぷんとしては、たとえば放射
線や中性子線を照射したり高周波処理あるいは湿
熱処理したでんぷんなどがある。本発明に用いる
でんぷん類は単独で用いてもよく、2種以上を組
合せて用いてもよい。 次に、上記でんぷんを基質としてサイクロデキ
ストリンを製造する場合の基質濃度とサイクロデ
キストリン生成率との関係について検討した。基
質のでんぷん濃度を1、3、5、7または10%と
し、サイクロデキストリン生産酵素(表中、
CGT−aseと略記した。)量をでんぷん1gあた
り6、8、10または12THU(チルデン−ハドソ
ン単位)加え、65℃で2時間撹拌しながら反応さ
せたのち液温を50℃に下げ18時間撹拌しながら反
応させ、生成したサイクロデキストリン(表中、
CDと略記した。)成分を高速液体クロマトグラフ
イーにて定量分析した。結果を第1表に示す。
本発明によれば、低基質濃度としたことにより
サイクロデキストリンの生成率が著しく向上し、
しかもα−サイクロデキストリンをβ−サイクロ
デキストリンの2倍以上の割合で得ることができ
る。また、生成したサイクロデキストリンは膜濃
縮により効率よく濃縮することができる。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例により詳しく説明する。 実施例 馬れいしよでんぷん(水分含量10%)を水で希
釈して5%濃度に調製し、マセランス酵素をでん
ぷん1g当り8THU加え、65℃で2時間撹拌し
ながら反応させた。次いで、液温を50℃に下げ18
時間撹拌しながら反応させた。反応液を高速液体
クロマトグラフイーにて分析したところ、α−サ
イクロデキストリン31.5%、β−サイクロデキス
トリン14.1%、γ−サイクロデキストリン5.7%、
総サイクロデキストリン51.3%であつた。 この反応液を、食塩除去率50%(0.2%NaCl水
溶液使用)のスパイラル型膜(合成高分子系複合
膜、NTR−7250−S2、日東電気工業(株)製)によ
る逆浸透膜法により濃縮した。 上記反後液(濃度5°Bx)を第2表に示した条
件にて通液して濃縮した。結果を第2表に示す。
サイクロデキストリンの生成率が著しく向上し、
しかもα−サイクロデキストリンをβ−サイクロ
デキストリンの2倍以上の割合で得ることができ
る。また、生成したサイクロデキストリンは膜濃
縮により効率よく濃縮することができる。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例により詳しく説明する。 実施例 馬れいしよでんぷん(水分含量10%)を水で希
釈して5%濃度に調製し、マセランス酵素をでん
ぷん1g当り8THU加え、65℃で2時間撹拌し
ながら反応させた。次いで、液温を50℃に下げ18
時間撹拌しながら反応させた。反応液を高速液体
クロマトグラフイーにて分析したところ、α−サ
イクロデキストリン31.5%、β−サイクロデキス
トリン14.1%、γ−サイクロデキストリン5.7%、
総サイクロデキストリン51.3%であつた。 この反応液を、食塩除去率50%(0.2%NaCl水
溶液使用)のスパイラル型膜(合成高分子系複合
膜、NTR−7250−S2、日東電気工業(株)製)によ
る逆浸透膜法により濃縮した。 上記反後液(濃度5°Bx)を第2表に示した条
件にて通液して濃縮した。結果を第2表に示す。
Claims (1)
- 1 でんぷんまたはその組成画分、焙焼デキスト
リン、化工でんぷん、でんぷん誘導体、物理的処
理でんぷんおよびα−でんぷんよりなる群から選
ばれた1種もしくは2種以上の物質を水に加えて
1〜5%濃度に調整したものにサイクロデキスト
リン生産酵素を作用させて液化した後、酵素を失
活させることなく引続いて環化反応を行ない、生
成したサイクロデキストリンを膜濃縮により分離
することを特徴とするサイクロデキストリンの製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24419685A JPS62104590A (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | サイクロデキストリンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24419685A JPS62104590A (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | サイクロデキストリンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62104590A JPS62104590A (ja) | 1987-05-15 |
JPH0568238B2 true JPH0568238B2 (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=17115203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24419685A Granted JPS62104590A (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | サイクロデキストリンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62104590A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0673104A (ja) * | 1992-08-25 | 1994-03-15 | Akebono Brake Res & Dev Center Ltd | β−サイクロデキストリンの製造法 |
DE19505263A1 (de) * | 1995-02-16 | 1996-08-22 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zur Reinigung von wasserlöslichen Cyclodextrinderivaten |
-
1985
- 1985-11-01 JP JP24419685A patent/JPS62104590A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62104590A (ja) | 1987-05-15 |
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