JPH0566993U - Ccdイメージセンサ - Google Patents

Ccdイメージセンサ

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Publication number
JPH0566993U
JPH0566993U JP014457U JP1445792U JPH0566993U JP H0566993 U JPH0566993 U JP H0566993U JP 014457 U JP014457 U JP 014457U JP 1445792 U JP1445792 U JP 1445792U JP H0566993 U JPH0566993 U JP H0566993U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light receiving
light
ccd
receiving element
cover glass
Prior art date
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Pending
Application number
JP014457U
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English (en)
Inventor
孝雄 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH0566993U publication Critical patent/JPH0566993U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 CCD受光素子の受光画素以外への光照射を
防止してCCDイメージセンサの信頼性を高める。 【構成】 ケーシング1に内装したCCD受光素子2の
前方に位置されるカバーガラス4の外面及び内面にそれ
ぞれ光不透過材料を蒸着形成し、CCD受光素子の受光
画素3に対応する部分に窓5aを有する薄膜マスク5,
5を設ける。カバーガラス4の外面及び内面のそれぞれ
に設けた薄膜マスク5,5のアパーチャ効果により、斜
め方向からの光が受光画素3以外に照射されることを防
止する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はCCDイメージセンサに関し、特に画素以外への光照射を防止した構 造に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のCCDイメージセンサの一例を図2に示す。同図(a)は正面図、同図 (b)はそのB−B線断面図である。箱型のケーシング1内にCCD受光素子2 が内装され、カバーガラス4で封止される。このカバーガラス4の表面には金属 製のマスク6を接着剤7で接着しており、このマスク6にはCCD受光素子2の 受光画素3に対応する部分にのみ窓6aを設けてある。この構成のCCDイメー ジセンサでは、図外のレンズ系により結像される光のうち、マスク6の窓を通し た光のみがカバーガラス4を透過してCCD受光素子2の受光画素3に照射され 、イメージ信号を出力する。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
このような従来のCCDイメージセンサでは、レンズ系からの強い光や乱反射 光をマスク6で遮光するために、CCD受光素子2では受光画素3以外の受光面 に光が照射されることはなく、得られるイメージ信号に縞模様が生じる等の画質 の劣化を防止することができる。 しかしながら、この構造では、マスク6をカバーガラス4に貼り付ける際に、 受光画素3に対して高精度に位置合わせを行う必要があるため、製造が極めて困 難になるとともに、位置ずれが生じ易く、位置ずれが生じたときには受光画素3 以外にも光が照射されることになり、所期の目的が達せられなくなる。
【0004】 又、マスクを高精度に位置決めした場合でも、カバーガラス4と受光画素3と の間隔が大きいため、CCDイメージセンサの正面に対して斜め方向から入射さ れた光がマスク6を通過した後に受光画素3以外の箇所に照射されるという問題 もある。 本考案の目的は、受光画素以外への光照射を防止して信頼性を高めたCCDイ メージセンサを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本考案は、ケーシングに内装したCCD受光素子の前面に位置されるカバーガ ラスの外面及び内面にそれぞれ光不透過材料を蒸着形成し、CCD受光素子の受 光画素に対応する部分に窓を有する薄膜マスクを設けている。
【0006】
【作用】
カバーガラスの外面及び内面のそれぞれに設けた薄膜マスクのアパーチャ効果 により、斜め方向からの光がCCD受光素子に照射されることを防止する。
【0007】
【実施例】
次に、本考案について図面を参照して説明する。図1は本考案の一実施例を示 しており、同図(a)は正面図、同図(b)はそのA−A線断面図である。同図 において、1はケーシング、2はケーシング1内に内装されたCCD受光素子、 4はこのケーシング1の開口に取着されてCCD受光素子2を封止するカバーガ ラスである。又、3は前記CCD受光素子2に設けられた受光画素である。
【0008】 前記カバーガラス4は、その表面(外面)及び裏面(内面)にそれぞれ金属等 の光不透過材料を蒸着した薄膜マスク5,5を形成している。この薄膜マスク5 は、例えばCCD受光素子2を製造する際に、受光画素3を形成する工程で用い られるフォトマスクを利用して蒸着処理を行うことで、受光画素3と同一形状で 、しかも受光画素3に対応する位置に窓5aを有するマスクとして形成すること ができる。又、カバーガラス4及び薄膜マスク5の受光画素3に対する位置決め も、光学手段を利用した位置決め装置を利用することで、受光画素3及びケーシ ング1に対して高精度に位置決めを行うことができる。
【0009】 したがって、この構成では、受光画素3に対して薄膜マスク5を高精度に位置 決めすることが可能となる。又、カバーガラス4の外面と内面の両方に薄膜マス ク5を形成しているため、これらによるアパーチャ効果によって、カバーガラス 4とCCD受光素子2の受光画素3との間隔が大きい場合でも斜め方向からの光 が受光画素3以外に照射されることが回避できる。
【0010】
【考案の効果】
以上説明したように本考案は、カバーガラスの外面と内面の両方に蒸着形成し た薄膜マスクを設け、これらマスクでCCD受光素子への光照射を規制している ので、マスクを高精度に製造できるとともに、薄膜マスクのアパーチャ効果によ ってCCD受光素子に対して斜め方向から光が照射されることはなく、受光画素 以外への光照射を有効に防止することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示し、(a)は正面図、
(b)はそのA−A線断面図である。
【図2】従来のCCDイメージセンサの一例を示し、
(a)は正面図、(b)はそのB−B線断面図である。
【符号の説明】
1 ケーシング 2 CCD受光素子 3 受光画素 4 カバーガラス 5 薄膜マスク

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ケーシングに内装したCCD受光素子
    を、ケーシングに取着したカバーガラスで封止してなる
    CCDイメージセンサにおいて、前記カバーガラスの外
    面及び内面にそれぞれ光不透過材料を蒸着形成し、CC
    D受光素子の受光画素に対応する部分に窓を有する薄膜
    マスクを設けたことを特徴とするCCDイメージセン
    サ。
JP014457U 1992-02-15 1992-02-15 Ccdイメージセンサ Pending JPH0566993U (ja)

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JP014457U JPH0566993U (ja) 1992-02-15 1992-02-15 Ccdイメージセンサ

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JPH0566993U true JPH0566993U (ja) 1993-09-03

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014142644A (ja) * 2014-02-12 2014-08-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
JP2016015479A (ja) * 2014-06-09 2016-01-28 Hoya Candeo Optronics株式会社 光学素子

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JP2014142644A (ja) * 2014-02-12 2014-08-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
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